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公开(公告)号：CN119832304A
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202411883147.X
申请日：2024-12-19
Applicant: 季华实验室
IPC: G06V10/764 , G06V10/82 , G06V10/774 , G06V10/25 , G06V10/26 , G06N3/0464 , G06N3/08 , G06T7/00 , G06T7/10
Abstract: 本发明涉及计算机视觉技术领域，具体涉及一种缺陷检测方法、装置及设备，本发明通过获取历史缺陷样本集及扩充集生成第一缺陷样本集，涵盖更多缺陷情况，提升模型对复杂缺陷适应力；其次，利用深度卷积神经网络模型等预处理并生成Micro LED缺陷检测模型，提高检测精度，准确标注分类相似缺陷，保障检测结果可靠；再者，自动化样本集生成与模型优化节省时间精力，模型能够快速准确地助力生产决策；最后，该模型利于提升生产决策质量、推动科技创新，助力解决生产问题，保障工业可持续发展。
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公开(公告)号：CN117969555B
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202410375031.9
申请日：2024-03-29
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开了一种墨滴打印漏点检测方法、装置、设备及介质，将基板可活动地安装于基台，再使得基板的一侧面形成像素坑阵列，并使得像素坑阵列中包括多个沿预设打印方向依次排列的多个像素坑子阵列，再将打印模块以及视觉检测机构均位于像素坑阵列的上方，通过控制打印模块对多个像素坑子阵列中的目标像素子阵列填充墨滴以进行打印，并控制视觉检测机构采集上一完成打印子阵列的当前图像信息，根据当前图像信息，对上一完成打印子阵列进行漏点检测，在进行墨滴打印的打印过程中即可实现对基板上已完成打印的像素坑中是否存在漏点的情况进行即时检测，实现了对墨滴打印中的像素坑中存在的漏点进行实时检测的功能，节约打印时间，提升打印效率。
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公开(公告)号：CN116811447A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202311081736.1
申请日：2023-08-25
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及视觉定位技术领域，公开了一种基板纠偏和定位方法及相关设备，该基板纠偏和定位方法：通过获取基板偏转的基准角度以及目标位置，在基板实际纠偏和定位中，获取实时的基板偏转的实际角度和基板的实际位置，根据基准角度和实际角度的角度偏差控制转台对基板进行纠偏，根据目标位置和实际位置的位置偏差控制工作台对基板进行定位，解决了由于现有对多相机无共同视野进行标定的方法成本较高，标定过程复杂，计算繁琐的基板纠偏问题，通过本申请设置的基板纠偏和定位方法，不但可以满足基板纠偏微米级精度，而且相较于利用三维立体坐标系标定更加简单和高效。
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公开(公告)号：CN114792344B
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210723777.5
申请日：2022-06-24
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于标定领域，提供一种多相机位置标定方法、装置、系统及存储介质。包括以下步骤：移动具有多个特征点区域的标定板，使得多个相机的多个视野范围内分别具有多个特征点区域中的一个特征点区域；采集多个相机对应视野范围内的图像；获取多个图像，得到每个图像中特征点的像素坐标，建立多个图像坐标系；以标定板的平面建立世界坐标系，计算多个图像坐标系与世界坐标系的关系，得到世界坐标系下多个特征点的对应关系；根据世界坐标系下多个特征点的对应关系与标定板上特征点的位置关系，计算得到多个相机之间的位姿关系。本申请多相机位置标定方法、装置、系统及存储介质能够在多相机无共同视野的情况下进行标定，标定过程简单，计算容易。
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公开(公告)号：CN114792344A
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN202210723777.5
申请日：2022-06-24
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于标定领域，提供一种多相机位置标定方法、装置、系统及存储介质。包括以下步骤：移动具有多个特征点区域的标定板，使得多个相机的多个视野范围内分别具有多个特征点区域中的一个特征点区域；采集多个相机对应视野范围内的图像；获取多个图像，得到每个图像中特征点的像素坐标，建立多个图像坐标系；以标定板的平面建立世界坐标系，计算多个图像坐标系与世界坐标系的关系，得到世界坐标系下多个特征点的对应关系；根据世界坐标系下多个特征点的对应关系与标定板上特征点的位置关系，计算得到多个相机之间的位姿关系。本申请多相机位置标定方法、装置、系统及存储介质能够在多相机无共同视野的情况下进行标定，标定过程简单，计算容易。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117969555A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202410375031.9
申请日：2024-03-29
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开了一种墨滴打印漏点检测方法、装置、设备及介质，将基板可活动地安装于基台，再使得基板的一侧面形成像素坑阵列，并使得像素坑阵列中包括多个沿预设打印方向依次排列的多个像素坑子阵列，再将打印模块以及视觉检测机构均位于像素坑阵列的上方，通过控制打印模块对多个像素坑子阵列中的目标像素子阵列填充墨滴以进行打印，并控制视觉检测机构采集上一完成打印子阵列的当前图像信息，根据当前图像信息，对上一完成打印子阵列进行漏点检测，在进行墨滴打印的打印过程中即可实现对基板上已完成打印的像素坑中是否存在漏点的情况进行即时检测，实现了对墨滴打印中的像素坑中存在的漏点进行实时检测的功能，节约打印时间，提升打印效率。
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公开(公告)号：CN116190295A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202310480227.X
申请日：2023-04-28
Applicant: 季华实验室
IPC: H01L21/68 , H01L21/683 , H01L33/00
Abstract: 本发明涉及半导体加工技术领域，特别涉及一种半导体元器件转移装置及转移方法，在使用转移印章对半导体元器件进行转移时对转移印章的运动精度进行准确测量的目的，进而能够提升转移印章与半导体元器件之间的对准精度，保证了制备的产品的良品率，解决了相关技术中转移印章与临时载板或驱动电路背板对齐后，仅依靠导轨的大行程上下运动无法保证Micro LED芯片的精确拾取或者准确放置到驱动电路背板预定位置，从而导致转移的良率下降，影响后续相关制程的技术问题。
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公开(公告)号：CN113437195B
公开(公告)日：2022-07-05
申请号：CN202110628372.9
申请日：2021-06-04
Applicant: 季华实验室
IPC: H01L33/48 , H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 本发明公开一种微型器件转移装置及转移方法，主题一包括控制模块、供给基板和转移头，所述供给基板的第一侧面设有若干列转移头，所述供给基板的第一侧面为朝所述供给基板方向弯曲的曲面，所述控制模块用于控制所述若干列转移头吸附和释放微型器件而转移微型器件。本发明通过转动供给基板使得若干列转移头上的微型器件依次与接收基板相接触，并利用控制模块控制若干列转移头依次释放微型器件，使得若干列转移头上的微型器件依次转移，由于采用分批分列的方式转移微型器件，从而有效提高微型器件巨量转移方式的转移良率，提高微型器件的生成效率。
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公开(公告)号：CN113437195A
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN202110628372.9
申请日：2021-06-04
Applicant: 季华实验室
IPC: H01L33/48 , H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 本发明公开一种微型器件转移装置及转移方法，主题一包括控制模块、供给基板和转移头，所述供给基板的第一侧面设有若干列转移头，所述供给基板的第一侧面为朝所述供给基板方向弯曲的曲面，所述控制模块用于控制所述若干列转移头吸附和释放微型器件而转移微型器件。本发明通过转动供给基板使得若干列转移头上的微型器件依次与接收基板相接触，并利用控制模块控制若干列转移头依次释放微型器件，使得若干列转移头上的微型器件依次转移，由于采用分批分列的方式转移微型器件，从而有效提高微型器件巨量转移方式的转移良率，提高微型器件的生成效率。
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公开(公告)号：CN116190295B
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN202310480227.X
申请日：2023-04-28
Applicant: 季华实验室
IPC: H01L21/68 , H01L21/683 , H01L33/00
Abstract: 本发明涉及半导体加工技术领域，特别涉及一种半导体元器件转移装置及转移方法，在使用转移印章对半导体元器件进行转移时对转移印章的运动精度进行准确测量的目的，进而能够提升转移印章与半导体元器件之间的对准精度，保证了制备的产品的良品率，解决了相关技术中转移印章与临时载板或驱动电路背板对齐后，仅依靠导轨的大行程上下运动无法保证Micro LED芯片的精确拾取或者准确放置到驱动电路背板预定位置，从而导致转移的良率下降，影响后续相关制程的技术问题。
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