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公开(公告)号:CN109429491B
公开(公告)日:2021-07-27
申请号:CN201880002417.8
申请日:2018-06-22
Applicant: 株式会社弘辉
Inventor: 内田令芳
IPC: B23K35/363
Abstract: 本发明的课题为提供一种即便在高温时活性仍不容易低落且也能够抑制发生迁移的助焊剂及焊接材料。本发明涉及一种含有含2个以上的羧基的异三聚氰酸衍生物的助焊剂等。
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公开(公告)号:CN111836695A
公开(公告)日:2020-10-27
申请号:CN201980018200.0
申请日:2019-03-08
IPC: B23K35/363 , B23K1/00 , B23K1/008 , B23K35/26 , C22C13/00
Abstract: 本发明提供一种不含还原剂及活性剂,且可使焊接接合部成为无残渣的助焊剂,以及使用该助焊剂的焊膏。本发明的助焊剂含有:第一溶剂,在氮流量每分钟0.2至0.3L、升温速度每分钟10℃的热重测定中,当质量成为0时的温度为180℃以上且未满260℃;第二溶剂,在氮流量每分钟0.2至0.3L、升温速度每分钟10℃的热重测定中,当质量成为0时的温度为100℃以上且未满220℃;及脂肪酰胺。第一溶剂的含量较第二溶剂的含量少。该助焊剂不含用以还原除去焊料的表面氧化膜的还原剂、及用以提升还原性的活性剂,且该助焊剂与焊料粉末的混合物可成为焊膏。
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公开(公告)号:CN107614190A
公开(公告)日:2018-01-19
申请号:CN201680030398.0
申请日:2016-10-25
Applicant: 株式会社弘辉
IPC: B23K35/363
CPC classification number: B23K35/3615 , B23K35/0244 , B23K35/262 , B23K35/362
Abstract: 提供提高回流焊时的焊料组合物的润湿性、并且能够抑制由回流焊导致的活化剂的残渣色的浓化的助焊剂。本发明的助焊剂含有胺化合物、或氨基酸化合物中的至少一者作为活化剂,所述胺化合物具备至少一个经乙酰化的氨基,所述氨基酸化合物具备至少一个经乙酰化的氨基。
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公开(公告)号:CN111836695B
公开(公告)日:2022-06-24
申请号:CN201980018200.0
申请日:2019-03-08
IPC: B23K35/363 , B23K1/00 , B23K1/008 , B23K35/26 , C22C13/00
Abstract: 本发明提供一种不含还原剂及活性剂,且可使焊接接合部成为无残渣的助焊剂,以及使用该助焊剂的焊膏。本发明的助焊剂含有:第一溶剂,在氮流量每分钟0.2至0.3L、升温速度每分钟10℃的热重测定中,当质量成为0时的温度为180℃以上且未满260℃;第二溶剂,在氮流量每分钟0.2至0.3L、升温速度每分钟10℃的热重测定中,当质量成为0时的温度为100℃以上且未满220℃;及脂肪酰胺。第一溶剂的含量较第二溶剂的含量少。该助焊剂不含用以还原除去焊料的表面氧化膜的还原剂、及用以提升还原性的活性剂,且该助焊剂与焊料粉末的混合物可成为焊膏。
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公开(公告)号:CN113766992B
公开(公告)日:2022-06-10
申请号:CN202080031873.2
申请日:2020-06-26
Applicant: 株式会社弘辉
IPC: B23K35/363
Abstract: 本发明的助焊剂为一种用于软钎焊的无卤素的助焊剂,所述助焊剂含有:包含利用差热分析所得的一个或多个吸热峰均在130~200℃的范围内被观察到的聚酰胺化合物的触变剂、和包含异氰脲酸衍生物的活性剂,前述异氰脲酸衍生物的含量相对于助焊剂整体为5.0质量%以下。
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公开(公告)号:CN110475644A
公开(公告)日:2019-11-19
申请号:CN201780089223.1
申请日:2017-10-02
Applicant: 株式会社弘辉
Inventor: 古泽光康
IPC: B23K35/363 , H05K3/34
Abstract: 助焊剂包含:至少1种的具有1个以上羟基、且在常温下为液体的液体溶剂;以及至少2种的具有1个以上羟基、且在常温下为固体的固体溶剂,各固体溶剂的含量相对于前述液体溶剂和前述固体溶剂的总计含量低于40质量%。
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公开(公告)号:CN107107278B
公开(公告)日:2019-09-03
申请号:CN201680004703.9
申请日:2016-02-05
Applicant: 株式会社弘辉
IPC: B23K35/363 , B23K35/26 , C22C13/00
Abstract: 本发明提供一种助焊剂用活性剂,其包含下述通式(1)(式中,X1、X2为不同的卤素原子,R1、R2分别为通式‑OH、‑O‑R3、‑O‑C(=O)‑R4或‑O‑C(=O)‑NH‑R5中的任一者所示的基团,R1、R2可以为相同的基团,也可以为不同的基团,R3、R4、R5分别为碳原子数1~18的芳香族烃基或碳原子数1~18的脂肪族烃基,R3、R4、R5可以为相同的基团,也可以为不同的基团。)所示的卤素化合物。
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