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公开(公告)号：CN107923859A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201680049794.8
申请日：2016-08-26
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/207
CPC classification number: G01N23/223 , G01N23/207 , G01N23/2076 , G01N23/2209 , G01N2223/076
Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置所具有的定量分析条件设定机构(13)针对多个标准试样(14)进行定性分析，根据其结果，设定在定量分析条件下的分析对象试样(1)的测定线的峰测定角度，并且将经过定性分析的多个标准试样(14)的峰形合成，求出单一的假想外形，根据假想外形和预定的峰形的半值宽度，设定在定量分析条件下的分析对象试样(1)的测定线的背景测定角度。
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公开(公告)号：CN107923859B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201680049794.8
申请日：2016-08-26
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/207
Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置所具有的定量分析条件设定机构(13)针对多个标准试样(14)进行定性分析，根据其结果，设定在定量分析条件下的分析对象试样(1)的测定线的峰测定角度，并且将经过定性分析的多个标准试样(14)的峰形合成，求出单一的假想外形，根据假想外形和预定的峰形的半值宽度，设定在定量分析条件下的分析对象试样(1)的测定线的背景测定角度。
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公开(公告)号：CN107209132A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680006771.9
申请日：2016-08-26
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/207
CPC classification number: G01N23/223 , G01N23/207 , G01N23/2076 , G01N23/2209 , G01N2223/076
Abstract: 本发明的扫描型的荧光X射线分析装置包括定量分析条件设定机构(13)，该机构根据标准试样(14)的定性分析结果和半定量分析结果，针对预先确定的试样组成元素以外的新检测元素，根据荧光X射线相对分析对象元素的分析值的吸收激励影响度、与干扰线相对分析对象元素的分析线的重叠影响度，判断是否应作为分析对象元素来追加。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115038959B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202180007827.3
申请日：2021-04-05
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/2209
Abstract: 本发明提供一种能够简便地确认遮蔽入射到检测器的荧光X射线的一部分的机构是否正常安装的荧光X射线分析装置、判断方法和判断程序。一种荧光X射线分析装置具有：X射线源(104)、索勒狭缝(110)、分光元件(112)和检测器(114)，其特征在于，具有：判断用部件(106)，其包含在照射一次X射线时产生规定能量的荧光X射线的元素；视野限制部(108)，其为可拆卸的构成，限制从试样和所述判断用部件产生的荧光X射线中的入射到所述检测器的荧光X射线；存储部(122)，其在所述视野限制部正常安装的情况下，预先存储所述判断用部件产生的所述规定能量的荧光X射线的强度；以及判断部(120)，其基于所述存储部存储的强度和所述检测器测量的强度，判断所述视野限制部是否正常安装。
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公开(公告)号：CN114868013A
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202180007475.1
申请日：2021-09-10
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置包括判定机构(21)和饱和厚度定量机构(23)，该判定机构(21)针对应测定强度的二次X射线的全部的测定线，判定基于已假定的厚度和已知的各成分的含有率而计算的薄膜中的理论强度相对于基于已知的各成分的含有率而计算的块体中的理论强度的比是否超过规定的阈值，该饱和厚度定量机构(23)在通过判定机构(21)针对全部的测定线判定理论强度的比超过规定的阈值的场合，针对各测定线，基于已知的各成分的含有率而计算理论强度饱和的饱和厚度，将最厚的饱和厚度作为厚度的定量值。
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公开(公告)号：CN114868013B
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202180007475.1
申请日：2021-09-10
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置包括判定机构(21)和饱和厚度定量机构(23)，该判定机构(21)针对应测定强度的二次X射线的全部的测定线，判定基于已假定的厚度和已知的各成分的含有率而计算的薄膜中的理论强度相对于基于已知的各成分的含有率而计算的块体中的理论强度的比是否超过规定的阈值，该饱和厚度定量机构(23)在通过判定机构(21)针对全部的测定线判定理论强度的比超过规定的阈值的场合，针对各测定线，基于已知的各成分的含有率而计算理论强度饱和的饱和厚度，将最厚的饱和厚度作为厚度的定量值。
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公开(公告)号：CN115038959A
公开(公告)日：2022-09-09
申请号：CN202180007827.3
申请日：2021-04-05
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/2209
Abstract: 本发明提供一种能够简便地确认遮蔽入射到检测器的荧光X射线的一部分的机构是否正常安装的荧光X射线分析装置、判断方法和判断程序。一种荧光X射线分析装置具有：X射线源(104)、索勒狭缝(110)、分光元件(112)和检测器(114)，其特征在于，具有：判断用部件(106)，其包含在照射一次X射线时产生规定能量的荧光X射线的元素；视野限制部(108)，其为可拆卸的构成，限制从试样和所述判断用部件产生的荧光X射线中的入射到所述检测器的荧光X射线；存储部(122)，其在所述视野限制部正常安装的情况下，预先存储所述判断用部件产生的所述规定能量的荧光X射线的强度；以及判断部(120)，其基于所述存储部存储的强度和所述检测器测量的强度，判断所述视野限制部是否正常安装。
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公开(公告)号：CN107209132B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：CN201680006771.9
申请日：2016-08-26
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/207
CPC classification number: G01N23/223 , G01N23/207 , G01N23/2076 , G01N23/2209 , G01N2223/076
Abstract: 本发明的扫描型的荧光X射线分析装置包括定量分析条件设定机构(13)，该机构根据标准试样(14)的定性分析结果和半定量分析结果，针对预先确定的试样组成元素以外的新检测元素，根据荧光X射线相对分析对象元素的分析值的吸收激励影响度、与干扰线相对分析对象元素的分析线的重叠影响度，判断是否应作为分析对象元素来追加。
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