采用等效物理结构模型测量SiO2薄膜厚度的方法

    公开(公告)号:CN109238155B

    公开(公告)日:2020-01-17

    申请号:CN201811296986.6

    申请日:2018-11-01

    Abstract: 本发明为一种采用等效物理结构模型测量SiO2薄膜厚度的方法,其特征在于:所述测量SiO2薄膜厚度的方法是基于椭偏法采用微纳米薄膜厚度标准样片结合等效物理结构模型进行测量SiO2薄膜的厚度,所述的等效物理结构模型是根据SiO2薄膜的实际多层膜物理结构模型建立的简化等效物理结构模型,实际多层膜物理结构模型顺序包括表面粗糙层、SiO2薄膜层、中间混合层及Si基底层,其中所述的中间混合层为Si基底层与SiO2薄膜层之间反应产生的SixOy产物膜层。本发明可保证不同厂家、型号的椭偏仪建立薄膜物理结构模型的统一性与结果的一致性,为建立和完善微纳米薄膜量值溯源体系奠定基础。

    一种微纳米台阶标准样板及其循迹方法

    公开(公告)号:CN106931916A

    公开(公告)日:2017-07-07

    申请号:CN201710130912.4

    申请日:2017-03-07

    CPC classification number: G01B21/042 G01B15/00 G01Q40/02

    Abstract: 本发明为一种微纳米台阶标准样板及其循迹方法,其特征在于:所述的微纳米台阶标准样板包括A工作区域及B循迹区域;所述的A工作区域内设有一个纳米级台阶、四个校准定位块及四个循迹参考定位块,通过所述B循迹区域内两对相互对称的等腰三角形形状的循迹标识符配合设置的设计单位标识符和样板型号标识符,确定微纳米台阶标准样板摆放方向与具体位置,通过所述A工作区域内的四个校准定位块在A工作区域内从纵向上快速校准定位,通过所述A工作区域内的四个循迹参考定位块在A工作区域内从横向上快速进行定位,并通过两两循迹参考定位块间的间隙确定测量的初始位置,完成整个校准过程,实现快速、高效的定位和校准,并具有很好的重复性。

    共聚焦三维测量装置及其多孔径尼普科夫圆盘

    公开(公告)号:CN109375355A

    公开(公告)日:2019-02-22

    申请号:CN201811221733.2

    申请日:2018-10-19

    Abstract: 本发明涉及一种共聚焦三维测量装置及其多孔径尼普科夫圆盘,由于在多孔径尼普科夫圆盘上至少设有一个环形的扫描带,不同的扫描带中的透过孔的直径不同,这样,就可以根据显微物镜的放大倍率而选择具有合适直径的透光孔的扫描带来过滤和聚焦光线,从而使得合适直径的透光孔处于工作状态,使得测量装置的分辨力和精度指标达到最优状态。由此可见,本发明的一种共聚焦三维测量装置中的多孔径尼普科夫圆盘能够提高测量分辨力和精度。

    一种微球旋转夹持装置
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108362257A

    公开(公告)日:2018-08-03

    申请号:CN201810470517.5

    申请日:2018-05-17

    Abstract: 本发明公开了一种微球旋转夹持装置,主要解决现有原子力显微镜测量范围小,满足不了微球的全表面测量的技术问题。本发明技术方案为:一种微球旋转夹持装置,由X轴旋转夹持端、Y轴旋转夹持端、X向微移动平台及Y向微移动平台组成;所述的X轴旋转夹持端与Y轴旋转夹持端分别通过螺钉固定于Y向微移动平台、X向微移动平台。本发明可以实现微球的夹持,并可以将微球按一定的规律旋转一定的角度进行测量,以扩大原子力显微镜在微球表面的测量范围。

    一种二维栅格板的栅格点系统误差自校准方法

    公开(公告)号:CN104236501A

    公开(公告)日:2014-12-24

    申请号:CN201410483545.2

    申请日:2014-09-22

    Abstract: 本发明公开了一种二维栅格板的栅格点系统误差自校准方法,利用测量精度不高于栅格板本身的二维影像测量仪作为测量工具,将二维栅格板通过承载夹具安装在影像测量仪工作台上。通过影像测量仪读取栅格板上每个栅格点的坐标,接着将栅格板相对初始位置旋转90度,再次读取栅格板上每个栅格点的坐标,然后以初始位置为基准向左及向右各平移一个栅格间距,再次读取栅格板上每个栅格点的坐标。针对上述4个栅格位置或更多位置下的测量数据,建立测量系统矩阵方程,基于最小二乘法可以求解出二维栅格板的栅格点系统误差。本发明实现了利用低精度的影像测量仪标定二维栅格板的功能,无需额外的高精度标定工具,适用于各种类型的二维栅格板的精度标定。

    一种基于四象限光电探测器的三维微接触式测量装置及方法

    公开(公告)号:CN110726378B

    公开(公告)日:2024-09-17

    申请号:CN201911100142.4

    申请日:2019-11-12

    Abstract: 本发明涉及一种基于四象限光电探测器的三维微接触式测量装置及方法,在利用本发明的一种基于四象限光电探测器的三维微接触式测量装置对样品表面参数进行测量时,开启激光光源并对X轴四象限光电探测器、Y轴四象限光电探测器、Z轴四象限光电探测器进行校正之后,将测端球沿被测样品的表面接触扫描;测端球通过测针以及中心连接部带动四棱锥反射镜产生位置变化,从而使得四棱锥反射镜的三个反射面反射至X轴四象限光电探测器、Y轴四象限光电探测器、Z轴四象限光电探测器上的光斑产生偏移量;根据光斑所产生的偏移量可以得出测端球与样品表面接触点的X轴方向、Y轴方向、Z轴方向的坐标参数。

    用于测量内孔圆柱度的装置及其使用方法

    公开(公告)号:CN110160464B

    公开(公告)日:2024-07-23

    申请号:CN201910490623.4

    申请日:2019-06-06

    Abstract: 本发明涉及一种用于测量内孔圆柱度的装置及其使用方法,利用本发明的一种用于测量内孔圆柱度的装置对被测工件的被测内孔进行检测时,通过第一检测杆、第二检测杆和第三检测杆在不同测量截面检测得出测量值并计算出被测内孔在测量截面上的圆度误差,并根据每个测量截面处第一检测杆、第二检测杆、第三检测杆以及倾角传感器的测量值计算得出被测内孔中心线的直线度误差,根据所得出的各测量截面上的圆度误差及被测内孔中心线的直线度误差就能够计算得出被测内孔的圆柱度误差。由此可见,本发明的一种用于测量内孔圆柱度的装置及其使用方法能够方便地对工件的内孔参数进行检测。

    基于原子力显微镜的测量装置及台阶面测量方法

    公开(公告)号:CN111487441A

    公开(公告)日:2020-08-04

    申请号:CN202010451028.2

    申请日:2020-05-25

    Abstract: 本发明涉及一种基于原子力显微镜的测量装置及台阶面测量方法,原子力显微镜扫描头固定设置,在测量过程中静止不动,原子力显微镜扫描头扫描测量被测物体表面的轮廓面参数并生成检测信号,原子力显微镜信号调理装置将检测信号调理之后传递给平台控制器,平台控制器根据检测信号控制定位平台相对原子力显微镜扫描头运动而使原子力显微镜扫描头沿着被测物体表面扫描检测,计算机对检测信号进行处理而得出被测物体表面轮廓的参数。由此可见,本发明的一种基于原子力显微镜的测量装置及台阶面测量方法,能够方便地进行测量,测量过程中,原子力显微镜扫描头保持静止,避免了振动导致的测量误差,提高了测量准确性。

    用于测量内孔圆柱度的装置及其使用方法

    公开(公告)号:CN110160464A

    公开(公告)日:2019-08-23

    申请号:CN201910490623.4

    申请日:2019-06-06

    Abstract: 本发明涉及一种用于测量内孔圆柱度的装置及其使用方法,利用本发明的一种用于测量内孔圆柱度的装置对被测工件的被测内孔进行检测时,通过第一检测杆、第二检测杆和第三检测杆在不同测量截面检测得出测量值并计算出被测内孔在测量截面上的圆度误差,并根据每个测量截面处第一检测杆、第二检测杆、第三检测杆以及倾角传感器的测量值计算得出被测内孔中心线的直线度误差,根据所得出的各测量截面上的圆度误差及被测内孔中心线的直线度误差就能够计算得出被测内孔的圆柱度误差。由此可见,本发明的一种用于测量内孔圆柱度的装置及其使用方法能够方便地对工件的内孔参数进行检测。

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