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公开(公告)号：CN119952539A
公开(公告)日：2025-05-09
申请号：CN202510208634.4
申请日：2025-02-25
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明公开了一种非球面光学元件加工方法，其特征在于包括有以下步骤：步骤一、建立加工表面质量与加工时间数据库；步骤二、开始光学元件加工，当工件Ⅰ完成磨削及检测后等待抛光或完成一轮抛光及检测后等待补偿抛光时，判断抛光机床加工状态；步骤三(a)、各工位最佳时间匹配：步骤三(b)、各工位最短时间匹配：步骤四、调整工件Ⅲ磨削阶段的目标表面质量等级再进行后续加工。与现有技术相比，本发明的非球面光学元件加工方法能够提高整体加工效率。
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公开(公告)号：CN114564688B
公开(公告)日：2024-12-24
申请号：CN202210107456.2
申请日：2022-01-28
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: G06F17/15 , G06N3/0499 , G06N3/084 , B24B1/00
Abstract: 本发明涉及一种基于BP神经网络确定离子束抛光去除函数的方法，通过有限次的法拉第扫描和线扫描实验建立数据库，确定离子束电流密度和去除函数分布系数之间的关系，根据法拉第扫描结果，通过线性公式计算去除函数峰值去除率，通过BP神经网络预测去除函数分布系数。本方法得到的去除函数信息与通过实验方法得到的去除函数信息基本相同，却极大的缩短了确定去除函数的时间；同时基于法拉第扫描结果确定去除函数，无需在元件表面进行去除函数实验，从而节约了成本；且本发明通过线性公式和BP神经网络来确定去除函数的分布信息，这种方法对于所有可用于离子束加工的材料均适用，不受材料特性的限制，可用于所有的离子束加工过程。
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公开(公告)号：CN118507327A
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202410793733.9
申请日：2024-06-19
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明公开了一种用于等离子体的防扩散污染装置，包括基座以及可拆卸安装在基座上的盖板；所述基座开设有供离子源激发射入的中空腔，所述盖板开设有与所述中空腔连通的连通孔；所述基座位于所述中空腔的一侧可拆卸安装有抽吸管，所述抽吸管的腔室与所述中空腔的腔室连通。本发明能够当离子束在不加工工件时，避免产生的等离子体会溅射真空腔体，造成污染。
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公开(公告)号：CN117012600A
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202310903961.2
申请日：2023-07-21
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 一种离子束束径调整装置，调整装置包括有基板，其特征在于：基板的一端底部设置有多个光阑基座，光阑基座固定有光阑，光阑的末端设有能固定在离子源前端的磁性底座，光阑的中间开有光阑小孔，基板的另一端底部设有连接件，连接件的底部设有法拉第杯，法拉第杯的中间设有法拉第杯小孔，基板上设有基板锁紧螺丝。采用磁性底座的光阑，能够实现光阑与离子源的快速固定，并且真空腔体中设置多套不同孔径的光阑，实现了不打开真空腔体自动更换光阑的目的，达到了离子束束径调整的要求；因此本发明不仅操作方便、结构合理、更换效率和精度高，应用于离子束抛光中离子束束径的调整和控制。
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公开(公告)号：CN116728171A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202310748104.X
申请日：2023-06-21
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 一种离子束抛光设备的上下料装置，其特征在于：包括移动小车，移动小车上设有一平台，平台上设有翻转机构，翻转机构包括翻转基座和翻转油缸，翻转基座通过翻转油缸可90°翻转地设置在平台上，工件固定在夹具体上、通过锁紧装置与翻转基座固定，通过翻转基座的翻转实现工件的水平姿态或竖直姿态的调整，移动小车上、平台的下方设有对平台进行横向移动及水平转动调节的横向调整机构和水平角度调整机构，翻转基座上设有可对夹具体进行纵向移动调节的纵向推送机构。本发明具有结构简单合理、操作灵活方便、安全性高的特点，而且对接精度高，可应用于超大口径光学元件离子束抛光的上下料。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114800926B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202210472210.5
申请日：2022-04-29
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B29B9/12
Abstract: 本发明公开了一种离子束加工聚合物微球的方法，S1、将待加工的聚合物微球依次装入基台的第一凹槽中，放置完成后，各聚合物微球的底面抵接在对应第一凹槽的内壁上，此时聚合物微球上半部外露的球面记为A面；S2、通过离子束依次对各聚合物微球的A面进行加工；S3、待所有聚合物微球的A面加工完成后，将背板盖设在基台上方，直到各聚合物微球的顶面抵接在对应第二凹槽的内壁上；S4、通过翻转机构将整个样品台上下翻转，然后移走基台，此时聚合物微球上半部外露的球面记为B面；S5、通过离子束依次对各聚合物微球的B面进行加工。与现有技术相比，本发明方法既能实现样品固定又能实现导电功能，且能够实现批量化加工。
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公开(公告)号：CN114689596A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202210278836.2
申请日：2022-03-17
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种光学元件表面缺陷检测装置，包括有：激光光源模块，用于发出激光光束并入射到待检测光学元件的表面；成像模块，用于收集散射光以形成检测图像；其特征在于：还包括：隔振平台，所述激光光源模块和成像模块均放置于该隔振平台上，用于在激光光源模块和成像模块扫描运动时隔离外界引起的振动。本发明的优点在于：通过设置隔振平台隔离激光光源模块和成像模块扫描运动时外界引起的振动，从而能减小外界扰动对系统的检测灵敏度和重复性造成影响，进而提高缺陷检测的抗干扰能力。因此该缺陷检测装置的检测灵敏度高且检测准确率高。
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公开(公告)号：CN110444459B
公开(公告)日：2021-11-23
申请号：CN201910652504.4
申请日：2019-07-19
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: H01J37/304 , H01J37/305
Abstract: 本发明涉及一种确定光学元件离子束均匀等速刻蚀最优延拓距离的方法，包括以下步骤：1)确定元件面形采样阵的采样间距和驻留时间面形的采样间距；2)等速均匀刻蚀；3)通过预测曲线确定驻留时间面形的最优延拓距离。设置边界因子，把不同γ值计算所得的加工时间t和材料去除量面形RMS值作图表示，每一个γ值的计算结果(tγ，RMSγ)对应于坐标系中的一个点，将这些点按照γ值由小到大的顺序连接起来就构成了一条曲线，称该曲线为“预测曲线”。合理的γ值应该是位于预测曲线上的拐点处，拐点处在较短的加工时间内可以实现较好地加工效果，有效提高对元件等速均匀刻蚀的加工效率。
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公开(公告)号：CN113172459A
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN202110370874.6
申请日：2021-04-07
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B23Q3/12
Abstract: 本发明涉及一种光学元件的车削定心装置，其特征在于：包括活动基座，用于安装在机床上；依次重叠的多个叶片，各叶片可摆动地设于所述活动基座上，多个叶片的内壁能够围合成供光学元件穿设的通孔，且所述活动基座安装于机床状态下，所述通孔的中心线与机床主轴的轴线同轴；驱动结构，用于驱动各叶片摆动以无极调节所述通孔的孔径；锁定结构，用于锁定所述通孔的孔径。本发明涉及的一种光学元件的车削定心装置，更易操作、工作效率高，而且，定心操作对操作者要求较低，定心精度高且定心稳定性更好，适用范围广。
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公开(公告)号：CN108441838B
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201810234663.8
申请日：2018-03-21
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种中大口径光学元件表面离子束溅射沉积薄膜的方法，该方法采用在光学元件的沉积面上选取中心区域以及多个边缘区域，各边缘区域沿沉积面的周向间隔布置，在沉积镀膜的过程中，光学元件转动，同时，离子源与靶材在光学元件沉积面的下方作曲线往复运动，从而完成镀膜，这样的镀膜方法使得中大口径光学元件表面沉积稳定且沉积薄膜的厚度均匀，并对光学元件沉积面上的中心与边缘的驻留时间比工艺参数进行修正，使得获得的沉积面上中心区域与各边缘区域的膜厚度更加均匀，提高了镀膜质量，更能满足需求，实用性强。
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