荧光X射线分析装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1877312B

    公开(公告)日:2010-12-01

    申请号:CN200610083463.4

    申请日:2006-05-30

    CPC classification number: G01N23/223 G01N2223/076

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种荧光X射线分析装置等,其可针对包含多个非测定元素的无法指定其原子序数的各种试样,在更宽的适合范围内充分而正确地进行分析。设置算出机构,其根据假定的元素的浓度计算由试样中的各元素产生的2次X射线的理论强度,按照该理论强度和通过检测机构测定的测定强度一致的方式,对上述假定的元素的浓度进行最佳化计算,算出试样的元素的浓度,上述算出机构针对不测定荧光X射线的非测定元素假定多个非测定元素的浓度,并且代替从试样中的非测定元素产生的2次X射线,采用其数量至少与假定浓度的非测定元素相同的1次X射线的散射线,所采用的1次X射线的散射线包含用试样散射之前的波长不同的散射线。

    荧光X射线分析装置和其所采用的程序

    公开(公告)号:CN101151524B

    公开(公告)日:2013-06-05

    申请号:CN200580049351.0

    申请日:2005-12-08

    CPC classification number: G01N23/223 G01N2223/076 G01N2223/305

    Abstract: 一种荧光X射线分析装置等,其通过FP法对试样的组分、面积密度进行分析,针对各种试样,可按照简便、并且将几何效果充分符合现实而添加的方式计算理论强度,足够正确地进行定量分析。包括计算机构(10),该计算机构(10)根据假定的组分,计算从试样(13)的各元素产生的二次X射线(6)的理论强度,按照该理论强度与通过上述检测机构(9)测定的测定强度换算为理论强度值的换算测定强度一致的方式,逐次近似地修正计算假定的组分,计算试样(13)的组分,上述计算机构(10)每当计算理论强度时,将试样(13)的大小与照射到试样表面(13a)的各位置的一次X射线(2)的强度和入射角φ作为参数,针对各光路模拟计算二次X射线(6)的理论强度。

Patent Agency Ranking