公开(公告)号：CN102017096B

公开(公告)日：2012-12-26

申请号：CN200980113887.2

申请日：2009-09-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 辻德彦 ,  诸井政幸 ,  泽地淳 ,  河东进

IPC: H01L21/31 ,  C23C16/455

CPC classification number: C23C16/45544 ,  B29C66/71 ,  C23C16/45517 ,  C23C16/45527 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/45563 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02197 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/3141 ,  H01L21/31608 ,  H01L21/31691

Abstract: 一种成膜装置，通过在真空容器内，多次执行交替地供给第一反应气体和第二反应气体并排气的循环，而在基板的表面将薄膜成膜，其特征在于，具有：设置在上述真空容器内、各自包含基板的载置区域的多个下部件；与上述多个下部件分别对置地设置，在与上述载置区域之间形成处理空间的多个上部件；用于向上述处理空间内供给气体的、第一反应气体供给部、第二反应气体供给部；以及用于在供给上述第一反应气体的时刻和供给第二反应气体的时刻之间供给吹扫气体的吹扫气体供给部；沿上述处理空间的周向形成，用于连通该处理空间内和作为该处理空间的外部的上述真空容器内的环境气氛的排气用开口部；用于将上述处理空间经由上述排气用开口部以及上述真空容器内的环境气氛进行真空排气的真空排气机构。

公开(公告)号：CN1885490A

公开(公告)日：2006-12-27

申请号：CN200610093184.6

申请日：2006-06-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河东进 ,  小松智仁 ,  望月隆

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/203 ,  H01L21/205 ,  C23C14/00 ,  C23C16/00 ,  C30B25/14

Abstract: 本发明提供一种将中空状的脚部内维持在不发生放电的压力气氛，能防止馈电线之间放电的载置台装置。载置台装置安装结构为将载置台装置安装在可抽真空的处理容器内，该载置台装置具有：设置有加热机构的载置台；支撑它的中空状的脚部；和连接加热机构的馈电线等，该载置台装置安装结构具有：在形成在处理容器底部的开口部上、以密封该开口部的方式设置的底部安装台；设置在脚部的下端部与底部安装台之间、由软质金属材料构成的金属密封部件；将脚部下端部固定在底部安装台侧的固定机构；将惰性气体供给脚部内，使其为馈电线之间不发生放电的压力气氛的惰性气体供给机构；和用于对脚部内气氛一边限制其流量、一边使其排出的脚部内气氛排气机构。

公开(公告)号：CN100440425C

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：CN200610093184.6

申请日：2006-06-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河东进 ,  小松智仁 ,  望月隆

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/203 ,  H01L21/205 ,  C23C14/00 ,  C23C16/00 ,  C30B25/14

Abstract: 本发明提供一种将中空状的脚部内维持在不发生放电的压力气氛，能防止馈电线之间放电的载置台装置。载置台装置安装结构为将载置台装置安装在可抽真空的处理容器内，该载置台装置具有：设置有加热机构的载置台；支撑它的中空状的脚部；和连接加热机构的馈电线等，该载置台装置安装结构具有：形成在处理容器底部的开口部上、以密封该开口部的方式设置的底部安装台；设置在脚部的下端部与底部安装台之间、由软质金属材料构成的金属密封部件；将脚部下端部固定在底部安装台侧的固定机构；惰性气体供给机构，将惰性气体供给脚部内，使脚部内成为馈电线之间不发生放电的压力气氛；和用于对脚部内气体一边限制其流量、一边使其排出的脚部内气体排气机构。

公开(公告)号：CN1742113A

公开(公告)日：2006-03-01

申请号：CN200480002736.7

申请日：2004-02-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河西繁 ,  河东进 ,  小松智仁 ,  齐藤哲也 ,  田中澄

IPC: C23C16/458 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/45521 ,  C23C16/455

Abstract: 本发明的真空处理装置具有以下部件：具有底部且可真空排气的处理容器；设置在所述处理容器内的载置台；对载置台上的基板进行加热的加热部；向处理容器内供给处理气体的处理气体供给部；包围载置台和处理容器底部之间的空间，使该空间与处理容器内的处理空间隔离的隔离部；向由隔离部包围的空间内供给清洗气体的清洗气体供给部；从由隔离部包围的空间内对清洗气体进行排气的清洗气体排气部；应调整由隔离部包围的空间内的压力，控制清洗气体供给部及/或清洗气体排气部的控制部；和贯通处理容器底部，插入由所述隔离部包围的空间内，并具有与载置台接触的前端部的温度检测部，隔离部具有与处理容器底部面接触的下端部，控制部将被隔离部包围的空间内的压力调整到比处理容器内的处理空间内的压力高。

公开(公告)号：CN102017096A

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：CN200980113887.2

申请日：2009-09-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 辻德彦 ,  诸井政幸 ,  泽地淳 ,  河东进

IPC: H01L21/31 ,  C23C16/455

CPC classification number: C23C16/45544 ,  B29C66/71 ,  C23C16/45517 ,  C23C16/45527 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/45563 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02197 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/3141 ,  H01L21/31608 ,  H01L21/31691

Abstract: 一种成膜装置，通过在真空容器内，多次执行交替地供给第一反应气体和第二反应气体并排气的循环，而在基板的表面将薄膜成膜，其特征在于，具有：设置在上述真空容器内、各自包含基板的载置区域的多个下部件；与上述多个下部件分别对置地设置，在与上述载置区域之间形成处理空间的多个上部件；用于向上述处理空间内供给气体的、第一反应气体供给部、第二反应气体供给部；以及用于在供给上述第一反应气体的时刻和供给第二反应气体的时刻之间供给吹扫气体的吹扫气体供给部；沿上述处理空间的周向形成，用于连通该处理空间内和作为该处理空间的外部的上述真空容器内的环境气氛的排气用开口部；用于将上述处理空间经由上述排气用开口部以及上述真空容器内的环境气氛进行真空排气的真空排气机构。

公开(公告)号：CN1742113B

公开(公告)日：2010-05-05

申请号：CN200480002736.7

申请日：2004-02-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河西繁 ,  河东进 ,  小松智仁 ,  齐藤哲也 ,  田中澄

IPC: C23C16/458 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/45521 ,  C23C16/455

Abstract: 本发明的真空处理装置具有以下部件：具有底部且可真空排气的处理容器；设置在所述处理容器内的载置台；对载置台上的基板进行加热的加热部；向处理容器内供给处理气体的处理气体供给部；包围载置台和处理容器底部之间的空间，使该空间与处理容器内的处理空间隔离的隔离部；向由隔离部包围的空间内供给清洗气体的清洗气体供给部；从由隔离部包围的空间内对清洗气体进行排气的清洗气体排气部；应调整由隔离部包围的空间内的压力，控制清洗气体供给部及/或清洗气体排气部的控制部；和贯通处理容器底部，插入由所述隔离部包围的空间内，并具有与载置台接触的前端部的温度检测部，隔离部具有与处理容器底部面接触的下端部，控制部将被隔离部包围的空间内的压力调整到比处理容器内的处理空间内的压力高。

公开(公告)号：CN300694125D

公开(公告)日：2007-09-26

申请号：CN200630181747.8

申请日：2006-11-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 河东进 ,  齐藤哲也