-
公开(公告)号：CN109477221A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201780036633.X
申请日：2017-06-16
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C16/505 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H05H1/46
Abstract: 课题：提供一种能够实现缩短返回电流路径和确保对称性的等离子体处理装置。解决手段：本发明的一实施方式涉及的等离子体处理装置具备腔室主体、载物台、高频电极、多个接地部件、可动单元。上述腔室主体具有侧壁，所述侧壁的一部分包括能够使基板通过的开口部。上述多个接地部件配置在上述载物台的周围，电连接上述侧壁与上述载物台之间。上述可动单元具有支撑体，所述支撑体支撑作为上述多个接地部件的一部分的第一接地部件。上述可动单元构成为，能够使上述支撑体在上述第一接地部件间隔上述开口部而与上述开口部的内周面对置的第一位置和上述第一接地部件电连接于上述内周面的第二位置之间移动。
-
公开(公告)号：CN110268091B
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN201880010348.5
申请日：2018-02-20
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明的成膜方法通过将液状的树脂材料喷雾到加热部并气化，并且将经气化的蒸气供给到基板上而形成树脂材料膜，所述成膜方法以补偿所述树脂材料的气化率的方式控制成膜条件，所述树脂材料的气化率与作为供给到所述加热部的所述树脂材料的量的合计的气化累计量相应地减少。
-
公开(公告)号：CN113039308A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN201980075217.X
申请日：2019-12-20
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明涉及一种成膜装置，具有：具有成膜室的腔室、支承基板的工作台、光源单元、气体供给部以及加热部。上述光源单元具有照射能量射线的照射源，并且与所述成膜室相向地配置。上述气体供给部具有喷淋板和气体扩散室。上述喷淋板使上述能量射线进行透射，包括与上述光源单元相向的第一面、与上述工作台相向的第二面以及贯通上述第一面和上述第二面的多个贯通孔。上述气体扩散室面向上述第一面并使含有受到上述能量射线的照射而固化的能量射线固化树脂的原料气体扩散。上述气体供给部将上述原料气体从上述气体扩散室供给至上述成膜室。上述加热部加热上述喷淋板的上述第一面。
-
公开(公告)号：CN112334595A
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN201980043138.0
申请日：2019-08-29
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种以良好的膜厚分布在基板上形成树脂层的成膜装置。在成膜装置中，冷却台具有支承基板的支承面和与支承面相连的侧面部，构成为被支承面支承的上述基板的外周端从侧面部突出。防附着框部为环状，配置成包围冷却台的侧面部，在与基板的上述外周端相向的位置设有凹部，侧面部被凹部包围。气体供给部向支承面供给含有能量束固化树脂的原料气体。照射源与支承面相向，并向上述支承面照射使能量束固化树脂固化的能量束。真空槽容纳有冷却台、防附着框部、气体供给部以及照射源。
-
公开(公告)号：CN105284186A
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201480032156.6
申请日：2014-05-21
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: H01L51/5253 , H01L51/004 , H01L51/5246 , H01L51/56 , H01L2251/301
Abstract: 本发明提供一种能够抑制氧气、水分等侵入到元件内部的元件结构体及其制造方法。本发明的一个实施方式所涉及的元件结构体(10)具有基板(2)(基体)、器件层(3)、第1无机材料层(41)(凸部)以及第1树脂材料部(51)。基体(2)具有第1表面(2a)和位于与第1表面(2a)相反一侧的第2表面(2c)。器件层(3)至少配置在第1表面(2a)和第2表面(2c)中的第1表面(2a)上。第1无机材料层(41)形成于第1表面(2a)上。第1树脂材料部(51)形成在第1无机材料层(41)的周围。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104067692A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201280067681.2
申请日：2012-10-30
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: H01L51/5246 , H01L51/5253
Abstract: 本发明提供一种保护元件免受氧气、水分等的侵害，能够抑制元件劣化等的元件结构体以及元件结构体的制造方法。元件结构体(1)具有基板(2)、器件层(3)、第1保护层(4)、第2保护层(5)以及密封层(6)。器件层(3)形成于基板2上的第1区域(11)。第1保护层(4)由无机物构成，具有形成于器件层(3)周围的第1边缘部(4A)，覆盖器件层(3)，形成于基板(2)上包含第1区域(11)的第2区域(12)。第2保护层(5)由有机物构成，形成于第1保护层(4)上与第2区域(12)相对应的第3区域(13)。密封层(6)由无机物构成，具有形成于第1边缘部(4A)与第2保护层(5)周围的第2边缘部(6A)，覆盖第2保护层(5)，形成于基板(2)上包含第2区域(12)的第4区域(14)。
-
公开(公告)号：CN102947481A
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：CN201080067571.7
申请日：2010-06-21
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/50
CPC classification number: C23C16/4585 , H01L21/68707 , H01L21/68742
Abstract: 提供在真空中使基板迅速反转的技术。本发明的基板反转装置（20）具有：在作为真空槽的腔室（21）内使基板（50）升降的升降机构（60）；具有以夹持基板（50）的方式保持基板的把持部（41a、42a）的基板保持机构（4A～4D）；以及使基板保持机构（4A～4D）的把持部（41a、42a）旋转来使基板（50）的上下关系反转的基板旋转机构（30）。在本发明中，在保持基板（50）的状态下，使基板旋转机构（30）以沿水平方向延伸的直线为旋转轴旋转180°。
-
公开(公告)号：CN112334595B
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN201980043138.0
申请日：2019-08-29
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种以良好的膜厚分布在基板上形成树脂层的成膜装置。在成膜装置中，冷却台具有支承基板的支承面和与支承面相连的侧面部，构成为被支承面支承的上述基板的外周端从侧面部突出。防附着框部为环状，配置成包围冷却台的侧面部，在与基板的上述外周端相向的位置设有凹部，侧面部被凹部包围。气体供给部向支承面供给含有能量束固化树脂的原料气体。照射源与支承面相向，并向上述支承面照射使能量束固化树脂固化的能量束。真空槽容纳有冷却台、防附着框部、气体供给部以及照射源。
-
公开(公告)号：CN112424389A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201980043051.3
申请日：2019-09-10
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明的一个方式涉及的成膜装置具有腔室、工作台、光源单元、气体供给部以及清洗单元。所述腔室具有：腔室主体，其具有成膜室；顶板，其安装在所述腔室主体，具有窗部。所述工作台配置在所述成膜室，具有支承基板的支承面。所述光源单元设置在所述顶板，具有经由所述窗部向所述支承面照射能量束的照射源。所述气体供给部将原料气体供给至所述成膜室，所述原料气体包含受所述能量束的照射而固化的能量束固化树脂。所述清洗单元连接至所述腔室，向所述成膜室导入清洗气体，所述清洗气体去除附着在所述顶板、腔室的所述能量束固化树脂。
-
公开(公告)号：CN107636192B
公开(公告)日：2020-12-18
申请号：CN201680031933.4
申请日：2016-06-07
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种能够稳定地形成具有所期望的膜质和图案形状的树脂层的成膜方法和成膜装置。本发明一方式所涉及的成膜方法在维持在减压气氛的腔室内，将基板(W)冷却到第1温度以下，从气体供给部(13)向基板(W)的表面供给原料气体(G)，其中所述原料气体(G)含有能量线硬化性树脂，且在上述第1温度以下能够液化，将掩膜部件(16)与基板(W)的表面相向配置，其中所述掩膜部件(16)被维持在比上述第1温度高的第2温度，且具有规定的开口图案，向基板(W)的表面照射能量线。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
23
records
(took 0.04 seconds)
