公开(公告)号：CN118551728A

公开(公告)日：2024-08-27

申请号：CN202410747801.8

申请日：2024-06-11

Applicant: 中国科学院光电技术研究所

Inventor： 谢宗良 ,  张浚哲 ,  马霞飞 ,  魏伟龙 ,  杨开元 ,  杨虎

IPC: G06F30/398 ,  G06F30/392 ,  G06F30/27 ,  G06N3/006

Abstract: 本发明公开了一种基于复合指标的光学干涉阵列孔径排布优化方法，包括以下步骤：根据预先确定的分布函数生成分布参考坐标；生成初始待优化阵列构成的粒子群；计算待优化的阵列排布矩阵中每个阵列排布方案的适应度；根据步骤三计算的适应度执行个体最优矩阵和全局最优矩阵更新；执行优化速度矩阵更新；执行阵列排布矩阵迭代优化：将待优化的阵列排布矩阵与步骤五得到的优化速度相加；保留适应度最低的阵列排布方案，判断该阵列排布方案是否满足终止迭代条件，若没有满足，返回步骤三继续进行；否则，输出全局最优个体及其评价函数和适应度曲线图。本发明方法适用性强，能针对不同孔径数量、不同特征分布函数进行优化。