公开(公告)号：CN101017332B

公开(公告)日：2010-05-26

申请号：CN200710006223.9

申请日：2007-02-07

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 三桥毅 ,  杉本宪司

IPC: G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种显影装置以及显影方法。将喷出显影液、漂洗液以及氮气的一体喷嘴配置在俯视状态下基板的旋转中心附近。控制部通过对电磁开闭阀进行操作，而在显影过程中使基板旋转的同时持续供给显影液，并在漂洗过程中结束显影液的供给之后即刻就开始漂洗液的供给，从而缩短显影过程的期间。另外，漂洗过程刚结束之后开始供给氮气，而移到干燥过程。由此，即使基板的接触角较大，也能抑制漂洗液的液滴的生成，来防止显影缺陷。

公开(公告)号：CN100411099C

公开(公告)日：2008-08-13

申请号：CN200510081090.2

申请日：2005-06-30

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 杉本宪司 ,  稻垣幸彦

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67178 ,  C03C17/002 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67253

Abstract: 一种基板处理设备，用于对基板进行处理，包括：多个处理装置，其对多个基板进行相同的涂布处理；传送机构，用于将所述多个基板传送到所述多个处理装置中的相应各个处理装置；以及压力控制元件，其用于控制所述多个处理装置内的压力，以便接收了由所述传送机构传送的所述多个基板的所述多个处理装置提供基本相同的处理结果。还公开了一种用于在基板上进行涂布处理的基板处理方法，其包括下述步骤：步骤a：将多个基板传送到多个处理装置中的相应各个处理装置；步骤b：利用压力控制元件控制多个处理装置内的压力，以便在步骤a中接收了所述多个基板的多个处理装置提供基本相同的处理结果；以及步骤c：利用多个处理装置对多个基板进行涂布处理。

公开(公告)号：CN101017332A

公开(公告)日：2007-08-15

申请号：CN200710006223.9

申请日：2007-02-07

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 三桥毅 ,  杉本宪司

IPC: G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种显影装置以及显影方法。将喷出显影液、漂洗液以及氮气的一体喷嘴配置在俯视状态下基板的旋转中心附近。控制部通过对电磁开闭阀进行操作，而在显影过程中使基板旋转的同时持续供给显影液，并在漂洗过程中结束显影液的供给之后即刻就开始漂洗液的供给，从而缩短显影过程的期间。另外，漂洗过程刚结束之后开始供给氮气，而移到干燥过程。由此，即使基板的接触角较大，也能抑制漂洗液的液滴的生成，来防止显影缺陷。

公开(公告)号：CN1719579A

公开(公告)日：2006-01-11

申请号：CN200510081090.2

申请日：2005-06-30

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 杉本宪司 ,  稻垣幸彦

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67178 ,  C03C17/002 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67253

Abstract: 一种基板处理设备，其包括负责涂布的多个第二涂布处理装置、用于通过供应通道供应洁净空气的气体供应机构、和单元控制器。各第二涂布处理装置设有控制板和排风扇装置。通过调整控制板的旋转角度来控制供应通道的开启。单元控制器基于预先确定的设置，调整各控制板的旋转角度，以独立地控制供应至第二涂布处理装置的空气供应量。由此，控制第二涂布处理装置内的压力，使第二涂布处理装置提供基本相同的处理结果。因此，可以抑制多个第二涂布处理装置之间的差异。