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公开(公告)号：CN101017668A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200710005511.2
申请日：2007-02-09
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B5/3909 , B82Y10/00 , B82Y25/00 , B82Y40/00 , G01R33/093 , G11B5/3163 , G11B5/3929 , G11B2005/3996 , H01F10/3259 , H01F10/3272 , H01F10/3281 , H01F41/303 , H01F41/325
Abstract: 一种用于制造磁阻效应元件的方法，该磁阻效应元件具有依次层叠的磁化固定层、非磁性中间层以及磁化自由层。该方法包括：形成将成为磁化固定层或磁化自由层之一的至少部分磁性层；形成功能层，该功能层包括位于该磁性层的部分上的氧化物、氮化物以及氟化物中的至少一种；以及通过将功能层暴露于离子束辐射或等离子体辐射之一从而去除部分功能层。
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公开(公告)号：CN115346740A
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202210522350.9
申请日：2022-05-13
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝电子元件及存储装置株式会社
IPC: H01B17/56
Abstract: 本发明提供一种能够提高可靠性的绝缘器件。绝缘器件具备第一电极、第二电极、以及设置于所述第一电极与所述第二电极之间的绝缘膜。所述绝缘膜具有正的带电区域。所述正的带电区域在所述绝缘膜中配置于从所述第一电极朝向所述第二电极的方向上的一部分。
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公开(公告)号：CN103017795B
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201210225044.5
申请日：2012-06-29
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: B81C1/00158 , B81B2201/0264 , B81C1/00246 , B81C2203/0771 , G01L9/0042 , H04R1/08 , H04R19/005 , H04R19/04 , H04R31/00
Abstract: 根据一个实施例，应变和压力检测器件包括半导体电路单元和检测单元。所述半导体电路单元包括半导体衬底和晶体管。所述晶体管设置在半导体衬底上。所述检测单元设置在所述半导体电路单元上，并且具有空间部分和非空间部分。所述非空间部分与所述空间部分并列。所述检测单元进一步包括活动梁、应变检测元件单元、以及第一和第二埋置互连部。所述活动梁具有固定部分和活动部分，并且包括第一和第二互连层。所述固定部分被固定到所述非空间部分。所述活动部分与所述晶体管分开并从所述固定部分延伸到所述空间部分中。所述应变检测元件单元被固定到所述活动部分。所述第一和第二埋置互连部设置在所述非空间部分中。
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公开(公告)号：CN103017795A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210225044.5
申请日：2012-06-29
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: B81C1/00158 , B81B2201/0264 , B81C1/00246 , B81C2203/0771 , G01L9/0042 , H04R1/08 , H04R19/005 , H04R19/04 , H04R31/00
Abstract: 根据一个实施例，应变和压力检测器件包括半导体电路单元和检测单元。所述半导体电路单元包括半导体衬底和晶体管。所述晶体管设置在半导体衬底上。所述检测单元设置在所述半导体电路单元上，并且具有空间部分和非空间部分。所述非空间部分与所述空间部分并列。所述检测单元进一步包括活动梁、应变检测元件单元、以及第一和第二埋置互连部。所述活动梁具有固定部分和活动部分，并且包括第一和第二互连层。所述固定部分被固定到所述非空间部分。所述活动部分与所述晶体管分开并从所述固定部分延伸到所述空间部分中。所述应变检测元件单元被固定到所述活动部分。所述第一和第二埋置互连部设置在所述非空间部分中。
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公开(公告)号：CN101101957A
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200710127878.1
申请日：2007-07-09
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B5/398 , B82Y25/00 , B82Y40/00 , G01R33/093 , G11B5/3906 , H01F10/3254 , H01F10/3259 , H01F10/3272 , H01F41/305 , H01L43/08 , H01L43/12 , Y10T428/1121 , Y10T428/1129
Abstract: 本发明提供一种可力求提高MR变化率和可靠性的磁阻效应元件、磁头、以及磁盘装置。其中，通过形成以从Cu、Au、Ag所组成的元素组中选出的元素为主要成分的第1金属层，在该第1金属层上形成以从Si、Hf、Ti、Mo、W、Nb、Mg、Cr、和Zr所组成的元素组中选出的元素为主要成分的功能层，在该功能层上形成以Al为主要成分的第2金属层，对该第2金属层进行氧化·氮化·氧氮化处理，形成具有绝缘层和使电流在该绝缘层层厚方向上通过的导电体的电流收窄层，来构成磁阻效应元件的隔层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114976544A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210586280.3
申请日：2020-08-11
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝电子元件及存储装置株式会社
IPC: H01P1/375
Abstract: 本发明的隔离器具备：第一电极；第一绝缘部，设置于第一电极之上；第二电极，设置于第一绝缘部之上；第二绝缘部，包围第二电极而设置，沿着与第一方向垂直的第一面而设置，与第二电极接触；第一电介质部，设置于第二电极之上及第二绝缘部之上；以及第二电介质部，设置于第一绝缘部与第二绝缘部之间，第二电极具有：与第一绝缘部相对置的底面、与第一电介质部相对置的上表面及与上表面及底面连接的侧面，第二电介质部与第二电极接触，包含第一及第二电介质层，第一电介质层与第一绝缘部接触，第二电介质层设置于第一电介质层与第二绝缘部之间，第一电介质层具有比第二电介质层、第一绝缘部及第二绝缘部的相对介电常数高的相对介电常数。
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公开(公告)号：CN113497321A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202010798666.1
申请日：2020-08-11
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝电子元件及存储装置株式会社
IPC: H01P1/375
Abstract: 实施方式的隔离器具备：第一电极；第一绝缘部，设置于所述第一电极之上；第二电极，设置于所述第一绝缘部之上；第二绝缘部，沿着与从所述第一电极朝向所述第二电极的第一方向垂直的第一面设置于所述第二电极的周围，并与所述第二电极接触；以及第一电介质部，设置于所述第二电极及所述第二绝缘部之上。所述第二电极具有与所述第一绝缘部相对置的底面、与所述第一电介质部相对置的上表面、与所述底面相连的第一侧面及与所述上表面及所述第一侧面相连的第二侧面。沿着所述第一面，在从所述第二电极的中心朝向所述第二电极的外缘的第二方向上，所述上表面被设置为比所述底面宽，所述第一侧面相对于所述底面及所述第二侧面倾斜。
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公开(公告)号：CN101499515A
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200910004000.8
申请日：2009-02-01
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01L43/08 , B82Y10/00 , B82Y25/00 , G01R33/04 , G01R33/093 , G11B5/3906 , G11B2005/3996 , G11C11/16 , G11C11/161 , G11C11/1673 , G11C11/1675 , H01L27/228 , H01L43/10 , H01L43/12
Abstract: 本发明提供可实现更大MR变化率的磁阻效应元件。一种磁阻效应元件，其特征在于，具有磁阻效应膜和用于使电流沿与上述磁阻效应膜的膜面垂直的方向流过的一对电极，所述磁阻效应膜含有磁化方向实质上固定在单向上的磁化固定层、磁化方向根据外部磁场而变化的磁化自由层、在上述磁化固定层与上述磁化自由层之间设置的中间层、在上述磁化固定层或者磁化自由层上设置的盖层，和在上述磁化固定层中、上述磁化自由层中、上述磁化固定层与上述中间层的界面、上述中间层与上述磁化自由层的界面、以及上述磁化固定层或者磁化自由层与上述盖层的界面的任一者上设置的功能层，上述功能层含有包含Fe含量大于等于5原子％的金属材料和氮的层。
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公开(公告)号：CN100483512C
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：CN200610137368.8
申请日：2006-10-20
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: C23C8/02 , B82Y10/00 , B82Y25/00 , B82Y40/00 , C23C8/34 , C23C28/321 , C23C28/322 , C23C28/34 , C23C28/345 , C23C28/3455 , C23C28/42 , G11B5/3163 , G11B5/3932 , G11B2005/3996 , H01F10/3259 , H01F10/3268 , H01F41/305
Abstract: 一种磁阻效应元件的制造方法，该磁阻效应元件包括：磁化方向实质上被固定在一个方向的磁化固定层；磁化方向相对外部磁场发生变化的磁化自由层；间隔层，该间隔层包含设在所述磁化固定层和所述磁化自由层之间的绝缘层和贯通所述绝缘层的电流通道，其特征在于，在形成所述间隔层时，使形成所述电流通道的第1非磁性金属层成膜，将变换为所述绝缘层的第2金属层在所述第1非磁性金属层上成膜，第1氧化工序的氧化气体分压小于等于第2氧化工序的氧化气体分压的1/10，依次进行2个阶段的氧化工序，在所述第1氧化工序中对所述第2金属层照射稀有气体的离子束或RF等离子。采用本方法，可以制造具有合适的面积电阻RA和高的MR变化率的磁阻效应元件。
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公开(公告)号：CN101331568A
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200680047653.9
申请日：2006-12-20
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01F41/305 , B82Y25/00 , B82Y40/00 , G11B5/3163 , G11B5/3166 , G11B5/398 , G11B5/3983 , G11B2005/3996 , G11C11/161 , H01F10/3254 , H01F10/3259 , H01F10/3272 , H01L43/08 , H01L43/12 , Y10T428/1121
Abstract: 一种磁阻效应元件，通过下述方法制造：形成第一磁性层；在第一磁性层上形成的包括绝缘层和导电层的间隔层，该导电层穿过绝缘层并传导电流；和在形成的间隔层上形成的第二磁性层，该第二磁性层的全部或部分用离子、等离子体或加热来处理。
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