-
公开(公告)号：CN101790786B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200880104506.X
申请日：2008-08-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: H01L21/67103 , H01L21/68742 , H01L21/68792
Abstract: 本发明提供一种载置台结构，可以防止在载置台中产生很大的热应力，防止该载置台自身发生破损，并且可以抑制防腐蚀用的吹扫气体的供给量。载置台结构(54)，设于处理装置(20)的处理容器(22)内，用于载置应当处理的被处理体(W)，该载置台结构(54)具备：设有加热机构(64)的由电介质构成的载置台(58)；从上述处理容器的底部侧向上方延伸、可以拆装地支承上述载置台(58)的由电介质构成的圆筒状的支柱(56)。在上述载置台(58)的下面，接合有具有比上述支柱的直径小的直径的由电介质构成的圆筒状的保护管(60)。在上述保护管(60)内插过功能棒体(62)，该功能棒体(62)有具有达到上述载置台(58)的上端。
-
-
-
公开(公告)号：CN113140481A
公开(公告)日：2021-07-20
申请号：CN202110016234.5
申请日：2021-01-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/205
Abstract: 本发明提供处理基板的装置和处理基板的方法。在基板处理装置中，减小处理腔室的非加热状态和加热状态下的载物台与载物台周边构件之间的位置偏移。在将载物台周边构件设置于处理腔室时，利用配置在靠近基准位置的位置的第1定位销使载物台周边构件相对于处理腔室固定。另一方面，从基准位置观察位于比第1定位销远的位置的第2定位销插入于第2孔部，该第2孔部沿着该第2定位销的移动的方向而形成为长孔形状。利用该结构，将处理腔室从非加热状态切换到加热状态时的载物台周边构件的位置偏移被抑制到第1定位销的移动量的程度，能够减小位置偏移尺寸。
-
公开(公告)号：CN102593036A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201210069433.3
申请日：2009-03-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/687 , H01L21/67
CPC classification number: H01L21/68757 , H01L21/67248 , H01L21/68792
Abstract: 本发明提供载置台构造以及处理装置，能防止对载置台产生大的热应力，防止该载置台自身破损，并且能抑制防止腐蚀用的吹扫气体的供给量。本发明涉及设置在能够排出内部的气体的处理容器(22)内，用于载置被处理体(W)的载置台构造(54)。该载置台构造(54)具备：载置被处理体(W)，由电介质构成的载置台(58)；设于载置台(58)，加热载置于载置台(58)的被处理体(W)的加热单元(64)；由电介质构成的多个保护支柱管(60)，它们以相对处理容器(22)的底部(44)竖立的方式设置，上端部与载置台(58)的下表面接合来支承载置台(58)。另外，在各保护支柱管(60)内插通有延伸到载置台的功能棒体(62)。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101785089B
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN200880104007.0
申请日：2008-08-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/31 , B23K20/08 , C23C16/448
CPC classification number: B23K20/08 , C23C16/4486
Abstract: 本发明提供一种构造简单且能够使热效率提高的汽化器。汽化器(8)具备：雾状地喷出液体原料的喷嘴单元(72)；具有使原料雾汽化形成原料气体的多个汽化通路(74)的汽化单元(76)；和向后段送出原料气体的排出头(78)。汽化单元具备：形成有汽化通路的汽化单元主体(108)；收纳汽化单元主体(108)的主体收纳容器(110)；对通过汽化通路的原料雾进行加热的加热器(112)；和设置在主体收纳容器的两端部的连接部件(114、116)。汽化单元主体和主体收纳容器由热传导性比连接部件的构成材料高的材料形成。主体收纳容器的端部与连接部件通过爆炸而接合。
-
公开(公告)号：CN102016116A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200980116734.3
申请日：2009-06-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/448 , H01L21/31
CPC classification number: H01L21/31645 , C23C16/4481 , H01J37/3244 , H01L21/31641
Abstract: 本发明提供一种气化器及使用该气化器的成膜装置，该气化器能够防止液体原料的排出口因附着物而堵塞。气化器(300)使从喷嘴(320)的排出口(322)排出的液体原料在被加热的气化室(360)内气化而生成原料气体，该气化器(300)包括：在喷嘴的前端部(323)与气化室之间按照覆盖排出口的周围的方式设置的筒形状的被加热部件(340)；从排出口的附近喷出载气的载气喷出口(326)；使从排出口排出的液体原料与载气混合后向气化室喷出的混合室(344)；从气化室的外侧加热气化室的第一加热部(加热器(392、394))；和从被加热部件的外侧加热被加热部件的第二加热部(加热器(342))。
-
公开(公告)号：CN101533797A
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200910118179.X
申请日：2009-03-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 田中澄
IPC: H01L21/687 , H01L21/00 , H01L21/324
Abstract: 本发明提供一种载置台构造，即使被处理体与夹紧环部件接触，也能够提高被处理体的面内温度的均一性，提高热处理的面内均一性。在处理容器(4)内为了对被处理体(W)实施规定的热处理而载置被处理体的载置台构造中，包括：载置台(32)，其由透明材料构成，在内部收容有加热被处理体的加热单元(38)；均热板(42)，其由不透明材料构成，设置在载置台的上表面，并且其直径设定得比载置台的直径小，在上表面直接载置被处理体；和夹紧机构(50)，其能够升降地设置在载置台的周边部的上方，具有向载置台侧挤压被处理体的由不透明材料构成的夹紧环部件(48)。
-
公开(公告)号：CN101515541A
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200910126384.0
申请日：2005-10-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/324 , H01L21/687
CPC classification number: H01L21/68792 , H01L21/67109
Abstract: 本发明提供一种为了大幅降低颗粒的产生量而进行改良后的基板旋转装置、以及具备该基板旋转装置的基板处理装置。基板处理装置，其特征在于，包括：间隔用于处理基板的处理空间的处理容器；在所述处理容器内支承所述基板的基板支承体；直接或间接地连接在所述基板支承体上、由陶瓷材料形成的从动旋转体；和在所述处理容器内，经由缓冲部件与所述从动旋转体接触，支撑所述从动旋转体并且旋转驱动所述从动旋转体的，由陶瓷材料形成的驱动旋转体。
-
公开(公告)号：CN100527379C
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200580028801.8
申请日：2005-10-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/68792 , H01L21/67109
Abstract: 本发明提供一种为了大幅降低颗粒的产生量而进行改良后的基板旋转装置、以及具备该基板旋转装置的基板处理装置。基板旋转装置包括：直接或者间接地连接在基板支承体上的从动旋转体、例如从动环；和在与可动部件接触的状态下，进行旋转从而旋转驱动上述从动旋转体的驱动旋转体、例如，驱动转子。从动旋转体和驱动旋转体，由JIS R1607标准规定的破坏韧性的值以及/或者JIS R1601标准规定的三点弯曲强度的值不同的陶瓷材料构成。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
55
records
(took 0.043 seconds)
