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公开(公告)号：CN106206378A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201610591115.1
申请日：2013-06-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/687 , H01L51/56
CPC classification number: H01L51/0026 , H01L21/67161 , H01L21/67748 , H01L21/68742
Abstract: 本发明公开了一种减压干燥装置，其对利用喷墨打印装置形成于基板上的有机材料膜进行减压干燥处理，该减压干燥装置具有：耐压容器，其构成为能够在大气压状态和真空状态之间切换；冷却板，其对容纳于上述耐压容器的内部的上述基板进行冷却；以及多个可动销，其以能够相对于上述冷却板的表面突出或没入的方式设置，用于在冷却上述基板的期间以上述基板与上述冷却板的表面分开的状态支承上述基板。
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公开(公告)号：CN101681867B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200880018879.5
申请日：2008-05-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/205 , H01L21/26
CPC classification number: H01L21/68792 , C23C14/505 , H01J37/32761
Abstract: 本发明通过悬浮用电磁铁组件(F)的磁吸引力，使支撑被处理体(W)的旋转悬浮体(30)悬浮，通过位置用电磁铁组件(H)的磁吸引力控制旋转悬浮体(30)的水平方向位置，同时通过旋转电磁铁组件(R)的磁吸引力使旋转悬浮体(30)旋转。悬浮用电磁铁组件(F)使磁吸引力向垂直方向下方作用，以非接触地悬吊在处理容器(2)的内壁的方式，使旋转悬浮体(30)悬浮。
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公开(公告)号：CN106206378B
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201610591115.1
申请日：2013-06-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/687 , H01L51/56
Abstract: 本发明公开了一种减压干燥装置，其对利用喷墨打印装置形成于基板上的有机材料膜进行减压干燥处理，该减压干燥装置具有：耐压容器，其构成为能够在大气压状态和真空状态之间切换；冷却板，其对容纳于上述耐压容器的内部的上述基板进行冷却；以及多个可动销，其以能够相对于上述冷却板的表面突出或没入的方式设置，用于在冷却上述基板的期间以上述基板与上述冷却板的表面分开的状态支承上述基板。
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公开(公告)号：CN102649547A
公开(公告)日：2012-08-29
申请号：CN201210042950.1
申请日：2012-02-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/162
Abstract: 本发明提供一种碳纳米管的形成方法，其以极低的温度形成在被处理体上以近似垂直的状态取向的高密度的碳纳米管。碳纳米管的形成方法具备以下工序：在温度T1下使氧等离子体作用于催化剂金属层，形成表面被氧化的催化剂金属微粒的工序(STEP1)；在比温度T1高的温度T2下使氢等离子体作用于催化剂金属微粒，将催化剂金属微粒的表面还原而进行活化的工序(STEP2)；和在温度T3下利用热CVD法在经活化的催化剂金属微粒上使碳纳米管生长的工序(STEP3)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104488358B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201380039479.3
申请日：2013-06-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L51/0026 , H01L21/67161 , H01L21/67748 , H01L21/68742
Abstract: 烘焙处理系统(100)包括：真空烘焙装置((VB)1)，其用于以大气压以下的压力对利用外部的喷墨打印装置((IJ)200)形成于基板(S)上的有机材料膜进行焙烧；输送装置(11)，其用于将基板(S)向真空烘焙装置((VB)1)输送；输送室((TR)10)，其能抽成真空，用于容纳输送装置(11)；加载互锁装置((LL)20)，其构成为能够在大气压状态和真空状态之间切换；以及输送装置(31)，其配置于基板输送路径中的位于喷墨打印装置((IJ)200)和加载互锁装置((LL)20)之间的部分，用于进行基板(S)的交接。
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公开(公告)号：CN102712477A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201180005724.X
申请日：2011-04-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C01B31/02 , C23C16/26 , H01L21/285 , H01L21/3205 , H01L23/52
CPC classification number: C23C16/503 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/16 , C23C16/26 , C23C16/4412 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/511 , H01L21/28556 , H01L21/76879 , H01L23/5226 , H01L23/53276 , H01L2221/1094 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 准备在表面具有一个或多个开口部、在该开口部底面形成有催化剂金属层的被处理体（步骤1）。对催化剂金属层实施氧等离子体处理（步骤2），再对催化剂金属层实施氢等离子体处理，将催化剂金属层的表面活化（步骤3）。然后，根据需要进行吹扫处理（步骤4）之后，在催化剂金属层上由等离子体CVD使碳纳米管生长，以碳纳米管将被处理体的开口部内填充（步骤5）。
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公开(公告)号：CN104488358A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201380039479.3
申请日：2013-06-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L51/0026 , H01L21/67161 , H01L21/67748 , H01L21/68742
Abstract: 烘焙处理系统(100)包括：真空烘焙装置(VB)1)，其用于以大气压以下的压力对利用外部的喷墨打印装置(IJ)200)形成于基板(S)上的有机材料膜进行焙烧；输送装置(11)，其用于将基板(S)向真空烘焙装置(VB)1)输送；输送室(TR)10)，其能抽成真空，用于容纳输送装置(11)；加载互锁装置(LL)20)，其构成为能够在大气压状态和真空状态之间切换；以及输送装置(31)，其配置于基板输送路径中的位于喷墨打印装置(IJ)200)和加载互锁装置(LL)20)之间的部分，用于进行基板(S)的交接。
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公开(公告)号：CN102473670A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080033137.7
申请日：2010-07-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , C23C14/50 , C23C16/458 , H01L21/205 , H01L21/22 , H01L21/26 , H01L21/3065
CPC classification number: H01L21/68792
Abstract: 本发明涉及一种处理装置，对被处理体实施规定的处理，其特征在于，包括：能排气的处理容器；配置在所述处理容器内、在上端侧支撑所述被处理体的由非磁性材料构成的旋转浮体；在所述旋转浮体上沿其周方向以规定间隔设置的由磁性材料构成的多个旋转XY用吸附体；在所述旋转浮体上沿其周方向设置的由磁性材料构成的环状的浮起用吸附体；设置在所述处理容器的外侧、在所述浮起用吸附体上向着垂直方向上方作用磁吸引力，调整所述旋转浮体的斜率并使其浮起的浮起用电磁铁组；设置在所述处理容器的外侧使磁吸引力作用在所述旋转XY用吸附体上、在水平方向进行所述浮起的所述旋转浮体的位置调整并使其旋转的旋转XY用电磁铁组；向所述处理容器内供给必要的气体的气体供给单元；对所述被处理体实施规定的处理的处理机构；和对装置整体的动作进行控制的装置控制部。
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公开(公告)号：CN101681867A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880018879.5
申请日：2008-05-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/205 , H01L21/26
CPC classification number: H01L21/68792 , C23C14/505 , H01J37/32761
Abstract: 本发明通过悬浮用电磁铁组件(F)的磁吸引力，使支撑被处理体(W)的旋转悬浮体(30)悬浮，通过位置用电磁铁组件(H)的磁吸引力控制旋转悬浮体(30)的水平方向位置，同时通过旋转电磁铁组件(R)的磁吸引力使旋转悬浮体(30)旋转。悬浮用电磁铁组件(F)使磁吸引力向垂直方向下方作用，以非接触地悬吊在处理容器(2)的内壁的方式，使旋转悬浮体(30)悬浮。
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