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公开(公告)号:CN110927186A
公开(公告)日:2020-03-27
申请号:CN201910857098.5
申请日:2019-09-11
Applicant: 株式会社理学
Inventor: 达米安·库哈尔奇克
IPC: G01N23/20008 , G01N23/00
Abstract: 本公开涉及用于面探测器的保护装置。提供了用于保护面探测器免于与物体碰撞的保护装置和方法。保护装置设计为安装在面探测器上并包括:配置成安装在待保护的面探测器上的安装框架,其设计为至少部分覆盖待保护的面探测器的周边边缘表面;第一传感器单元,其布置在安装框架上且包括配置成检测物体在由安装框架围绕的面探测器的内部区域处的潜在碰撞并发出信号的光幕;第二传感器单元,其布置在安装框架上且包括配置成检测物体在面探测器的周边边缘区域处的潜在碰撞并发出信号的至少一个传感器。还提供了包括保护装置的X射线探测器系统和X射线分析系统。
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公开(公告)号:CN106290433B
公开(公告)日:2020-03-27
申请号:CN201610459652.0
申请日:2016-06-22
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01T1/24
Abstract: 本发明涉及X射线数据处理装置及其方法以及程序。提供一种不使用比较器等就能补正由像素阵列型的X射线检测器检测出的且受到电荷共享的影响的X射线强度的X射线数据处理装置。X射线数据处理装置根据由光子计数方式的像素阵列型的X射线检测器检测出的X射线的计数值来推定真值,其具备:管理部(210),其接收并管理每个检测部分的检测值;有效面积率算出部(230),其使用与检测部分相关的数据、和与射线源以及检测能量的阈值相关的数据来算出检测部分的受到电荷共享的影响的检测能力相对于原本的检测能力的比例,作为检测部分的有效面积率;和补正部(250),其以算出的有效面积率来补正被管理的计数值,从而推定真值。
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公开(公告)号:CN106290428B
公开(公告)日:2020-01-07
申请号:CN201610391502.0
申请日:2016-06-06
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/207 , G01N23/223
Abstract: 本发明提供一种能够消除分配后的计数值的统计偏差与其他位置不同地被估算的影响,并能够防止校正的影响残留的X射线数据处理装置、其方法以及程序。X射线数据处理装置(200)对由像素阵列型检测器检测到的X射线强度的计数值进行校正,具备:存储部(220),其对虚拟像素的形状以及位置与实际像素的形状以及位置的对应关系进行存储;和分配部(260),其使用对所存储的对应关系给予了随机性的对应关系,将实际像素的计数值分配给虚拟像素,将分配给虚拟像素的计数值作为校正结果来输出。
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公开(公告)号:CN108713138B
公开(公告)日:2019-09-06
申请号:CN201780016018.2
申请日:2017-02-16
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/207
Abstract: 本发明的多元素同时型荧光X射线分析装置包括:装载试样(1)的试样台(2);试样(1)的运送臂(22);使试样台(2)移动的工作台(11);照射一次X射线(7)的X射线源(8),其中,在试样台(2)上形成用于让运送臂(22)沿竖直方向通过的缺口部(2e),本底补偿机构(21)针对空白晶圆(1b)上的各测定点(Pn),将下述强度作为测定点(Pn)的本底强度而预先存储,该强度指,从测定点(Pn)的测定强度中扣除位于缺口部(2e)上的基准测定点(P0)的测定强度后的强度,针对分析对象试样(1a)的各测定点(Pn),从测定点(Pn)的测定强度中扣除测定点(Pn)的本底强度以进行补偿。
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公开(公告)号:CN107408417B
公开(公告)日:2019-06-21
申请号:CN201680018150.2
申请日:2016-03-23
Applicant: 株式会社理学
Inventor: 河原直树
IPC: G21K1/06 , G01N23/223
CPC classification number: G01N23/223 , G01N23/207 , G01N23/22 , G01N2223/315 , G21K1/06 , G21K1/062 , G21K1/067 , G21K2201/06 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/064 , G21K2201/067
Abstract: 本发明的双重弯曲X射线分光元件(1)夹持于凸模成形夹具(21)所具有的双重弯曲凸面(21a)、与凹模成形夹具(22)所具有的与双重弯曲凸面(21a)吻合的双重弯曲凹面(22a)之间,在加热到400℃~600℃、按照具有双重弯曲面的形状而变形的玻璃板(3)的凹面(3a)上,形成反射X射线的反射膜(5)。
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公开(公告)号:CN106461579B
公开(公告)日:2019-05-07
申请号:CN201580019383.X
申请日:2015-01-14
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/207
Abstract: 针对从试样(S)衍射来的聚光X射线(2),根据布拉格条件用单色仪(60)仅使特定波长的X射线反射,进而通过受光狭缝(30),利用X射线检测器(20)进行检测。单色仪(60)做成装卸自如,配置于使来自试样(S)的聚光X射线(2)直接地收敛时的聚光点(2a)与该试样(S)之间。此时,单色仪(60)尽可能接近上述聚光点(2a)。另外,单色仪(60)由内部的栅格面间隔从一端到另一端连续地变化的多层膜反射镜构成。
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公开(公告)号:CN109709118A
公开(公告)日:2019-05-03
申请号:CN201811238458.5
申请日:2018-10-23
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/20 , G01N23/20008
CPC classification number: G21K1/06 , G01N23/20016 , G01N23/207 , G21K1/025
Abstract: 本发明提供一种索勒狭缝、X射线衍射装置以及方法,即便在基于GIXD的测定中X射线照射区域在试料表面上展宽,检测器上的衍射像在面内方向也不会展宽,能够以短的测定时间且高的分辨率来进行测定。索勒狭缝(100)具备多个金属制的薄板(110),所述多个金属制的薄板(110)各自相对于底面垂直,相互隔开规定的角度间隔被排列为拱形,使得从特定的焦点向放射方向通过X射线,该索勒狭缝(100)被设置于以掠入射X射线衍射用的角度被照射至试料并在试料面上被衍射的X射线以测角器圆的中心为特定的焦点来通过的位置而被使用。
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公开(公告)号:CN108449980A
公开(公告)日:2018-08-24
申请号:CN201680049835.3
申请日:2016-08-19
IPC: G01N23/041 , G01N23/20 , A61B6/00
Abstract: 在使用利用了X线等的波动性进行高灵敏度放射线摄影的光栅的装置中,本发明提供可拍摄对装置相对移动的试件的技术。像素值运算单元(51)使用在与放射线的路径交叉方向上移动的试件(10)的多个强度分布图像,判定试件上的点(p,q)是否属于各强度分布图像上的区域(Ak)。而且,像素值运算单元(51)通过将属于各区域(Ak)的点(p,q)中的各强度分布图像上的像素值相加在一起,求各区域(Ak)中的合计像素值(Jk)。图像运算单元(52)使用区域(Ak)中的合计像素值(Jk),生成需要的放射线图像。
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公开(公告)号:CN107923859A
公开(公告)日:2018-04-17
申请号:CN201680049794.8
申请日:2016-08-26
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/207
CPC classification number: G01N23/223 , G01N23/207 , G01N23/2076 , G01N23/2209 , G01N2223/076
Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置所具有的定量分析条件设定机构(13)针对多个标准试样(14)进行定性分析,根据其结果,设定在定量分析条件下的分析对象试样(1)的测定线的峰测定角度,并且将经过定性分析的多个标准试样(14)的峰形合成,求出单一的假想外形,根据假想外形和预定的峰形的半值宽度,设定在定量分析条件下的分析对象试样(1)的测定线的背景测定角度。
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公开(公告)号:CN107402223A
公开(公告)日:2017-11-28
申请号:CN201710349100.9
申请日:2017-05-17
Applicant: 株式会社理学
Inventor: 姬田章宏
IPC: G01N23/00
Abstract: 本发明提供一种能够使用户容易理解所选择的X射线光学系统的测定的X射线分析的操作指导系统、操作指导方法以及操作指导程序。所述X射线分析的操作指导系统具有:测定信息取得单元,其取得试样的信息和多个X射线测定光学系统部件各自的信息;试样放大倍率取得单元,其取得放大试样进行显示的放大倍率;入射X射线形状变形单元,其确定在与光轴方向垂直的平面上按照放大倍率放大入射X射线的形状的入射X射线的变形形状;散射X射线形状变形单元,其确定在与光轴方向垂直的平面上按照放大倍率放大散射X射线的形状的散射X射线的变形形状;以及X射线测定光学系统建模单元,其对按照放大倍率放大试样的形状的试样的变形形状、入射X射线的变形形状以及散射X射线的变形形状进行建模。
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