公开(公告)号：CN110187415B

公开(公告)日：2020-07-17

申请号：CN201910536086.2

申请日：2019-06-20

Applicant: 中国科学院光电技术研究所

Inventor： 李志炜 ,  邵俊铭 ,  雷柏平 ,  范斌 ,  罗倩 ,  高国涵 ,  邓晓东 ,  毛丹波 ,  何一苇 ,  蒋仁奎

IPC: G02B1/12

Abstract: 本发明公开了一种基于反应离子刻蚀减薄的光学元件面形修正方法，解决了传统光学加工技术无法直接抛光新型柔性光学薄膜的问题。本发明提供的基于反应离子刻蚀减薄的光学元件面形修正方法，可以在不影响薄膜光学性能的情况下，快速高效地对柔性薄膜进行面形修正。本发明可以精确控制减薄区域与非减薄区域的界线，对准精度高，迭代次数少，减薄深度控制精度高，减薄掩蔽层制作方便，不会在光学件表面产生表面划痕或亚表面损伤，残余掩蔽层去除容易，工艺重复性好，无毒无害，也适用于传统无机刚性材料如二氧化硅、碳化硅等。

公开(公告)号：CN110187415A

公开(公告)日：2019-08-30

申请号：CN201910536086.2

申请日：2019-06-20

Applicant: 中国科学院光电技术研究所

Inventor： 李志炜 ,  邵俊铭 ,  雷柏平 ,  范斌 ,  罗倩 ,  高国涵 ,  邓晓东 ,  毛丹波 ,  何一苇 ,  蒋仁奎

IPC: G02B1/12

Abstract: 本发明公开了一种基于反应离子刻蚀减薄的光学元件面形修正方法，解决了传统光学加工技术无法直接抛光新型柔性光学薄膜的问题。本发明提供的基于反应离子刻蚀减薄的光学元件面形修正方法，可以在不影响薄膜光学性能的情况下，快速高效地对柔性薄膜进行面形修正。本发明可以精确控制减薄区域与非减薄区域的界线，对准精度高，迭代次数少，减薄深度控制精度高，减薄掩蔽层制作方便，不会在光学件表面产生表面划痕或亚表面损伤，残余掩蔽层去除容易，工艺重复性好，无毒无害，也适用于传统无机刚性材料如二氧化硅、碳化硅等。

公开(公告)号：CN114647079B

公开(公告)日：2023-07-21

申请号：CN202210256490.6

申请日：2022-03-16

Applicant: 中国科学院光电技术研究所

Inventor： 赵玺竣 ,  范斌 ,  何一苇 ,  苏海冰 ,  杨虎 ,  钟烁 ,  张豪

IPC: G02B27/00

Abstract: 本发明公开了一种单片式宽波段衍射计算成像方法，解决了应用传统衍射元件成像时成像系统结构复杂、成本高、波段窄的问题。本发明提供的衍射计算成像方法，可以在仅使用单片衍射镜片的情况下，实现可见光波段下高色彩保真度的清晰成像。本发明涉及光学设计与图像处理领域，包括如下步骤：根据应用需求对传统衍射元件进行消色差优化设计，根据消色差优化后的衍射元件的点扩散函数设计复原算法，使用该算法对消色差衍射透镜的成像图像进行复原，最终实现可见光波段下单片衍射元件的计算成像，具有低成本、轻量化、宽波段等优势，同时保持高色彩保真度的清晰成像。

公开(公告)号：CN114624877B

公开(公告)日：2023-03-31

申请号：CN202210257098.3

申请日：2022-03-16

Applicant: 中国科学院光电技术研究所

Inventor： 郑伊迪 ,  雷柏平 ,  何一苇 ,  范斌 ,  杨虎

IPC: G02B27/00 ,  G02B5/18

Abstract: 本发明公开了一种工作在红外波段的大视场衍射透镜的设计方法，不同于目前通过反算相位或者优化方法得到近似的微结构高度，而是直接对微结构进行计算，并提供了一种可以被光学设计软件加载的自定义面型，这种自定义面型可以得到目前光学设计软件中没有的，类似于菲涅尔透镜的突变结构。并且得到的微结构可以使用光线追迹法做进一步处理，比如计算离焦，PSF等数据还可以进行图像分析及处理等操作。本发明可以直接通过光学设计中所需波长以及材料折射率对微结构高度进行直接计算以及模拟，在可见光以及红外波段中均适用。

公开(公告)号：CN114647079A

公开(公告)日：2022-06-21

申请号：CN202210256490.6

申请日：2022-03-16

Applicant: 中国科学院光电技术研究所

Inventor： 赵玺竣 ,  范斌 ,  何一苇 ,  苏海冰 ,  杨虎 ,  钟烁 ,  张豪

IPC: G02B27/00

Abstract: 本发明公开了一种单片式宽波段衍射计算成像方法，解决了应用传统衍射元件成像时成像系统结构复杂、成本高、波段窄的问题。本发明提供的衍射计算成像方法，可以在仅使用单片衍射镜片的情况下，实现可见光波段下高色彩保真度的清晰成像。本发明涉及光学设计与图像处理领域，包括如下步骤：根据应用需求对传统衍射元件进行消色差优化设计，根据消色差优化后的衍射元件的点扩散函数设计复原算法，使用该算法对消色差衍射透镜的成像图像进行复原，最终实现可见光波段下单片衍射元件的计算成像，具有低成本、轻量化、宽波段等优势，同时保持高色彩保真度的清晰成像。

公开(公告)号：CN114624877A

公开(公告)日：2022-06-14

申请号：CN202210257098.3

申请日：2022-03-16

Applicant: 中国科学院光电技术研究所

Inventor： 郑伊迪 ,  雷柏平 ,  何一苇 ,  范斌 ,  杨虎

IPC: G02B27/00 ,  G02B5/18

Abstract: 本发明公开了一种工作在红外波段的大视场衍射透镜的设计方法，不同于目前通过反算相位或者优化方法得到近似的微结构高度，而是直接对微结构进行计算，并提供了一种可以被光学设计软件加载的自定义面型，这种自定义面型可以得到目前光学设计软件中没有的，类似于菲涅尔透镜的突变结构。并且得到的微结构可以使用光线追迹法做进一步处理，比如计算离焦，PSF等数据还可以进行图像分析及处理等操作。本发明可以直接通过光学设计中所需波长以及材料折射率对微结构高度进行直接计算以及模拟，在可见光以及红外波段中均适用。