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公开(公告)号：CN119411081A
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202411564174.0
申请日：2024-11-05
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种大面积粒子流增减材均匀性控制方法，包括以下步骤：按照粒子流在真空环境下的流场行进方向，调整粒子流产生源、粒子流机械调控装置、粒子流气体流场调控装置和基板夹持装置在真空腔室内的相对位置；将基板装载到基板夹持装置上；抽运空气，形成真空环境；启动基板装夹装置进行自转或行星运动；通过气体导管向粒子流气体流场调控装置充入气体；启动粒子流机械调控装置；启动粒子流产生源，对基板表面进行增减材处理；完成对基板表面的增减材处理后，用采样法检验增减材的均匀性效果，得到增减材效果达标的基板。基于粒子流与气体流场之间的相互作用原理，提高了大口径光学元件增减材效果的微观属性均匀性、元件性能和合格率。
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公开(公告)号：CN111999956A
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN202010768889.3
申请日：2020-08-03
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 , 成都信息工程大学
IPC: G02F1/19
Abstract: 本发明可用于对光电系统中的关键光探测器实施强激光智能防护，其具体地公开了一种智能激光防护结构、光探头及其光探测器，针对光探测器激光防护技术中防护性能难以提高的瓶颈问题，本发明提供了一种全新的解决问题的方案，本发明所设计的智能激光防护结构，由基于智能材料层的智能光偏折器、光学聚焦装置以及光阑组成，本发明利用强激光触发智能材料层相变从而引起的激光偏折效果，使激光聚焦焦斑偏离光阑通孔、并使之受遮挡，由此达到防护小孔光阑后方光探测器的目的。
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公开(公告)号：CN111286699A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN202010222435.6
申请日：2020-03-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供一种挡板修正方法、镀膜方法和装置，用于对平面行星式旋转镀膜工艺中挡板的形状进行修正，所述方法包括：获取待镀膜元件上多个待遮挡点的镀膜轨迹，以及获取每一待遮挡点对应的原始膜厚，以及获取待修正挡板中与多个待遮挡点对应的遮挡角；根据所述遮挡角确定所述待修正挡板的外形；根据每一待遮挡点对应的镀膜轨迹和所述待修正挡板的外形，计算得到所述待遮挡点对应的实际遮挡膜厚，所述实际遮挡膜厚为根据模拟所述待修正挡板进行遮挡后得到的；根据所有待遮挡点的原始膜厚以及对应的实际遮挡膜厚，对所述待修正挡板进行修正，得到目标挡板。通过理论计算的方式对挡板进行修正，可以提高挡板修正的精确和效率。
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公开(公告)号：CN111235527A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN202010164265.0
申请日：2020-03-10
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 一种制作光学薄膜的方法、膜系结构、镀膜方法、激光反射镜，属于光学设备领域。该方法包括：在基板之上，制作满足光谱指标的第一膜堆；在第一膜堆之上，制作满足面形指标的第二膜堆；在所述第二膜堆之上，制作满足损伤指标的第三膜堆。通过上述方法获得光学薄膜可以实现高综合指标的激光反射膜的高合格率制备。
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公开(公告)号：CN105714252B
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201610272054.2
申请日：2016-04-28
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明实施例提供了一种光学薄膜沉积扫描控制方法及系统，属于光学薄膜沉积扫描控制技术领域。所述方法包括：光电探测器将采集到的预设扫描区域内镀膜材料在电子束光斑扫描下熔化或升华时发出的光信号转化为电信号发送到数据处理装置；数据处理装置根据接收到的电信号优化电子束镀膜设备的电子枪发出的电子束光斑在坩埚内的扫描轨迹；电子束镀膜设备控制电子束光斑在坩埚内以优化后的扫描轨迹扫描镀膜材料，以使镀膜材料蒸发或升华并沉积在待镀元件表面。本发明实施例有效地提高了镀膜材料蒸发速度的稳定性以及扫描完成后镀膜材料的表面平整度，相对于现有的经验式优化调整方法，可控性更好、效率更高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107966750A
公开(公告)日：2018-04-27
申请号：CN201711177793.4
申请日：2017-11-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B1/10 , C23C16/40 , C23C16/455
Abstract: 本发明提供一种激光薄膜及其制备方法和应用，涉及光学薄膜技术领域。一种激光薄膜的制备方法，包括：以HfCl4和SiCl4作为前驱体，在90～110℃的条件下采用原子层沉积法在衬底上交替沉积制备HfO2激光薄膜和SiO2激光薄膜。制备方法简单，可控性强，制得的产品质量高。一种激光薄膜，由上述激光薄膜的制备方法制备而成。具有厚度小，高激光损伤阈值的特点。
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公开(公告)号：CN105714252A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201610272054.2
申请日：2016-04-28
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
CPC classification number: C23C14/30 , C23C14/54 , C23C14/543
Abstract: 本发明实施例提供了一种光学薄膜沉积扫描控制方法及系统，属于光学薄膜沉积扫描控制技术领域。所述方法包括：光电探测器将采集到的预设扫描区域内镀膜材料在电子束光斑扫描下熔化或升华时发出的光信号转化为电信号发送到数据处理装置；数据处理装置根据接收到的电信号优化电子束镀膜设备的电子枪发出的电子束光斑在坩埚内的扫描轨迹；电子束镀膜设备控制电子束光斑在坩埚内以优化后的扫描轨迹扫描镀膜材料，以使镀膜材料蒸发或升华并沉积在待镀元件表面。本发明实施例有效地提高了镀膜材料蒸发速度的稳定性以及扫描完成后镀膜材料的表面平整度，相对于现有的经验式优化调整方法，可控性更好、效率更高。
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公开(公告)号：CN119710605A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202411757922.7
申请日：2024-12-03
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C23C14/50 , C23C16/458
Abstract: 本发明提供了一种在真空系统中双面镀膜的翻转装置和镀膜方法，属于半导体晶圆镀膜技术领域。包括箱体、闸门、轨道组件以及夹持组件；箱体具有相互连通的镀膜腔体和翻转腔体，镀膜腔体用于安装镀膜器件；闸门安装于箱体以分隔镀膜腔体和翻转腔体；轨道组件安装于翻转腔体；夹持组件与轨道组件导向配合，以在镀膜腔体和翻转腔体之间往复移动，夹持组件用于夹取位于镀膜腔体中的样品，并将样品移动至翻转腔体中翻面。本发明通过设置样品在翻转腔体中翻面，镀膜腔体和翻转腔体连通，避免在镀膜过程中将样品取出翻面导致样品被污染的情况出现；并且，由于不需要在镀膜腔体中翻面，可适当缩小镀膜腔体的尺寸，从而提高对镀膜腔体的抽真空效率。
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公开(公告)号：CN113046715B
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202110273214.6
申请日：2021-03-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明适用于光学元件镀膜技术领域，提供了一种光学元件全口径镀膜装置及其方法，该镀膜装置包括夹持工装主体、夹持组件、侧面板、至少一个顶紧组件；所述夹持工装主体包括基板、至少两个限位块，所述基板上设置有容纳孔，所述限位块对称设置在所述容纳孔的四周；所述夹持组件滑动设置在所述限位块内；所述侧面板设置在所述限位块的两侧，与所述限位块固定连接；所述顶紧组件贯穿所述限位块，与所述夹持组件的端面抵接。本发明提供的镀膜装置设置了侧面板，夹持组件采用聚四氟乙烯材料，结构强度高，夹持应力小，不会对光学元件造成损伤，并且方便快捷、不易松动、掉落，可适用于需要全口径镀膜的中小尺寸的光学元件。
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公开(公告)号：CN111235527B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202010164265.0
申请日：2020-03-10
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 一种制作光学薄膜的方法、膜系结构、镀膜方法、激光反射镜，属于光学设备领域。该方法包括：在基板之上，制作满足光谱指标的第一膜堆；在第一膜堆之上，制作满足面形指标的第二膜堆；在所述第二膜堆之上，制作满足损伤指标的第三膜堆。通过上述方法获得光学薄膜可以实现高综合指标的激光反射膜的高合格率制备。
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