公开(公告)号：CN101140858A

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN200710149602.3

申请日：2007-09-05

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 基村雅洋

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/311 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/6708

Abstract: 回收槽内存储的处理液，借助泵的抽吸，经由配管，通过杂质去除过滤器及离子成分去除过滤器后，贮存在精制槽内。在杂质去除过滤器中，除去处理液中含有的杂质(例如，水分、蚀刻残渣或颗粒等)。在离子成分去除过滤器中，除去含酸性液体、HFE及亲水性有机溶剂的处理液中的离子成分(主要为阴离子)。例如，当采用氢氟酸(HF)作为酸性液体时，通过离子成分去除过滤器除去氟离子(F－)。另外，采用离子成分去除过滤器，也可以除去处理液中含有的水分、亲水性有机溶剂或金属离子等。

公开(公告)号：CN101013661A

公开(公告)日：2007-08-08

申请号：CN200710007901.3

申请日：2007-01-30

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 基村雅洋

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种通过处理液对基板进行处理的基板处理装置，维持处理液的处理性能并使基板处理装置的运转率提高的同时，能够降低处理液的消耗量和排液量。基板处理装置(1)在处理液的循环路径的中途具有冷却处理液的冷却机构(25)和除去处理液中的杂质的过滤器(26、27)。由此，使溶解在处理液中的杂质析出，并除去析出的杂质。因此，能够维持处理液的处理性能并对处理液进行再利用。还有，由于降低将处理液更换为新液的频率，所以基板处理装置的运转率提高的同时，处理液的消耗量和排液量被降低。

公开(公告)号：CN101154564B

公开(公告)日：2013-01-30

申请号：CN200710154356.0

申请日：2007-09-26

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 基村雅洋

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  B08B3/04 ,  F26B21/14

CPC classification number: B08B3/04 ,  B08B3/08 ,  B08B5/00

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，防止由在基板表面形成的复杂构造(沟道和空穴)引起的干燥不良。在处理槽(31)中用纯水对基板(9)进行的清洗处理结束后，通过从酒精供给部(37)向处理槽(31)供给酒精，用酒精置换处理槽(31)内的处理液(91)。在容器(40)内的处理槽(41)中对基板(9)进行利用氟系溶剂液体的清洗，然后，从处理槽(41)中提升基板(9)，在容器(40)内用氟系溶剂的气体进行干燥处理。

公开(公告)号：CN101013661B

公开(公告)日：2010-04-14

申请号：CN200710007901.3

申请日：2007-01-30

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 基村雅洋

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种通过处理液对基板进行处理的基板处理装置，维持处理液的处理性能并使基板处理装置的运转率提高的同时，能够降低处理液的消耗量和排液量。基板处理装置(1)在处理液的循环路径的中途具有冷却处理液的冷却机构(25)和除去处理液中的杂质的过滤器(26、27)。由此，使溶解在处理液中的杂质析出，并除去析出的杂质。因此，能够维持处理液的处理性能并对处理液进行再利用。还有，由于降低将处理液更换为新液的频率，所以基板处理装置的运转率提高的同时，处理液的消耗量和排液量被降低。

公开(公告)号：CN100514555C

公开(公告)日：2009-07-15

申请号：CN200710091405.0

申请日：2007-03-28

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 基村雅洋

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/67 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67173

Abstract: 本发明提供一种能够对基板执行良好的干燥处理的基板处理装置。喷出管设置在处理腔室内，喷出干燥气体。减压泵对处理腔室内进行排气而使之成为减压环境。干燥气体供给路径将在第一干燥气体生成部、第二干燥气体生成部中生成的干燥气体供给到喷出管。第一干燥气体生成部通过用氮气使存积在加热槽中的IPA液起泡来生成干燥气体。第二干燥气体生成部通过将在IPA蒸汽产生槽中蒸发的IPA蒸汽与氮气相混合来生成干燥气体。这样，将在多个干燥气体生成部生成的干燥气体供给到处理腔室内，能够提高处理腔室内的IPA蒸汽的浓度。因此，能够缩短干燥时间，提高干燥性能。

公开(公告)号：CN101276742B

公开(公告)日：2010-09-01

申请号：CN200810087412.8

申请日：2008-03-27

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 基村雅洋 ,  高桥弘明 ,  前川直嗣 ,  林豊秀

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/306 ,  B08B3/04 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10 ,  B08B3/12

Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，其有：有存积处理液的内槽和回收溢出的处理液的外槽的处理槽；供给配管，连通内外槽使处理液循环；第一分支配管，分流供给配管；分离装置，设于第一分支配管，分离处理液中的纯水和溶剂，排出纯水；第二分支配管，连通分离装置的上下游；纯水去除装置，设于第二分支配管，吸附去除纯水；注入管，设于供给配管，在分离装置下游注入纯水；溶剂注入装置，将溶剂注到注入管中；控制装置，在从注入管供纯水并用清洗基板的纯水清洗处理后，执行注入溶剂并置换纯水的置换处理后，切换至第一分支配管，通过分离装置执行去除纯水的分离去除处理，再切换至第二分支配管，通过纯水去除装置执行吸附并去除纯水的吸附去除处理。

公开(公告)号：CN101276742A

公开(公告)日：2008-10-01

申请号：CN200810087412.8

申请日：2008-03-27

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 基村雅洋 ,  高桥弘明 ,  前川直嗣 ,  林豊秀

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/306 ,  B08B3/04 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10 ,  B08B3/12

Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，其有：有存积处理液的内槽和回收溢出的处理液的外槽的处理槽；供给配管，连通内外槽使处理液循环；第一分支配管，分流供给配管；分离装置，设于第一分支配管，分离处理液中的纯水和溶剂，排出纯水；第二分支配管，连通分离装置的上下游；纯水去除装置，设于第二分支配管，吸附去除纯水；注入管，设于供给配管，在分离装置下游注入纯水；溶剂注入装置，将溶剂注到注入管中；控制装置，在从注入管供纯水并用清洗基板的纯水清洗处理后，执行注入溶剂并置换纯水的置换处理后，切换至第一分支配管，通过分离装置执行去除纯水的分离去除处理，再切换至第二分支配管，通过纯水去除装置执行吸附并去除纯水的吸附去除处理。

公开(公告)号：CN101154564A

公开(公告)日：2008-04-02

申请号：CN200710154356.0

申请日：2007-09-26

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 基村雅洋

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  B08B3/04 ,  F26B21/14

CPC classification number: B08B3/04 ,  B08B3/08 ,  B08B5/00

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，防止由在基板表面形成的复杂构造(沟道和空穴)引起的干燥不良。在处理槽(31)中用纯水对基板(9)进行的清洗处理结束后，通过从酒精供给部(37)向处理槽(31)供给酒精，用酒精置换处理槽(31)内的处理液(91)。在容器(40)内的处理槽(41)中对基板(9)进行利用氟系溶剂液体的清洗，然后，从处理槽(41)中提升基板(9)，在容器(40)内用氟系溶剂的气体进行干燥处理。

公开(公告)号：CN100562973C

公开(公告)日：2009-11-25

申请号：CN200710149602.3

申请日：2007-09-05

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 基村雅洋

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/311 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/6708

Abstract: 回收槽内存储的处理液，借助泵的抽吸，经由配管，通过杂质去除过滤器及离子成分去除过滤器后，贮存在精制槽内。在杂质去除过滤器中，除去处理液中含有的杂质(例如，水分、蚀刻残渣或颗粒等)。在离子成分去除过滤器中，除去含酸性液体、HFE及亲水性有机溶剂的处理液中的离子成分(主要为阴离子)。例如，当采用氢氟酸(HF)作为酸性液体时，通过离子成分去除过滤器除去氟离子(F-)。另外，采用离子成分去除过滤器，也可以除去处理液中含有的水分、亲水性有机溶剂或金属离子等。

公开(公告)号：CN101047116A

公开(公告)日：2007-10-03

申请号：CN200710091405.0

申请日：2007-03-28

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 基村雅洋

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/67 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67173

Abstract: 本发明提供一种能够对基板执行良好的干燥处理的基板处理装置。喷出管设置在处理腔室内，喷出干燥气体。减压泵对处理腔室内进行排气而使之成为减压环境。干燥气体供给路径将在第一干燥气体生成部、第二干燥气体生成部中生成的干燥气体供给到喷出管。第一干燥气体生成部通过用氮气使存积在加热槽中的IPA液起泡来生成干燥气体。第二干燥气体生成部通过将在IPA蒸汽产生槽中蒸发的IPA蒸汽与氮气相混合来生成干燥气体。这样，将在多个干燥气体生成部生成的干燥气体供给到处理腔室内，能够提高处理腔室内的IPA蒸汽的浓度。因此，能够缩短干燥时间，提高干燥性能。