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公开(公告)号：CN117253844A
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202311544434.3
申请日：2023-11-20
Applicant: 季华实验室
IPC: H01L21/687 , H01L33/00 , G03F7/20
Abstract: 本申请公开一种六自由度圆弧形磁浮微动台及器件转移装置，涉及磁悬浮技术领域，其中，六自由度圆弧形磁浮微动台包括：定子；动子，且动子与定子平行设置；环形永磁阵列，环形永磁阵列设置在动子上；至少三个第一绕组，三个第一绕组设置在定子上；至少三个第二绕组，三个第二绕组设置在定子上。本申请提供的上述方案，可以通过改变三个第一绕组电流大小和方向来调节磁浮支撑力，从而实现Z、Rx、Ry这三个自由度的运动。由于第二绕组的受力方向为径向，当三个第二绕组到环形永磁阵列中心的距离不同时，三个第二绕组在径向受力的同时也会产生旋转转矩，从而实现了微动台在X、Y和Rz向运动的目的，进而方便了高精密大型设备的精确定位。
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公开(公告)号：CN116968442A
公开(公告)日：2023-10-31
申请号：CN202311217564.6
申请日：2023-09-20
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于墨路系统监测的技术领域，公开了一种墨路系统监测方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：获取待测墨路系统的墨路监测数据，以及墨路数据库的墨路监测训练样本，墨路监测训练样本包括历史墨路监测数据及对应的状态数据，根据历史墨路监测数据及对应的状态数据，构建模型预测控制算法模型，将墨路监测数据输入模型预测控制算法模型，计算得到待测墨路系统的预测状态数据，基于预测状态数据，结合预设的状态参考阈值和预设的状态约束条件，对待测墨路系统进行监测，通过墨路监测数据、模型预测控制算法模型、预设的状态参考阈值和预设的状态约束条件，对墨路系统进行监测，提高了墨路系统的监测效率。
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公开(公告)号：CN114792344B
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210723777.5
申请日：2022-06-24
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于标定领域，提供一种多相机位置标定方法、装置、系统及存储介质。包括以下步骤：移动具有多个特征点区域的标定板，使得多个相机的多个视野范围内分别具有多个特征点区域中的一个特征点区域；采集多个相机对应视野范围内的图像；获取多个图像，得到每个图像中特征点的像素坐标，建立多个图像坐标系；以标定板的平面建立世界坐标系，计算多个图像坐标系与世界坐标系的关系，得到世界坐标系下多个特征点的对应关系；根据世界坐标系下多个特征点的对应关系与标定板上特征点的位置关系，计算得到多个相机之间的位姿关系。本申请多相机位置标定方法、装置、系统及存储介质能够在多相机无共同视野的情况下进行标定，标定过程简单，计算容易。
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公开(公告)号：CN114792344A
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN202210723777.5
申请日：2022-06-24
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于标定领域，提供一种多相机位置标定方法、装置、系统及存储介质。包括以下步骤：移动具有多个特征点区域的标定板，使得多个相机的多个视野范围内分别具有多个特征点区域中的一个特征点区域；采集多个相机对应视野范围内的图像；获取多个图像，得到每个图像中特征点的像素坐标，建立多个图像坐标系；以标定板的平面建立世界坐标系，计算多个图像坐标系与世界坐标系的关系，得到世界坐标系下多个特征点的对应关系；根据世界坐标系下多个特征点的对应关系与标定板上特征点的位置关系，计算得到多个相机之间的位姿关系。本申请多相机位置标定方法、装置、系统及存储介质能够在多相机无共同视野的情况下进行标定，标定过程简单，计算容易。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116394657B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202310663504.0
申请日：2023-06-06
Applicant: 季华实验室
IPC: B41J2/145
Abstract: 本申请属于打印技术领域，公开了一种多分辨率打印方法及装置，所述装置包括安装座，安装座能够绕z轴转动；至少两个喷头，每个喷头包括多个沿x轴方向以第一间隔等间隔排布的喷孔，各喷头沿y轴方向以第二间隔等间隔排布地设置在安装座上，且第二间隔可调；沿y轴方向，从第二个喷头起，各喷头的喷孔依次沿x轴的同一方向相对上一个喷头的喷孔偏移第一偏移距离，第一偏移距离与第一间隔满足关系：Of=No/M，其中Of为第一偏移距离，No为第一间隔，M为喷头的总数；从而能够实现多种分辨率的打印，且分辨率的调节范围大，适用性强。
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公开(公告)号：CN116190295A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202310480227.X
申请日：2023-04-28
Applicant: 季华实验室
IPC: H01L21/68 , H01L21/683 , H01L33/00
Abstract: 本发明涉及半导体加工技术领域，特别涉及一种半导体元器件转移装置及转移方法，在使用转移印章对半导体元器件进行转移时对转移印章的运动精度进行准确测量的目的，进而能够提升转移印章与半导体元器件之间的对准精度，保证了制备的产品的良品率，解决了相关技术中转移印章与临时载板或驱动电路背板对齐后，仅依靠导轨的大行程上下运动无法保证Micro LED芯片的精确拾取或者准确放置到驱动电路背板预定位置，从而导致转移的良率下降，影响后续相关制程的技术问题。
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公开(公告)号：CN113437195B
公开(公告)日：2022-07-05
申请号：CN202110628372.9
申请日：2021-06-04
Applicant: 季华实验室
IPC: H01L33/48 , H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 本发明公开一种微型器件转移装置及转移方法，主题一包括控制模块、供给基板和转移头，所述供给基板的第一侧面设有若干列转移头，所述供给基板的第一侧面为朝所述供给基板方向弯曲的曲面，所述控制模块用于控制所述若干列转移头吸附和释放微型器件而转移微型器件。本发明通过转动供给基板使得若干列转移头上的微型器件依次与接收基板相接触，并利用控制模块控制若干列转移头依次释放微型器件，使得若干列转移头上的微型器件依次转移，由于采用分批分列的方式转移微型器件，从而有效提高微型器件巨量转移方式的转移良率，提高微型器件的生成效率。
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公开(公告)号：CN113437195A
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN202110628372.9
申请日：2021-06-04
Applicant: 季华实验室
IPC: H01L33/48 , H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 本发明公开一种微型器件转移装置及转移方法，主题一包括控制模块、供给基板和转移头，所述供给基板的第一侧面设有若干列转移头，所述供给基板的第一侧面为朝所述供给基板方向弯曲的曲面，所述控制模块用于控制所述若干列转移头吸附和释放微型器件而转移微型器件。本发明通过转动供给基板使得若干列转移头上的微型器件依次与接收基板相接触，并利用控制模块控制若干列转移头依次释放微型器件，使得若干列转移头上的微型器件依次转移，由于采用分批分列的方式转移微型器件，从而有效提高微型器件巨量转移方式的转移良率，提高微型器件的生成效率。
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公开(公告)号：CN116968442B
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202311217564.6
申请日：2023-09-20
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于墨路系统监测的技术领域，公开了一种墨路系统监测方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：获取待测墨路系统的墨路监测数据，以及墨路数据库的墨路监测训练样本，墨路监测训练样本包括历史墨路监测数据及对应的状态数据，根据历史墨路监测数据及对应的状态数据，构建模型预测控制算法模型，将墨路监测数据输入模型预测控制算法模型，计算得到待测墨路系统的预测状态数据，基于预测状态数据，结合预设的状态参考阈值和预设的状态约束条件，对待测墨路系统进行监测，通过墨路监测数据、模型预测控制算法模型、预设的状态参考阈值和预设的状态约束条件，对墨路系统进行监测，提高了墨路系统的监测效率。
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