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公开(公告)号：CN116661030A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310631736.8
申请日：2023-05-31
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种大衍射角星象图案生成器件的制备方法，该器件由两层微透镜阵列结构融合而成，且两层阵列结构的周期、球冠直径和矢高互不相同、坐标轴线按照一定的角度偏转。本发明利用两层微透镜阵列结构的几何尺寸互不相同、坐标轴线互有夹角的特点，并通过特殊的制备方法将双层微米量级结构融合为一层兼具微米量级和纳米量级的特殊结构，使星象图案生成器件的特征线宽由掩膜图形的微米量级降低到纳米量级，衍射角度大大提升；且制备过程无需纳米量级的加工技术，简单易行、制作成本低。
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公开(公告)号：CN116029924A
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202211712358.8
申请日：2022-12-29
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G06T5/00
Abstract: 本发明公开了一种单片衍射的红外系统的图像处理方法，该方法基于局部最大梯度先验方式，用来解决单片衍射红外系统的图像退化模糊问题。研究发现系统成像的像素点邻域范围内的梯度最大值在系统成像过程后会减小，导致了系统成像的降质，符合系统成像的退化过程。方法特点为将局部最大梯度作为先验理论进行直接复原。方法流程为输入退化的图像二维矩阵，建立系统图像复原的目标函数，最后迭代求解估计最终的清晰图像。在分析单片衍射红外系统的图像退化过程，发现了一种固有的先验理论，本发明以此先验进行图像复原，具有实现简单、复原效果好等优点。
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公开(公告)号：CN114879452A
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN202210445026.1
申请日：2022-04-26
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种柔性薄膜高均匀接触式对准曝光装置，包括腔体骨架、隔振底座、光学窗口、光掩膜版、柔性薄膜、六自由度平台、压圈支架、柔性压圈、升降机构、旋转机构、万向节、显微镜位移台和显微镜。腔体骨架和隔振底座连接构成真空腔体，六自由度平台和升降机构均与腔体骨架连接。光学窗口嵌于隔振底座对光掩膜版起支撑作用。柔性薄膜由薄膜支架支撑并与六自由度平台连接。压圈支架向上依次连接万向节、旋转机构和升降机构，向下连接柔性压圈。显微镜通过显微镜位移台与压圈支架连接。本发明降低传统接触式光刻机不均匀的空气间隙，提高曝光分辨率；减小传统真空贴附方法对薄膜造成的变形，提高对准套刻精度。
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公开(公告)号：CN114563934A
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN202210197015.6
申请日：2022-03-01
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明提供了一种基于平面基板加工双面微米级定位标记的简易装置及方法。基于融石英材料加工测杆标记衬底，使其具备光学级表面光洁度和面形要求，利用光刻、刻蚀技术在其表面加工微浮雕标记形成测杆标记。利用光学镜片胶合技术将测杆标记衬底连接到千分尺测杆端面固定，在测杆标记表面涂覆色素，转动旋钮使测杆标记和千分尺测砧端面接触完成标记预压印将色素转移形成测砧标记。分离测杆标记和测砧标记并补充测杆标记的色素，插入平面基板并使其反面靠近测砧标记，转动旋钮使测杆标记和测砧标记同时接触平面基板正反面完成标记双面压印，获得基板正面标记和基板反面标记。实现在厚平面基板正反面加工定位标记，且双面标记的对准精度达微米级。
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公开(公告)号：CN104393932A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201410670381.4
申请日：2014-11-20
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种量子通信地面站望远镜光轴实时修正方法，电动偏转反射镜作为地面站望远镜的第三镜；单色光源作为参考光光源并固定在主镜筒上，参考光方向与主次镜光轴方向一致；光电探测器作为探测器，与量子光接收模块和信标光接收模块一起固定在望远镜俯仰支架上，不随望远镜俯仰轴转动。参考光经主、次镜反射后入射到电动偏转反射镜上，接着经第一分光镜将参考光和量子光分离出来，量子光反射进入量子光接收模块，透射的参考光进一步通过第二分光镜完成参考光和信标光的分离，信标光反射进入信标光接收模块，透射的参考光最后聚焦到光电探测器上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118551728A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410747801.8
申请日：2024-06-11
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G06F30/398 , G06F30/392 , G06F30/27 , G06N3/006
Abstract: 本发明公开了一种基于复合指标的光学干涉阵列孔径排布优化方法，包括以下步骤：根据预先确定的分布函数生成分布参考坐标；生成初始待优化阵列构成的粒子群；计算待优化的阵列排布矩阵中每个阵列排布方案的适应度；根据步骤三计算的适应度执行个体最优矩阵和全局最优矩阵更新；执行优化速度矩阵更新；执行阵列排布矩阵迭代优化：将待优化的阵列排布矩阵与步骤五得到的优化速度相加；保留适应度最低的阵列排布方案，判断该阵列排布方案是否满足终止迭代条件，若没有满足，返回步骤三继续进行；否则，输出全局最优个体及其评价函数和适应度曲线图。本发明方法适用性强，能针对不同孔径数量、不同特征分布函数进行优化。
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公开(公告)号：CN114608486B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202210295309.2
申请日：2022-03-24
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B11/27
Abstract: 本发明公开了一种检测与调整衍架导轨平行度的方法，提高了这种分节桁架导轨在空间位置上平行度的检测精度。本发明借助激光跟踪仪首先调整了中间那根分节桁架导轨的直线度，然后以它的一端作为坐标原点建立空间坐标系，进而根据空间坐标调整左右两根分节桁架导轨各自的直线度和与中间那根的平行度，最后再重新复测三根分节桁架导轨的平行度。本发明借助激光跟踪仪的高精度，进而提高分节桁架导轨在空间位置上平行度的检测精度，而且操作简单，大大节约了时间成本。
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公开(公告)号：CN114582698B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202210202792.5
申请日：2022-03-02
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供了一种用于大曲率非平面器件的低温等离子体刻蚀装置及方法，该装置含有真空腔体顶盖、真空腔体底座、曲面导电匀气板、工艺气体通道、曲面器件、阳极样品台、真空排气通道和低温等离子体。真空腔体顶盖和真空腔体底座组成真空腔体，真空腔体顶盖和真空腔体底座接地，可打开装入样品也可闭合接入真空系统。曲面导电匀气板与真空腔体顶盖导电连接，工艺气体通过工艺气体通道进入真空腔体，通过真空排气通道离开真空腔体，曲面器件置于阳极样品台表面，在RF射频电源激励下形成低温等离子体弥漫于真空腔体内。本发明总体刻蚀速率在整个曲面上保持均一。
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公开(公告)号：CN114647079B
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN202210256490.6
申请日：2022-03-16
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B27/00
Abstract: 本发明公开了一种单片式宽波段衍射计算成像方法，解决了应用传统衍射元件成像时成像系统结构复杂、成本高、波段窄的问题。本发明提供的衍射计算成像方法，可以在仅使用单片衍射镜片的情况下，实现可见光波段下高色彩保真度的清晰成像。本发明涉及光学设计与图像处理领域，包括如下步骤：根据应用需求对传统衍射元件进行消色差优化设计，根据消色差优化后的衍射元件的点扩散函数设计复原算法，使用该算法对消色差衍射透镜的成像图像进行复原，最终实现可见光波段下单片衍射元件的计算成像，具有低成本、轻量化、宽波段等优势，同时保持高色彩保真度的清晰成像。
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公开(公告)号：CN114663304A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202210257107.9
申请日：2022-03-16
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G06T5/00
Abstract: 本发明公开了一种基于稀疏先验的光学合成孔径系统成像增强方法。用来解决光学合成孔径系统由于阵列结构和共相误差影响下导致的成像退化问题。方法特点为将暗通道和图像梯度先验做为稀疏先验设计成像增强模型，方法流程为首先计算合成孔径系统阵列结构下的点扩散函数做为初始糢糊核输入，然后通过半二次分裂法对稀疏先验进行求解，求解模型估计最终的糢糊核和成像增强后的图像。本发明利用合成孔径系统固有的先验理论，具有适用范围广、实现简单以及增强效果好等优点。
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