-
公开(公告)号：CN1947871A
公开(公告)日：2007-04-18
申请号：CN200610125768.7
申请日：2006-08-28
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 一种基板处理装置，具有：紫外线照射部，其对基板(B)照射紫外线；清洗机构，其与紫外线照射部邻接配置，并将用于对基板(B)实施液处理的多个液处理工具相互邻接配置；基板输送机构，其具有使基板从紫外线照射部到清洗机构的刷洗处理部、双流体供给部、冲洗部移动的移动路径；气幕形成喷嘴，其形成将紫外线照射部与清洗机构之间的含有移动路径的空间分隔成紫外线照射部侧和清洗机构侧的气幕；液幕形成喷嘴，其形成将相互邻接的刷洗处理部、双流体供给部、冲洗部的各部分之间的至少一个的含有上述移动路径的空间分隔成基板移动方向(A)的上游侧和下游侧的液幕。在降低成本的同时，还提高封闭效果。
-
公开(公告)号：CN1865097B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200610079865.7
申请日：2006-05-15
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板搬送装置，其能够不减低基板处理的生产量，在基板搬送路径上笔直的搬送基板的同时，将基板变更为倾斜姿势。辊支承机构(22)对搬送辊(21)在围绕向着与其旋转轴(211)的纵向方向中央部垂直的方向延伸的驱动轴(23)旋转而倾斜的状态下来进行支承，从而赋予为了变更基板的倾斜姿势而各搬送辊(21)必须具有的倾斜。由多个搬送辊(21)构成的基板搬送路径并不上下动作，通过各辊支承机构(22)对各搬送辊(21)赋予的倾斜，从而能够改变搬送中的基板的倾斜姿势。
-
公开(公告)号：CN100446177C
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200610164290.9
申请日：2006-12-08
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/304 , B08B1/02 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法及基板处理装置，能够减轻进行清洗时给基板表面所带来的损伤，同时能够确保充分的清洗功能。该装置具有：长状的清洗刷(221)，其具有由多根刷毛构成的毛束；搬送辊，其在与清洗刷(221)延伸的方向交叉的方向上，相对清洗刷(221)搬送基板(B)；支撑机构，其使清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)的前端(50H)朝向搬送辊的基板(B)搬送方向下游侧，且使清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)的侧面部(50F)接触于该基板的上表面的状态，从而支撑清洗刷(221)；处理液供给喷嘴(231)，其对于由支撑机构所支撑的清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)供给处理液。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1947871B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200610125768.7
申请日：2006-08-28
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 一种基板处理装置，具有：紫外线照射部，其对基板(B)照射紫外线；清洗机构，其与紫外线照射部邻接配置，并将用于对基板(B)实施液处理的多个液处理工具相互邻接配置；基板输送机构，其具有使基板从紫外线照射部到清洗机构的刷洗处理部、双流体供给部、冲洗部移动的移动路径；气幕形成喷嘴，其形成将紫外线照射部与清洗机构之间的含有移动路径的空间分隔成紫外线照射部侧和清洗机构侧的气幕；液幕形成喷嘴，其形成将相互邻接的刷洗处理部、双流体供给部、冲洗部的各部分之间的至少一个的含有上述移动路径的空间分隔成基板移动方向(A)的上游侧和下游侧的液幕。在降低成本的同时，还提高封闭效果。
-
公开(公告)号：CN100440446C
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200610071492.9
申请日：2006-03-29
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/304 , F26B15/12 , B08B5/02
Abstract: 本发明提供一种不需要使装置大型化且装置的制造比较容易、并防止从基板面除去了的处理液成为雾滴而再次附着在基板面上、而能够高效除去附着在基板面上的装置。在处理室(10)的相对于基板(W)的搬送路线而配置了风刀(20a)的空间侧，并在风刀(20a)配置位置的基板搬送方向的上游侧设置有排气口(16a)，在处理室(10)的内部，在垂直方向竖立设置有使从风刀(20a)的喷射口喷射而吹拂到基板(W)上的气体向排气口(16a)流动的多张整流板(22)。
-
公开(公告)号：CN1983516A
公开(公告)日：2007-06-20
申请号：CN200610164290.9
申请日：2006-12-08
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/304 , B08B1/02 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法及基板处理装置，能够减轻进行清洗时给基板表面所带来的损伤，同时能够确保充分的清洗功能。该装置具有：长状的清洗刷(221)，其具有由多根刷毛构成的毛束；搬送辊，其在与清洗刷(221)延伸的方向交叉的方向上，相对清洗刷(221)搬送基板(B)；支撑机构，其使清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)的前端(50H)朝向搬送辊的基板(B)搬送方向下游侧，且使清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)的侧面部(50F)接触于该基板的上表面的状态，从而支撑清洗刷(221)；处理液供给喷嘴(231)，其对于由支撑机构所支撑的清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)供给处理液。
-
公开(公告)号：CN1865097A
公开(公告)日：2006-11-22
申请号：CN200610079865.7
申请日：2006-05-15
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板搬送装置，其能够不减低基板处理的生产量，在基板搬送路径上笔直的搬送基板的同时，将基板变更为倾斜姿势。辊支承机构(22)对搬送辊(21)在围绕向着与其旋转轴(211)的纵向方向中央部垂直的方向延伸的驱动轴(23)旋转而倾斜的状态下来进行支承，从而赋予为了变更基板的倾斜姿势而各搬送辊(21)必须具有的倾斜。由多个搬送辊(21)构成的基板搬送路径并不上下动作，通过各辊支承机构(22)对各搬送辊(21)赋予的倾斜，从而能够改变搬送中的基板的倾斜姿势。
-
公开(公告)号：CN1840997A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200610071492.9
申请日：2006-03-29
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: F26B15/12 , B08B5/02 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种不需要使装置大型化且装置的制造比较容易、并防止从基板面除去了的处理液成为雾滴而再次附着在基板面上、而能够高效除去附着在基板面上的装置。在处理室(10)的相对于基板(W)的搬送路线而配置了风刀(20a)的空间侧，并在风刀(20a)配置位置的基板搬送方向的上游侧设置有排气口(16a)，在处理室(10)的内部，在垂直方向竖立设置有使从风刀(20a)的喷射口喷射而吹拂到基板(W)上的气体向排气口(16a)流动的多张整流板(22)。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.028 seconds)
