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公开(公告)号：CN100446177C
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200610164290.9
申请日：2006-12-08
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/304 , B08B1/02 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法及基板处理装置，能够减轻进行清洗时给基板表面所带来的损伤，同时能够确保充分的清洗功能。该装置具有：长状的清洗刷(221)，其具有由多根刷毛构成的毛束；搬送辊，其在与清洗刷(221)延伸的方向交叉的方向上，相对清洗刷(221)搬送基板(B)；支撑机构，其使清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)的前端(50H)朝向搬送辊的基板(B)搬送方向下游侧，且使清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)的侧面部(50F)接触于该基板的上表面的状态，从而支撑清洗刷(221)；处理液供给喷嘴(231)，其对于由支撑机构所支撑的清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)供给处理液。
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公开(公告)号：CN1814357A
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：CN200510128972.X
申请日：2005-12-02
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 山本悟史
IPC: B08B1/02 , G02F1/1333 , H01L21/48 , H05K3/00 , H05K3/26
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其能够在确保充分的清洗功能的同时正确地搬运基板，而且基板清洗机构的制作容易。在搬运辊所支承的基板(B)的主面上，使清洗刷部(221、222)的毛束(50)的前端(50H)成为从该毛束(50)延伸的方向沿基板(B)的主面而向一个方向弯曲的状态，而使该前端(50H)与基板(B)的主面滑动接触。在该姿势下，前端(50H)与基板(B)的表面滑动接触的同时，该清洗刷部(221)沿与基板搬运方向垂直并与基板表面平行的方向往复移动，从而清洗搬运中的基板表面。
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公开(公告)号：CN100350555C
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：CN200510003993.9
申请日：2005-01-07
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/302 , H01L21/027 , B08B3/00 , B08B5/00 , C23G3/00
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，设置有在内部配置了处理装置的处理室，能够使装置小型化而且能够降低处理液的使用量。该基板处理装置包括：具有基板运入口(12)和基板运出口(14)的密闭型的处理室(10)；配置在处理室的内部的处理装置(16、18)；运送基板(W)的辊式运送机(20)，处理室的长度比基板运送方向上的尺寸小。该装置还设置有向处理室内供给清洁用空气的供气管(28)和从处理室内排出清洁用空气的排气管(30)，将处理室的内部环境与外部环境隔绝开。
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公开(公告)号：CN1836799A
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：CN200610006961.9
申请日：2006-01-26
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 山本悟史
IPC: B08B7/00 , B08B3/04 , F25C1/00 , G02F1/13 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种在将含有冰的微粒的处理液向基板的表面供给而进行基板的处理时、能够以不会产生处理不均匀的方式进行均匀处理、也不会损伤形成在基板上的膜层的装置。该装置具有：进行基板处理的基板处理部(10)；使纯水中含有冰的微粒的冰浆制造装置(12)；使气体溶解于冰浆中的装置；对冰浆进行加压的加压泵(52)以及加压槽(14)；将溶解气体且被加压的冰浆向基板处理部(10)供给的冰浆供给配管(56)。
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公开(公告)号：CN1811307A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200510124882.3
申请日：2005-11-23
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 山本悟史
Abstract: 本发明提供一种冰浆的制造装置以及基板处理装置，该冰浆的制造装置在由过冷却液体制造含有冰的微粒的处理液时，不会混入污染物质，且所生成的冰的微粒也不会溶解。该装置具备有主体部(10)，该主体部(10)在下部具有液体导入口(18)以及气体喷出口(24)，在上部具有含有冰的微粒的处理液的流出口(28)，从气体喷出口(24)向通过液体导入口(18)而被导入到主体部(10)内的过冷却液体喷出气体，解除过冷却状态，使所生成的含有冰的微粒的处理液从主体部(10)内通过流出口(28)而流出。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1947871B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200610125768.7
申请日：2006-08-28
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 一种基板处理装置，具有：紫外线照射部，其对基板(B)照射紫外线；清洗机构，其与紫外线照射部邻接配置，并将用于对基板(B)实施液处理的多个液处理工具相互邻接配置；基板输送机构，其具有使基板从紫外线照射部到清洗机构的刷洗处理部、双流体供给部、冲洗部移动的移动路径；气幕形成喷嘴，其形成将紫外线照射部与清洗机构之间的含有移动路径的空间分隔成紫外线照射部侧和清洗机构侧的气幕；液幕形成喷嘴，其形成将相互邻接的刷洗处理部、双流体供给部、冲洗部的各部分之间的至少一个的含有上述移动路径的空间分隔成基板移动方向(A)的上游侧和下游侧的液幕。在降低成本的同时，还提高封闭效果。
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公开(公告)号：CN100440446C
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200610071492.9
申请日：2006-03-29
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/304 , F26B15/12 , B08B5/02
Abstract: 本发明提供一种不需要使装置大型化且装置的制造比较容易、并防止从基板面除去了的处理液成为雾滴而再次附着在基板面上、而能够高效除去附着在基板面上的装置。在处理室(10)的相对于基板(W)的搬送路线而配置了风刀(20a)的空间侧，并在风刀(20a)配置位置的基板搬送方向的上游侧设置有排气口(16a)，在处理室(10)的内部，在垂直方向竖立设置有使从风刀(20a)的喷射口喷射而吹拂到基板(W)上的气体向排气口(16a)流动的多张整流板(22)。
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公开(公告)号：CN101154566A
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN200710161614.8
申请日：2007-09-27
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种使用包含微泡或纳米微泡的处理液的基板处理装置和基板处理方法，能使微泡或纳米微泡对基板有效地发挥作用。微泡清洗处理部(40)通过对注入到被压送的清洗液中的氮气的流量进行调节，能够调节清洗液中所包含的微泡的尺寸。因而，能够对应于成为除去对象的微粒的尺寸，大量地供应尺寸最佳的微泡，能够使微泡对基板有效地发挥作用。
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公开(公告)号：CN100338732C
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN200510006898.4
申请日：2005-02-05
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/304
Abstract: 一种基板处理装置，对不要进行规定处理的基板，能可靠排除进行该规定处理的处理单元引起的影响。基板处理装置(1)中，作为基板的运送路径，设置经由蚀刻单元(50)和分离单元(51)的主运送路径(MTR)、绕过蚀刻单元(50)的副运送路径(STR1)(传送带(30))和绕过分离单元(50)的副运送路径(STR2)(缓冲贮存器(41))。在主运送路径(MTR)和副运送路径(STR1、STR2)间设置进行基板交接的运送机械手(20～22)。这种构成中，例如不进行蚀刻处理的基板，控制部(80)选择副运送路径(STR1)作为运送路径，通过运送机械手(20)运送到传送带(30)，绕过蚀刻单元(50)进行运送。
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公开(公告)号：CN1983516A
公开(公告)日：2007-06-20
申请号：CN200610164290.9
申请日：2006-12-08
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/304 , B08B1/02 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法及基板处理装置，能够减轻进行清洗时给基板表面所带来的损伤，同时能够确保充分的清洗功能。该装置具有：长状的清洗刷(221)，其具有由多根刷毛构成的毛束；搬送辊，其在与清洗刷(221)延伸的方向交叉的方向上，相对清洗刷(221)搬送基板(B)；支撑机构，其使清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)的前端(50H)朝向搬送辊的基板(B)搬送方向下游侧，且使清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)的侧面部(50F)接触于该基板的上表面的状态，从而支撑清洗刷(221)；处理液供给喷嘴(231)，其对于由支撑机构所支撑的清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)供给处理液。
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