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公开(公告)号：CN107408417A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680018150.2
申请日：2016-03-23
Applicant: 株式会社理学
Inventor： 河原直树
IPC: G21K1/06 , G01N23/223
CPC classification number: G01N23/223 , G01N23/207 , G01N23/22 , G01N2223/315 , G21K1/06 , G21K1/062 , G21K1/067 , G21K2201/06 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/064 , G21K2201/067
Abstract: 本发明的双重弯曲X射线分光元件(1)夹持于凸模成形夹具(21)所具有的双重弯曲凸面(21a)、与凹模成形夹具(22)所具有的与双重弯曲凸面(21a)吻合的双重弯曲凹面(22a)之间，在加热到400℃～600℃、按照具有双重弯曲面的形状而变形的玻璃板(3)的凹面(3a)上，形成反射X射线的反射膜(5)。
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公开(公告)号：CN101558454B
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN200780046503.0
申请日：2007-11-16
Applicant: X射线光学系统公司
Inventor： 陈泽武
IPC: G21K1/06
CPC classification number: G21K1/06 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 一种用于接收和重定向X射线的衍射X射线光学器件。该光学器件包括至少两个层，所述层具有类似的或不同的材料组成和类似的或不同的晶体取向。所述层中的每一个显示出衍射效应，且他们的整体效应在接收的X射线上提供衍射效应。在一个实施例中，所述层为硅，且采用绝缘体上硅键合技术将所述层键合到一起。在另一实施例中，可以采用粘结键合技术。该光学器件可以为曲面、单色光学器件。
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公开(公告)号：CN102565108A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201110368861.1
申请日：2011-11-18
Applicant: 帕纳科有限公司
Inventor： P·菲维斯特
IPC: G01N23/20
CPC classification number: G21K1/06 , G21K2201/062
Abstract: 本发明涉及衍射仪及其使用方法。一种小型粉末衍射仪具有被布置为与用于安装粉末样品(14)的样品台(17)不大于300mm(在一个例子中，55mm)的一个或多个检测器(18)。尽管尺寸小，但是使用这样的几何结构仍然获得高分辨率：该几何结构实现了入射在样品(14)上的X射线的适当的发散和在单色仪晶体(12)上的使用掠出射条件的小斑点尺寸。
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公开(公告)号：CN1324613C
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN03819527.5
申请日：2003-06-19
Applicant: 谢诺思公司
IPC: G21K1/06
CPC classification number: B82Y10/00 , G21K1/06 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 本发明涉及具有横向梯度反射多层膜的光学单元(10)，该光学单元的反射表面用于反射锐角入射的X射线并产生二维光学效应，其特征在于所述反射表面由单一表面构成，所述表面根据对应于两个不同方向的两个曲率成型。本发明还涉及制造所述光学单元的方法，其特征在于该方法包括已经具有曲率的基质上镀膜，而且所述基质的曲率沿着第二不同方向。本发明还公开了用于产生和处理RX发散角度的X光反射仪的装置，包括如上所述的光学单元，结合到X射线源上，以便光源发出的X射线在二维方向上被处理，以便调整光源对于样本所发出的光束，X光束的入射角度不同于所考虑的样本。
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公开(公告)号：CN107424889A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201710551603.4
申请日：2013-02-27
Applicant: X射线光学系统公司
Inventor： Z·陈
IPC: H01J35/08 , G21K1/06 , G01N23/223
CPC classification number: H01J35/08 , G01N23/223 , G21K1/062 , G21K1/067 , G21K2201/062 , H01J35/14 , H01J2235/081 , H01J2235/084 , H01J2235/088
Abstract: X射线管包括靶，电子冲击在靶上以形成发散的X射线光束。该靶具有由第一和第二靶材料形成的表面，每种靶材料制造成发出对应的X射线能线图。第一X射线光学装置可设置用于朝向样品斑点引导该光束，该第一X射线光学装置使得发散的X射线光束从第一靶材料发出的能量单色化为第一能量；并且，第二X射线光学装置可设置用于朝向样品斑点引导该光束，该第二X射线光学装置使得发散的X射线光束从第二靶材料发出的能量单色化为第二能量。由第一和第二单色能量引起的样品斑点的荧光被用于测量样品中的至少一种元素的浓度，或者单独地测量涂层和底下的衬底中的元素。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102327119B
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201110145877.6
申请日：2011-06-01
Applicant: 西门子公司
Inventor： 菲利普.伯恩哈特
IPC: A61B6/00
CPC classification number: G21K1/06 , A61B6/4035 , A61B6/4441 , A61B6/544 , B82Y10/00 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/067
Abstract: 对于具有高的射线强度的准单色X射线，设置用于产生用于照射对象的准单色X射线的X射线装置，该X射线装置具有用于发送多色X射线的点状的射线源和用于衍射多色X射线的衍射装置，该衍射装置具有由具有平的表面的结晶材料构成的超镜，在该超镜中，结晶材料具有晶格的晶格层面距离的至少一个、特别是连续的变化，其中这样布置射线源和衍射装置，使得从多色X射线通过在超镜上的部分反射产生准单色X射线。
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公开(公告)号：CN101981651B
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN200980111618.2
申请日：2009-03-03
Applicant: X射线光学系统公司
IPC: H01J37/252 , G01N23/225
CPC classification number: G21K1/06 , G01N23/20008 , G01N23/223 , G01N2223/076 , G01N2223/1003 , G01N2223/315 , G01N2223/423 , G21K2201/062 , G21K2201/064 , H05G1/04
Abstract: 一种用于使用X射线射束照射试样斑的X射线分析装置。提供了一种具有源斑的X射线管，由该源斑生成具有特征第一能量和韧致辐射能量的发散X射线射束；第一X射线光学器件接收发散的X射线射束并朝试样斑指引射束，同时使射束单色化；和接收发散的X射线射束并朝试样斑指引射束同时使射束单色化为第二能量的第二X射线光学器件。第一X射线光学器件使来自源斑的特征能量单色化并且第二X射线光学器件使来自源斑的韧致辐射能量单色化。X射线光学器件可以是弯曲的衍射光学器件，用于从X射线管接收发散的X射线射束并且将射束聚焦在试样斑上。还提供了检测以检测和测量在例如包括玩具和电子产品的产品中的各种毒素。
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公开(公告)号：CN104132954A
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201410167870.8
申请日：2014-03-14
Applicant: 布鲁克AXS有限公司
Inventor： J·S·皮德森
IPC: G01N23/20
CPC classification number: G01N23/201 , G01N2223/314 , G21K1/04 , G21K1/046 , G21K2201/062
Abstract: 本发明涉及用于X射线散射分析的X射线分析系统。该X射线分析系统包括：X射线源，用于产生沿透射轴(3)传播的X射线的射束；至少一个具有孔隙的混合狭缝(5b)，该孔隙限定射束的横截面的形状；样品，由混合狭缝(5b)成形的射束照射到该样品上；X射线检测器，用于检测来自于该样品的X射线，其中混合狭缝(5b)包括至少三个混合狭缝元件(7)，每个混合狭缝元件(7)包括以锥角α≠0与基底(9)结合的单晶基板(8)，混合狭缝元件(7)的单晶基板(8)限制该孔隙，该X射线分析系统的特征在于，混合狭缝元件(7)沿透射轴(3)以一定偏移量交错布置。本发明的X射线分析系统表现出改进的分辨率和信噪比。
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公开(公告)号：CN101356589B
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：CN200680036327.8
申请日：2006-07-31
Applicant: 纽约州立大学研究基金会 , X射线光学系统公司
CPC classification number: B82Y10/00 , G21K1/06 , G21K7/00 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 一种X射线成像系统，包括具有至少一个将从X射线源300发出的X射线引向焦点360的点聚焦、弯曲单色光学器件320的光学设备。该至少一个点聚焦、弯曲单色光学器件提供指向焦点的聚焦单色X射线束，并且探测器350与该聚焦单色X射线对准。当对象340置于聚焦单色X射线束范围内的光学设备和探测器之间时，该光学设备有助于进行对象的X射线成像。在各种实施例中：每个点聚焦、弯曲单色光学器件具有双弯曲的光学表面；该光学设备有助于根据对象和探测器相对于焦点的放置进行被动式的图像缩小或者放大；并且可采用至少一个第二点聚焦、弯曲单色光学器件以有助于进行对象的折射率或者偏振束成像。
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公开(公告)号：CN101356589A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200680036327.8
申请日：2006-07-31
Applicant: 纽约州立大学研究基金会 , X射线光学系统公司
CPC classification number: B82Y10/00 , G21K1/06 , G21K7/00 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 一种X射线成像系统，包括具有至少一个将从X射线源300发出的X射线引向焦点360的点聚焦、弯曲单色光学器件320的光学设备。该至少一个点聚焦、弯曲单色光学器件提供指向焦点的聚焦单色X射线束，并且探测器350与该聚焦单色X射线对准。当对象340置于聚焦单色X射线束范围内的光学设备和探测器之间时，该光学设备有助于进行对象的X射线成像。在各种实施例中：每个点聚焦、弯曲单色光学器件具有双弯曲的光学表面；该光学设备有助于根据对象和探测器相对于焦点的放置进行被动式的图像缩小或者放大；并且可采用至少一个第二点聚焦、弯曲单色光学器件以有助于进行对象的折射率或者偏振束成像。
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