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公开(公告)号：CN104928647A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201510117064.4
申请日：2015-03-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/34 , C23C16/455 , H01L21/67
CPC classification number: C23C16/30 , C23C16/4408 , C23C16/45529 , C23C16/45531
Abstract: 本发明提供成膜方法和成膜装置。在成膜方法中，在真空气氛中形成含有掺杂元素的薄膜，其包括以下工序：吸附工序，自原料气体供给部向成为真空气氛的处理容器内供给原料气体并使该原料气体的原料吸附在基板上；掺杂工序，多次重复自掺杂气体供给部向处理容器内供给含有掺杂元素的掺杂气体并将掺杂气体封闭在处理容器内的步骤和对处理容器内进行真空排气的步骤；供给工序，自反应气体供给部向处理容器内供给用于与原料发生反应而生成反应生成物的反应气体；以及置换工序，该置换工序是在各工序之间进行的，置换处理容器内的气氛，一边使防逆流用气体自原料气体供给部、掺杂气体供给部及反应气体供给部向处理容器内流动，一边进行掺杂工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101423935B
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN200810179998.0
申请日：2008-10-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/44 , H01L21/302
CPC classification number: C23C16/481 , C23C16/52
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理装置的控制方法。根据设定温度分布对基板实施成膜处理，上述设定温度分布包括：在第一时间使温度从第一温度向第二温度变化的第一工序、仅在第二时间保持第二温度的第二工序、和在第三时间使温度从第二温度向第三温度变化的第三工序。基于温度-膜厚-第一关系、实际的处理例中的多个部位的测量膜厚和规定的目标膜厚，决定第一温度、第二温度和第三温度。计算根据与已决定的第一温度、第二温度及第三温度对应的设定温度分布进行处理的基板的多个部位的预计膜厚。在相对于规定的目标膜厚预计膜厚不在规定的允许范围内的情况下，变更第一时间、第二时间和第三时间中的至少任一个。
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公开(公告)号：CN102096412B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201010601253.6
申请日：2007-05-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: G05B23/0221 , G05B2219/32184 , G05B2219/32192 , G05B2219/45031 , Y02P90/22
Abstract: 本发明提供一种信息处理装置，其处理作为关于对包含半导体的处理对象物进行处理的半导体制造装置的处理时状态的值的状态值，其包括：接受状态值的状态值接受部；能够存储作为成为状态值的基准的值的基准值的基准值存储部；能够存储作为用于判断状态值是否是所要值的值的阈值的阈值存储部；算出关于状态值接受部接受的状态值和基准值之差的值与关于阈值和基准值之差的值之比的算出部；和输出所述算出部已算出的比的输出部。能够解决现有的信息处理装置中关于用不同的设定值进行的处理，难以容易地监视从各个半导体制造装置取得的值的问题。
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公开(公告)号：CN101495928B
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：CN200780028185.5
申请日：2007-07-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G05B19/418 , H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/66
CPC classification number: G05B21/02 , G05B23/0264 , H01L21/67757 , H01L21/67769 , H01L21/67772 , Y02P90/14 , Y02P90/18
Abstract: 以往的服务器装置中，存在无法恰当地指定使测定信息成为输出对象的期间的问题。本发明提供一种服务器装置，是构成具备对被处理基板进行规定处理的一个以上制造装置(11)的群管理系统的服务器装置(12)，其具备：测定信息保存部(1201)，其能够保存多个测定信息，该测定信息是具有由一个以上制造装置(11)执行了规定处理时的测定值和表示时刻的时刻信息的时间序列的信息；指示接收部(1205)，其接收包括确定规定起点的信息和有效时间的信息的测定信息的输出指示；测定信息取得部(1203)，其从测定信息保存部(1201)中取得从规定起点起在有效时间内的测定信息；输出信息构成部(1206)，其构成使用了所取得的测定信息的输出信息；输出部(1207)，其输出输出信息构成部(1206)所构成的输出信息。
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公开(公告)号：CN101501658A
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200780028213.3
申请日：2007-07-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: G05B23/0213 , H01L21/67276
Abstract: 以往的服务器装置存在无法有选择地输出与子配方对应的选择信息的问题。本发明提供一种服务器装置，具备：测定信息保存部(1201)，其可保存多个测定信息，该测定信息是具有由制造装置(11)执行规定配方时的测定值和表示时刻的时刻信息的信息；指示接收部(1205)，其接收测定信息的输出指示；测定信息取得部，其从测定信息保存部中取得由输出指示指定的测定信息；输出信息构成部(1206)，其构成使用了所取得的测定信息的输出信息；以及输出部，其输出输出信息构成部(1206)所构成的输出信息；输出指示具有指定在配方中被执行多次的子配方当中、在1个以上的期望次中被执行的子配方的指示，测定信息取得部(1203)取得与由输出指示指定的子配方对应的测定信息。
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公开(公告)号：CN101495928A
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200780028185.5
申请日：2007-07-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G05B19/418 , H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/66
CPC classification number: G05B21/02 , G05B23/0264 , H01L21/67757 , H01L21/67769 , H01L21/67772 , Y02P90/14 , Y02P90/18
Abstract: 以往的服务器装置中，存在无法恰当地指定使测定信息成为输出对象的期间的问题。本发明提供一种服务器装置，是构成具备对被处理基板进行规定处理的一个以上制造装置(11)的群管理系统的服务器装置(12)，其具备：测定信息保存部(1201)，其能够保存多个测定信息，该测定信息是具有由一个以上制造装置(11)执行了规定处理时的测定值和表示时刻的时刻信息的时间序列的信息；指示接收部(1205)，其接收包括确定规定起点的信息和有效时间的信息的测定信息的输出指示；测定信息取得部(1203)，其从测定信息保存部(1201)中取得从规定起点起在有效时间内的测定信息；输出信息构成部(1206)，其构成使用了所取得的测定信息的输出信息；输出部(1207)，其输出输出信息构成部(1206)所构成的输出信息。
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