一种缺陷检测方法、装置及设备
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119832304A

    公开(公告)日:2025-04-15

    申请号:CN202411883147.X

    申请日:2024-12-19

    Abstract: 本发明涉及计算机视觉技术领域,具体涉及一种缺陷检测方法、装置及设备,本发明通过获取历史缺陷样本集及扩充集生成第一缺陷样本集,涵盖更多缺陷情况,提升模型对复杂缺陷适应力;其次,利用深度卷积神经网络模型等预处理并生成Micro LED缺陷检测模型,提高检测精度,准确标注分类相似缺陷,保障检测结果可靠;再者,自动化样本集生成与模型优化节省时间精力,模型能够快速准确地助力生产决策;最后,该模型利于提升生产决策质量、推动科技创新,助力解决生产问题,保障工业可持续发展。

    墨滴打印漏点检测方法、装置、设备及介质

    公开(公告)号:CN117969555B

    公开(公告)日:2024-07-16

    申请号:CN202410375031.9

    申请日:2024-03-29

    Abstract: 本发明公开了一种墨滴打印漏点检测方法、装置、设备及介质,将基板可活动地安装于基台,再使得基板的一侧面形成像素坑阵列,并使得像素坑阵列中包括多个沿预设打印方向依次排列的多个像素坑子阵列,再将打印模块以及视觉检测机构均位于像素坑阵列的上方,通过控制打印模块对多个像素坑子阵列中的目标像素子阵列填充墨滴以进行打印,并控制视觉检测机构采集上一完成打印子阵列的当前图像信息,根据当前图像信息,对上一完成打印子阵列进行漏点检测,在进行墨滴打印的打印过程中即可实现对基板上已完成打印的像素坑中是否存在漏点的情况进行即时检测,实现了对墨滴打印中的像素坑中存在的漏点进行实时检测的功能,节约打印时间,提升打印效率。

    多区域波长标定方法、装置及计算机可读存储介质

    公开(公告)号:CN117870881A

    公开(公告)日:2024-04-12

    申请号:CN202311786148.8

    申请日:2023-12-22

    Abstract: 本发明提供了一种多区域波长标定方法、装置及计算机可读存储介质,多区域波长标定方法包括在光谱仪上根据空间维度划分出预设数量个信号通道;获取光纤信号,并将光纤信号分为预设数量个子信号;将预设数量个子信号一一对应输入至各个信号通道中;分别计算各个子信号在对应信号通道中的像元位置;根据像元位置获取其对应信号通道中的拟合方程。本发明技术方案按照空间维度将光谱仪划分出多个信号通道,同时将光纤信号分为多个子信号,从而可通过单次信号采集处理,实现光谱仪在多个信号通道中的标定,也即根据不同空间维度的波长标定。简化标定操作流程,提高标定的效率,避免曝光波动、光源不稳等影响,有效保证标定的准确度。

    一种基板纠偏和定位方法及相关设备

    公开(公告)号:CN116811447A

    公开(公告)日:2023-09-29

    申请号:CN202311081736.1

    申请日:2023-08-25

    Abstract: 本申请涉及视觉定位技术领域,公开了一种基板纠偏和定位方法及相关设备,该基板纠偏和定位方法:通过获取基板偏转的基准角度以及目标位置,在基板实际纠偏和定位中,获取实时的基板偏转的实际角度和基板的实际位置,根据基准角度和实际角度的角度偏差控制转台对基板进行纠偏,根据目标位置和实际位置的位置偏差控制工作台对基板进行定位,解决了由于现有对多相机无共同视野进行标定的方法成本较高,标定过程复杂,计算繁琐的基板纠偏问题,通过本申请设置的基板纠偏和定位方法,不但可以满足基板纠偏微米级精度,而且相较于利用三维立体坐标系标定更加简单和高效。

    多相机位置标定方法、装置、系统及存储介质

    公开(公告)号:CN114792344B

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN202210723777.5

    申请日:2022-06-24

    Abstract: 本申请属于标定领域,提供一种多相机位置标定方法、装置、系统及存储介质。包括以下步骤:移动具有多个特征点区域的标定板,使得多个相机的多个视野范围内分别具有多个特征点区域中的一个特征点区域;采集多个相机对应视野范围内的图像;获取多个图像,得到每个图像中特征点的像素坐标,建立多个图像坐标系;以标定板的平面建立世界坐标系,计算多个图像坐标系与世界坐标系的关系,得到世界坐标系下多个特征点的对应关系;根据世界坐标系下多个特征点的对应关系与标定板上特征点的位置关系,计算得到多个相机之间的位姿关系。本申请多相机位置标定方法、装置、系统及存储介质能够在多相机无共同视野的情况下进行标定,标定过程简单,计算容易。

    多相机位置标定方法、装置、系统及存储介质

    公开(公告)号:CN114792344A

    公开(公告)日:2022-07-26

    申请号:CN202210723777.5

    申请日:2022-06-24

    Abstract: 本申请属于标定领域,提供一种多相机位置标定方法、装置、系统及存储介质。包括以下步骤:移动具有多个特征点区域的标定板,使得多个相机的多个视野范围内分别具有多个特征点区域中的一个特征点区域;采集多个相机对应视野范围内的图像;获取多个图像,得到每个图像中特征点的像素坐标,建立多个图像坐标系;以标定板的平面建立世界坐标系,计算多个图像坐标系与世界坐标系的关系,得到世界坐标系下多个特征点的对应关系;根据世界坐标系下多个特征点的对应关系与标定板上特征点的位置关系,计算得到多个相机之间的位姿关系。本申请多相机位置标定方法、装置、系统及存储介质能够在多相机无共同视野的情况下进行标定,标定过程简单,计算容易。

    激光修复监测装置、方法、存储介质及程序产品

    公开(公告)号:CN119681475A

    公开(公告)日:2025-03-25

    申请号:CN202411924703.3

    申请日:2024-12-25

    Abstract: 本申请公开了一种激光修复监测装置、方法、存储介质及程序产品,涉及激光修复技术领域,装置包括:工控系统;脉冲激光器,脉冲激光器与工控系统通信连接,工控系统控制脉冲激光器发出修复激光;激光修复光路,修复激光经过激光修复光路会聚至样品,对样品进行修复;检测模块,检测模块与工控系统通信连接,检测模块发出的检测光线经过激光修复光路到达样品的修复位置,从修复位置经过激光修复光路反射回检测模块中;检测模块中包括探测器,探测器实时探测反射的检测光线。本申请能够实现激光修复过程的实时监测,提高激光修复效果。

    光纤探头、光纤LIBS远程探测系统及方法

    公开(公告)号:CN119395001A

    公开(公告)日:2025-02-07

    申请号:CN202510000423.1

    申请日:2025-01-02

    Abstract: 本申请公开了一种光纤探头、光纤LIBS远程探测系统及方法,涉及激光探测技术领域,光纤探头包括:外壳,以及沿激光入射方向依次设置在外壳内的准直镜、聚焦镜和二次曲面反射腔;二次曲面反射腔包括上端面和下端面,下端面与样品接触,上端面与聚焦镜接触;下端面的中心为聚焦镜的焦点,且聚焦镜的焦点与二次曲面反射腔的第一焦点重合;在光谱激发阶段,激光入射后经准直镜准直,由聚焦镜聚焦在样品表面,激发产生等离子体,二次曲面反射腔对等离子体产生空间约束;在光谱收集阶段,等离子体产生的辐射光直接被聚焦镜会聚收集,或经过二次曲面反射腔被反射至聚焦镜会聚收集。本申请提高了光纤LIBS探测的灵敏度,且实现了自动聚焦。

    墨滴打印漏点检测方法、装置、设备及介质

    公开(公告)号:CN117969555A

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202410375031.9

    申请日:2024-03-29

    Abstract: 本发明公开了一种墨滴打印漏点检测方法、装置、设备及介质,将基板可活动地安装于基台,再使得基板的一侧面形成像素坑阵列,并使得像素坑阵列中包括多个沿预设打印方向依次排列的多个像素坑子阵列,再将打印模块以及视觉检测机构均位于像素坑阵列的上方,通过控制打印模块对多个像素坑子阵列中的目标像素子阵列填充墨滴以进行打印,并控制视觉检测机构采集上一完成打印子阵列的当前图像信息,根据当前图像信息,对上一完成打印子阵列进行漏点检测,在进行墨滴打印的打印过程中即可实现对基板上已完成打印的像素坑中是否存在漏点的情况进行即时检测,实现了对墨滴打印中的像素坑中存在的漏点进行实时检测的功能,节约打印时间,提升打印效率。

    半导体元器件转移装置及转移方法

    公开(公告)号:CN116190295A

    公开(公告)日:2023-05-30

    申请号:CN202310480227.X

    申请日:2023-04-28

    Abstract: 本发明涉及半导体加工技术领域,特别涉及一种半导体元器件转移装置及转移方法,在使用转移印章对半导体元器件进行转移时对转移印章的运动精度进行准确测量的目的,进而能够提升转移印章与半导体元器件之间的对准精度,保证了制备的产品的良品率,解决了相关技术中转移印章与临时载板或驱动电路背板对齐后,仅依靠导轨的大行程上下运动无法保证Micro LED芯片的精确拾取或者准确放置到驱动电路背板预定位置,从而导致转移的良率下降,影响后续相关制程的技术问题。

Patent Agency Ranking