公开(公告)号：CN1947871B

公开(公告)日：2010-12-08

申请号：CN200610125768.7

申请日：2006-08-28

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 山本悟史 ,  松本隆雄

IPC: B08B7/00 ,  B08B7/04 ,  B08B1/02 ,  B08B3/02 ,  F26B5/00

Abstract: 一种基板处理装置，具有：紫外线照射部，其对基板(B)照射紫外线；清洗机构，其与紫外线照射部邻接配置，并将用于对基板(B)实施液处理的多个液处理工具相互邻接配置；基板输送机构，其具有使基板从紫外线照射部到清洗机构的刷洗处理部、双流体供给部、冲洗部移动的移动路径；气幕形成喷嘴，其形成将紫外线照射部与清洗机构之间的含有移动路径的空间分隔成紫外线照射部侧和清洗机构侧的气幕；液幕形成喷嘴，其形成将相互邻接的刷洗处理部、双流体供给部、冲洗部的各部分之间的至少一个的含有上述移动路径的空间分隔成基板移动方向(A)的上游侧和下游侧的液幕。在降低成本的同时，还提高封闭效果。

公开(公告)号：CN101178545B

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN200710142601.6

申请日：2007-08-15

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 井上正雄

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F7/70391 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7088

Abstract: 本发明提供一种以一次拍摄就能够检测出被检测物的位置的技术。图案绘制装置在成为处理对象的基板(9)上，作为定位区域(92)的规定范围内集中形成有多个定位标记(60)，这些定位标记为分别记录了基板(9)上的基准位置与自身之间的相对位置的信息记录码。在定位基板(9)时，由于拍摄这样集中着多个定位标记(60)的定位区域(92)而取得图像，所以即使将拍摄倍率设定为高倍率而缩小拍摄范围，也能够将多个定位标记(60)的某一个包含在图像之中。而且，作为像而包含在该图像中的一个定位标记(60)被设定为注视标记，根据图像中的注视标记导出基板(9)的位置，从而通过一次拍摄就能够检测出基板(9)的位置。

公开(公告)号：CN101028617B

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN200710084320.X

申请日：2007-02-27

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 吉田顺一 ,  增市干雄 ,  高村幸宏 ,  上野博之 ,  川越理史 ,  松家毅

IPC: B05C5/02 ,  B05B13/04 ,  B05C13/02 ,  B05C11/10 ,  H05B33/10

Abstract: 一种涂布装置以及涂布方法，该涂布装置具有载物台、喷嘴、以及局部环境生成机构。载物台将基板装载于其上表面。喷嘴在载物台上的空间中从其前端部喷出涂布液。局部环境生成机构对包含喷嘴喷出涂布液的空间和涂布了涂布液的基板的涂布部位的涂布空间局部地供给规定气体，在规定的环境中进行涂布液的涂布。

公开(公告)号：CN101303968B

公开(公告)日：2010-08-25

申请号：CN200810091639.X

申请日：2008-04-11

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 富藤幸雄 ,  中田宏幸 ,  松下佳彦

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  B08B3/02 ,  G03F7/26

Abstract: 一种基板处理装置，其防止附着在喷嘴部件上的处理液滴落到基板上。基板处理装置(1)具有：向输送中基板(S)的上表面从输送方向的上游侧向下游侧沿倾斜方向喷出冲洗液的液刀(16)和具备向该液刀(16)喷射空气的空气喷嘴(32)的气体喷射装置。而且，该基板处理装置(1)以如下方式构成，即，基于控制器(40)的控制，在液刀(16)的下方不存在基板(S)时，从上述空气喷嘴(32)向液刀(16)喷射空气。

公开(公告)号：CN101295630B

公开(公告)日：2010-07-14

申请号：CN200810094841.8

申请日：2008-04-28

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 仲野彰义 ,  迎垣孝一 ,  加护由一 ,  上野博之

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/302 ,  B08B1/00

CPC classification number: B08B1/04 ,  H01L21/67046

Abstract: 本发明的基板处理装置是一种用于对基板边缘部进行清洗处理的基板处理装置。该基板处理装置具有：基板保持机构，其用于保持基板；刷子，其具有清洗面，所述清洗面相对纵向倾斜，所述纵向是垂直于所述基板保持机构所保持的基板的表面的方向；刷子移动机构，其用于在所述纵向以及与该纵向正交的横向上移动所述刷子；负荷检测单元，其用于检测沿所述纵向施加到所述刷子的负荷；第一判断单元，其基于所述负荷检测单元的输出，判断所述刷子是否配置到基准位置，所述基准位置在向处理时位置导向所述刷子之际成为基准，其中，所述处理时位置是在进行清洗处理时所述刷子应配置的位置。

公开(公告)号：CN101221918B

公开(公告)日：2010-07-14

申请号：CN200710305600.9

申请日：2007-12-27

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 光吉一郎

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/683 ,  B65G49/07 ,  B65G49/06

CPC classification number: H01L21/67766 ,  H01L21/67781

Abstract: 本发明提供一种基板搬运装置、基板承载架和基板处理装置，该基板处理装置由分度器区和处理区组成，利用分度器机器人在分度器区和处理区之间搬运基板。分度器机器人包括在转动台上设置的上下的两个手部。一手部相对于另一手部沿铅垂方向移动。一手部和另一手部的高度差能够调整得与运载器的基板容置槽之间的间隔相同，该运载器容置有被搬入到分度器区内的基板。一手部和另一手部的高度差能够调整得与设置在分度器区和处理区之间的基板承载部的支承板之间的间隔相同。

公开(公告)号：CN101017332B

公开(公告)日：2010-05-26

申请号：CN200710006223.9

申请日：2007-02-07

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 三桥毅 ,  杉本宪司

IPC: G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种显影装置以及显影方法。将喷出显影液、漂洗液以及氮气的一体喷嘴配置在俯视状态下基板的旋转中心附近。控制部通过对电磁开闭阀进行操作，而在显影过程中使基板旋转的同时持续供给显影液，并在漂洗过程中结束显影液的供给之后即刻就开始漂洗液的供给，从而缩短显影过程的期间。另外，漂洗过程刚结束之后开始供给氮气，而移到干燥过程。由此，即使基板的接触角较大，也能抑制漂洗液的液滴的生成，来防止显影缺陷。

公开(公告)号：CN101013661B

公开(公告)日：2010-04-14

申请号：CN200710007901.3

申请日：2007-01-30

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 基村雅洋

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种通过处理液对基板进行处理的基板处理装置，维持处理液的处理性能并使基板处理装置的运转率提高的同时，能够降低处理液的消耗量和排液量。基板处理装置(1)在处理液的循环路径的中途具有冷却处理液的冷却机构(25)和除去处理液中的杂质的过滤器(26、27)。由此，使溶解在处理液中的杂质析出，并除去析出的杂质。因此，能够维持处理液的处理性能并对处理液进行再利用。还有，由于降低将处理液更换为新液的频率，所以基板处理装置的运转率提高的同时，处理液的消耗量和排液量被降低。

公开(公告)号：CN100570486C

公开(公告)日：2009-12-16

申请号：CN200510004307.X

申请日：2005-01-14

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 水端稔 ,  小八木康幸 ,  井上正雄

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种图形描绘装置(1)，包括：保持基板(9)的平台单元(3)；在X方向上移动平台单元(3)的平台移动机构(2)；水银灯(512)；具有光闸开口的光闸；具有多个掩模组开口的掩模组；在X方向上移动光闸的X方向移动机构，扫描通过了光闸开口和掩模组开口的光被引导到的光照射区域而描绘图形。在图形描绘装置(1)中，在图形的描绘开始点附近和描绘结束点附近，按照与平台单元(3)的移动速度相等的移动速度，在X方向上移动光闸，改变光照射区域的长度，调整图形的端部的累积光量，使之与图形上的其他部位的累积光量相等。

公开(公告)号：CN100565196C

公开(公告)日：2009-12-02

申请号：CN200510065123.4

申请日：2005-04-08

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 佐野洋 ,  西原荣治 ,  永田泰史 ,  今村淳志

IPC: G01N21/956 ,  G06K9/20 ,  G06T1/00 ,  G06T7/00

CPC classification number: G06T7/001 ,  G06T2207/30141

Abstract: 在表示图案(包括衬底上形成的接线)的基准二进制图像中，对于具有与对应于接线区域的像素值相同的像素值的特定区域进行侵蚀，以获取侵蚀图像，并将保留于侵蚀图像中的特定区域进行放大至与该侵蚀几乎相同的程度，以获取侵蚀和放大的图像。随后，产生该侵蚀和放大图像与基准二进制图像之差的图像，作为表示接线区域的接线图像。由此，可容易地提取作为细微图案区域的接线区域。通过基于该接线图像，为接线区域和其他区域设定各个不同的缺陷检测灵敏度，并根据这些缺陷检测灵敏度，检测一检查图像中的缺陷，可适当地检测衬底上的图案缺陷。