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公开(公告)号：CN101889339B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200880120677.1
申请日：2008-12-09
Applicant: 株式会社爱发科
Inventor： 远山佳宏
IPC: H01L21/677 , B65G49/06
CPC classification number: H01L21/6838 , B65G49/061 , B65G49/064 , B65G49/068 , B65G2249/02 , B65G2249/04 , B65G2249/045 , H01L21/68764 , H01L21/68771 , H01L21/68785
Abstract: 一种使将基板以垂直状态传送的托架轻量化的基板传送装置。基板传送装置(11)向以垂直状态传送平板状的基板(W)的托架(23)交接基板，该基板传送装置(11)具备转移机构(22)。转移机构(22)包括：具有矩形的框体的、能以沿水平方向延伸的转动轴(L)为中心转动的框架(37)；设置在所述框架上，吸附所述基板(W)的多个吸垫(46)；和使所述框架在水平状态和垂直状态之间转动的驱动部(35)。转移机构(22)在框架处于水平状态的情况下通过多个吸垫将处于水平状态的基板(W)吸附，在将基板保持在框架上的状态不变的情况下，使所述框架从水平状态向垂直状态转动，将处于垂直状态的基板(W)交接至托架(23)。
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公开(公告)号：CN101889339A
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：CN200880120677.1
申请日：2008-12-09
Applicant: 株式会社爱发科
Inventor： 远山佳宏
IPC: H01L21/677 , B65G49/06
CPC classification number: H01L21/6838 , B65G49/061 , B65G49/064 , B65G49/068 , B65G2249/02 , B65G2249/04 , B65G2249/045 , H01L21/68764 , H01L21/68771 , H01L21/68785
Abstract: 一种使将基板以垂直状态传送的托架轻量化的基板传送装置。基板传送装置(11)向以垂直状态传送平板状的基板(W)的托架(23)交接基板，该基板传送装置(11)具备转移机构(22)。转移机构(22)包括：具有矩形的框体的、能以沿水平方向延伸的转动轴(L)为中心转动的框架(37)；设置在所述框架上，吸附所述基板(W)的多个吸垫(46)；和使所述框架在水平状态和垂直状态之间转动的驱动部(35)。转移机构(22)在框架处于水平状态的情况下通过多个吸垫将处于水平状态的基板(W)吸附，在将基板保持在框架上的状态不变的情况下，使所述框架从水平状态向垂直状态转动，将处于垂直状态的基板(W)交接至托架(23)。
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公开(公告)号：CN107636192A
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201680031933.4
申请日：2016-06-07
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种能够稳定地形成具有所期望的膜质和图案形状的树脂层的成膜方法和成膜装置。本发明一方式所涉及的成膜方法在维持在减压气氛的腔室内，将基板(W)冷却到第1温度以下，从气体供给部(13)向基板(W)的表面供给原料气体(G)，其中所述原料气体(G)含有能量线硬化性树脂，且在上述第1温度以下能够液化，将掩膜部件(16)与基板(W)的表面相向配置，其中所述掩膜部件(16)被维持在比上述第1温度高的第2温度，且具有规定的开口图案，向基板(W)的表面照射能量线。
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公开(公告)号：CN107636192B
公开(公告)日：2020-12-18
申请号：CN201680031933.4
申请日：2016-06-07
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种能够稳定地形成具有所期望的膜质和图案形状的树脂层的成膜方法和成膜装置。本发明一方式所涉及的成膜方法在维持在减压气氛的腔室内，将基板(W)冷却到第1温度以下，从气体供给部(13)向基板(W)的表面供给原料气体(G)，其中所述原料气体(G)含有能量线硬化性树脂，且在上述第1温度以下能够液化，将掩膜部件(16)与基板(W)的表面相向配置，其中所述掩膜部件(16)被维持在比上述第1温度高的第2温度，且具有规定的开口图案，向基板(W)的表面照射能量线。
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