大电流多通道金属阴极
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106531591A

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201610881946.2

    申请日:2016-10-09

    CPC classification number: H01J3/025 H01J3/027

    Abstract: 本发明公开了一种大电流多通道金属空心阴极,包括阴极管、多根金属发射体和气路接口,阴极管为细长的难熔金属管,一端平行排列多根难熔金属发射体,金属发射体之间、金属发射体与阴极管内壁之间的表面相切,阴极管另一端与气路接口气密性焊接连接。本发明采用多根低逸出功高电子发射能力的金属棒材或管材,形成多发射通道,在有限尺寸条件下增大发射面积,提高了发射电流能力,无需外部加热器,内部通入一定流量的气体工质,外部施加一定的高电压,可直接点火发射100~500A的电子电流;单位面积的发射电流密度不超过10A/cm2,从而大大降低发射体表面温度和材料烧蚀率,有利于延长空心阴极和推力器的寿命。

    用于产生电子束的设备
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103299390B

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201180051544.5

    申请日:2011-09-08

    Abstract: 本发明涉及一种用于产生电子束的设备,其包括:壳体(12),该壳体(12)形成可排空的空间(13)的边界并且具有电子束出射开口;用于将工作气体输送到可排空的空间(13)中的入口(16);平面的阴极(14)和阳极(15),所述平面的阴极(14)和所述阳极(15)被布置在可排空的空间(13)中并且在所述平面的阴极(14)和所述阳极(15)之间借助所施加的电压可产生辉光放电等离子体,其中来自辉光放电等离子体的离子可被加速到所述阴极(14)的表面上。所述阴极具有:由第一材料制成的第一部分(14a),该第一部分(14a)构造所述阴极(14)的中央布置的第一表面区域;以及由第二材料制成的第二部分(14b),该第二部分(14b)构造所述阴极(14)的包围第一表面区域的第二表面区域。第一材料通过加载有被加速的离子而被加热到如下温度:在该温度下,电子主要由于热电子发射而从第一材料逸出。

    用于产生电子束的设备
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103299390A

    公开(公告)日:2013-09-11

    申请号:CN201180051544.5

    申请日:2011-09-08

    Abstract: 本发明涉及一种用于产生电子束的设备,其包括:壳体(12),该壳体(12)形成可排空的空间(13)的边界并且具有电子束出射开口;用于将工作气体输送到可排空的空间(13)中的入口(16);平面的阴极(14)和阳极(15),所述平面的阴极(14)和所述阳极(15)被布置在可排空的空间(13)中并且在所述平面的阴极(14)和所述阳极(15)之间借助所施加的电压可产生辉光放电等离子体,其中来自辉光放电等离子体的离子可被加速到所述阴极(14)的表面上。所述阴极具有:由第一材料制成的第一部分(14a),该第一部分(14a)构造所述阴极(14)的中央布置的第一表面区域;以及由第二材料制成的第二部分(14b),该第二部分(14b)构造所述阴极(14)的包围第一表面区域的第二表面区域。第一材料通过加载有被加速的离子而被加热到如下温度:在该温度下,电子主要由于热电子发射而从第一材料逸出。

    电子束处理设备
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1875452B

    公开(公告)日:2010-06-16

    申请号:CN200480031666.8

    申请日:2004-10-29

    CPC classification number: H01J37/317 H01J3/025 H01J37/077

    Abstract: 本发明的一个实施例是电子束处理设备,其包括:(a)室;(b)具有暴露到室的内部的相对较大面积表面的阴极(122);(c)其中具有孔的阳极(126),其暴露在室的内部并与阴极间隔工作距离;(d)布置在室内部面对阳极的晶片保持器(130);(e)负电压源(129),其输出施加到阴极以提供阴极电压;(f)电压源(131),其输出施加到阳极;(g)适合于允许气体以气体引入速率进入室的气体入口(129);和(h)适合于以排出速率从室排出气体的泵(135),所述引入速率和所述排出速率在室中提供气体压力;其中阴极电压、气体压力和工作距离的值设置为使得阴极和阳极之间没有电弧并且工作距离大于电子平均自由路径。

    电子束处理设备
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1875452A

    公开(公告)日:2006-12-06

    申请号:CN200480031666.8

    申请日:2004-10-29

    CPC classification number: H01J37/317 H01J3/025 H01J37/077

    Abstract: 本发明的一个实施例是电子束处理设备,其包括:(a)室;(b)具有暴露到室的内部的相对较大面积表面的阴极(122);(c)其中具有孔的阳极(126),其暴露在室的内部并与阴极间隔工作距离;(d)布置在室内部面对阳极的晶片保持器(130);(e)负电压源(129),其输出施加到阴极以提供阴极电压;(f)电压源(131),其输出施加到阳极;(g)适合于允许气体以气体引入速率进入室的气体入口(129);和(h)适合于以排出速率从室排出气体的泵(135),所述引入速率和所述排出速率在室中提供气体压力;其中阴极电压、气体压力和工作距离的值设置为使得阴极和阳极之间没有电弧并且工作距离大于电子平均自由路径。

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