公开(公告)号：CN1875452B

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200480031666.8

申请日：2004-10-29

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 亚历山德罗斯·T·迪莫斯 ,  哈里·K·波奈卡恩提 ,  赵军 ,  海伦·R·阿默

IPC: H01J37/077

CPC classification number: H01J37/317 ,  H01J3/025 ,  H01J37/077

Abstract: 本发明的一个实施例是电子束处理设备，其包括：(a)室；(b)具有暴露到室的内部的相对较大面积表面的阴极(122)；(c)其中具有孔的阳极(126)，其暴露在室的内部并与阴极间隔工作距离；(d)布置在室内部面对阳极的晶片保持器(130)；(e)负电压源(129)，其输出施加到阴极以提供阴极电压；(f)电压源(131)，其输出施加到阳极；(g)适合于允许气体以气体引入速率进入室的气体入口(129)；和(h)适合于以排出速率从室排出气体的泵(135)，所述引入速率和所述排出速率在室中提供气体压力；其中阴极电压、气体压力和工作距离的值设置为使得阴极和阳极之间没有电弧并且工作距离大于电子平均自由路径。

公开(公告)号：CN1875452A

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：CN200480031666.8

申请日：2004-10-29

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 亚历山德罗斯·T·迪莫斯 ,  哈里·K·波奈卡恩提 ,  赵军 ,  海伦·R·阿默

IPC: H01J37/077

CPC classification number: H01J37/317 ,  H01J3/025 ,  H01J37/077

Abstract: 本发明的一个实施例是电子束处理设备，其包括：(a)室；(b)具有暴露到室的内部的相对较大面积表面的阴极(122)；(c)其中具有孔的阳极(126)，其暴露在室的内部并与阴极间隔工作距离；(d)布置在室内部面对阳极的晶片保持器(130)；(e)负电压源(129)，其输出施加到阴极以提供阴极电压；(f)电压源(131)，其输出施加到阳极；(g)适合于允许气体以气体引入速率进入室的气体入口(129)；和(h)适合于以排出速率从室排出气体的泵(135)，所述引入速率和所述排出速率在室中提供气体压力；其中阴极电压、气体压力和工作距离的值设置为使得阴极和阳极之间没有电弧并且工作距离大于电子平均自由路径。

公开(公告)号：CN101142656A

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN200580048568.X

申请日：2005-12-21

Applicant: 应用材料公司 ,  测度有限公司

Inventor： 石川徹夜 ,  里克·J·罗伯茨 ,  海伦·R·阿默 ,  利昂·沃弗斯盖 ,  杰伊·D·皮森 ,  迈克尔·瑞斯 ,  大卫·H·喀什 ,  莫森·S·萨利克 ,  罗伯特·劳伦斯 ,  约翰·A·贝克尔 ,  威廉·泰勒·威维尔 ,  查尔斯·卡尔森 ,  重阳·王 ,  杰弗里·哈德更斯 ,  哈拉德·赫亨 ,  布赖恩·鲁

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67225 ,  G03B27/32 ,  G03D13/006 ,  G03F7/40 ,  G05B19/41825 ,  G05B2219/40476 ,  G05B2219/45031 ,  G05B2219/49137 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68707 ,  H01L22/26 ,  Y02P90/087 ,  Y10S414/135 ,  Y10S414/136 ,  Y10T29/53187 ,  Y10T29/5323

Abstract: 本发明的实施例大体上提供了使用多室处理系统(例如组合工具)处理衬底的装置和方法，所述多室处理系统具有更大吞吐量、更高可靠性，组合工具中处理过的衬底具有更具重复性的晶片历史，还具有较小的系统占地。在组合工具的一种实施例中，通过将衬底分组到一起并将衬底以两个或更多个为一组进行传送和处理以提高系统吞吐量，降低了拥有成本，并减少了机械手将一批衬底在处理室之间进行传送所需的运动次数，从而减小了机械手的磨损并提高了系统可靠性。这些实施例还提供了用于提高衬底传送处理的可靠性以减少系统不可用时间的方法和装置。