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公开(公告)号：CN115265425B
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202210666743.7
申请日：2022-06-14
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B15/04
Abstract: 本发明提供了一种衍射元件微观形貌对宏观性能影响的评估方法。通过图像处理算法将加工误差引入到元件表面三维微观形貌模型中，利用衍射元件光波调制分析方法计算衍射元件对入射光波的调制作用及局部衍射效率；采用标量衍射积分公式计算元件焦面及离焦面光强，采用相位差法反演得到元件的波前像差，采用改进的局部光栅方程描述衍射元件的宏观性能，实现衍射元件微观加工误差对宏观性能影响的评估。该方法打通了衍射元件微观形貌与宏观性能的联系，为微结构加工误差定量化研究提供了基本方法，同时使用改进的光栅方程描述衍射元件宏观性能，打通了与传统光线追迹技术的接口，解决了衍射成像系统的性能可预测性，可降低衍射元件应用风险。
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公开(公告)号：CN115980997A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202211633112.1
申请日：2022-12-19
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种宽波段折衍混合镜头设计方法。首先将光谱范围划分为多个子区间，应用材料的正色散特性与衍射微结构的负色散特性相互补偿实现光谱子区间的色差校正，采用多波长复用微纳结构实现多个光谱子区间的衍射相位函数功能，显著拓展单片折衍混合透镜的色差校正能力，充分发挥了折衍混合透镜综合性能，可简化折衍混合镜头设计，提高了衍射元件在宽谱段的适用性。采用本发明所述的设计方法可实现特定场景下单片折衍混合镜头宽波段成像，极大简化了系统复杂度，可显著降低镜头研制成本。
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公开(公告)号：CN115877389A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211621320.X
申请日：2022-12-16
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供了一种高精度望远镜主次镜相对位置和姿态实时测量装置及方法，解决了望远镜在工作时次镜相对于主镜空间位置和姿态的高精度实时测量问题。该装置包括高精度激光测距仪、角锥棱镜和数据处理系统。利用激光测距仪、角锥棱镜测量望远镜次镜上六个点到望远镜主镜上对应点的六个距离量，再利用本发明提供的解算方法解算出望远镜次镜相对于主镜的偏心和倾斜等位姿变化量。本发明测量装置及方法具有结构简单、精度高、实时测量的特点。
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公开(公告)号：CN112526760A
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：CN202011507367.4
申请日：2020-12-18
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B27/42
Abstract: 本发明提出了一种多谱段复合结构光学系统，包括主镜(1)、第一中继镜(2)、第二中继镜(3)、次镜(4)、汇聚镜(5)和转折镜(6)，由主镜(1)、第一中继镜(2)、第二中继镜(3)、次镜(4)组成衍射成像光学系统，主镜(1)和次镜(4)放置在由第一中继镜(2)和第二中继镜(3)组成光路共轭位置实现可见光消色差，从而实现宽波段可见光成像。由第一中继镜(2)、第二中继镜(3)、汇聚镜(5)和转折镜(6)组成反射成像光学系统。该反射成像光学系统可对近红外、中波红外和远红外等谱段完善成像。该光学系统可实现可见光到红外波段的宽光谱成像。
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公开(公告)号：CN109491102A
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201910018435.1
申请日：2019-01-09
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种大口径薄膜衍射透镜光刻胶微结构制备方法及工装，解决了传统接近/接触式曝光方法制备大口径薄膜衍射透镜时不同半径区域无法获得相同优质形貌光刻胶微结构的问题。本发明提供的大口径薄膜衍射透镜光刻胶微结构制备方法，可以在不影响大口径薄膜衍射透镜波像差的情况下，制作出表面具有大面积优质光刻胶形貌的大口径薄膜衍射透镜。本发明可以稳定控制大口径薄膜衍射透镜光刻胶曝光过程中引起的波前畸变波动，全口径曝光间隙均匀性高，全口径光刻胶形貌优质，曝光工艺条件稳定易控制，重复性好，无毒无害，便于推广。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114663304B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202210257107.9
申请日：2022-03-16
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G06T5/00
Abstract: 本发明公开了一种基于稀疏先验的光学合成孔径系统成像增强方法。用来解决光学合成孔径系统由于阵列结构和共相误差影响下导致的成像退化问题。方法特点为将暗通道和图像梯度先验做为稀疏先验设计成像增强模型，方法流程为首先计算合成孔径系统阵列结构下的点扩散函数做为初始糢糊核输入，然后通过半二次分裂法对稀疏先验进行求解，求解模型估计最终的糢糊核和成像增强后的图像。本发明利用合成孔径系统固有的先验理论，具有适用范围广、实现简单以及增强效果好等优点。
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公开(公告)号：CN116424992A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202310433353.X
申请日：2023-04-21
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B66B5/28
Abstract: 本发明提供了一种基于电磁感应的升降机构减速装置。所述装置包括升降井、升降厢、厢底随动线圈、井壁导电板、井底固定线圈。厢底随动线圈固定布置在升降厢底部外侧，与升降厢共同上下。井壁导电板固定在升降井侧壁，井底固定线圈安装于升降井底部。当升降厢突然加速下坠时，加速度传感器监测并触发厢底随动线圈通电，升降厢随即转变为电磁铁，根据楞次定律井壁导电板产生感应电流减小升降厢下坠速度，同时触发井底固定线圈反向通电，磁场方向与厢底随动线圈磁场方向相反，进一步在升降厢接近井底时加以制动。有效提升了升降厢的防坠能力，避免了机械防坠装置的复杂结构，非接触式的防坠装置不用考虑磨损消耗，可以有效延长防坠装置的使用寿命。
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公开(公告)号：CN115265425A
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN202210666743.7
申请日：2022-06-14
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B15/04
Abstract: 本发明提供了一种衍射元件微观形貌对宏观性能影响的评估方法。通过图像处理算法将加工误差引入到元件表面三维微观形貌模型中，利用衍射元件光波调制分析方法计算衍射元件对入射光波的调制作用及局部衍射效率；采用标量衍射积分公式计算元件焦面及离焦面光强，采用相位差法反演得到元件的波前像差，采用改进的局部光栅方程描述衍射元件的宏观性能，实现衍射元件微观加工误差对宏观性能影响的评估。该方法打通了衍射元件微观形貌与宏观性能的联系，为微结构加工误差定量化研究提供了基本方法，同时使用改进的光栅方程描述衍射元件宏观性能，打通了与传统光线追迹技术的接口，解决了衍射成像系统的性能可预测性，可降低衍射元件应用风险。
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公开(公告)号：CN114608486A
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202210295309.2
申请日：2022-03-24
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B11/27
Abstract: 本发明公开了一种检测与调整衍架导轨平行度的方法，提高了这种分节桁架导轨在空间位置上平行度的检测精度。本发明借助激光跟踪仪首先调整了中间那根分节桁架导轨的直线度，然后以它的一端作为坐标原点建立空间坐标系，进而根据空间坐标调整左右两根分节桁架导轨各自的直线度和与中间那根的平行度，最后再重新复测三根分节桁架导轨的平行度。本发明借助激光跟踪仪的高精度，进而提高分节桁架导轨在空间位置上平行度的检测精度，而且操作简单，大大节约了时间成本。
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公开(公告)号：CN114518656A
公开(公告)日：2022-05-20
申请号：CN202210282533.8
申请日：2022-03-22
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种多波长共焦衍射元件及其设计方法，首先确定元件口径、焦距及使用波长；然后根据单波长聚焦元件设计公式确定每个波长对应的台阶加工区域及台阶高度；对多个单波长元件对应的台阶加工区域进行逻辑运算优化，得到新的台阶加工区域；根据使用需求，对多个单波长元件对应的台阶高度进行综合优化得到新的台阶高度；根据新的台阶加工区域与台阶高度，形成多波长共焦衍射元件加工文件。本发明所述的多波长共焦元件，使用一片衍射元件即可实现多波长共焦汇聚；其加工采用传统衍射元件加工方法，不增加工艺难度；其设计方法采用正向设计思路，无需复杂的迭代过程，对波长数值与元件口径没有限制，设计自由度高。
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