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公开(公告)号：CN114823269A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210039073.6
申请日：2022-01-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01J37/244
Abstract: 本公开涉及一种等离子体处理装置的异常探测方法和等离子体处理装置。等离子体处理装置具备沿着与窗构件对应的虚拟矩形平面配置的多个天线线圈，多个天线线圈的各天线线圈的一端与高频电源连接，且另一端经由电流计来与接地电位连接，虚拟矩形平面的至少一部分被划分为分别配置多个天线线圈中的任一天线线圈的多个区域，虚拟矩形平面具有被划分为多个合并区域的部分，各合并区域是将在虚拟矩形平面中配置于对称的位置的区域组合而成的，等离子体处理装置的异常探测方法包括以下工序：比较在多个合并区域的各合并区域中所包括的各区域配置的天线线圈的评价值，计算最大值与最小值之差，基于差来探测异常。
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公开(公告)号：CN116072498A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202211285523.6
申请日：2022-10-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供等离子体处理方法和等离子体处理装置。等离子体处理方法使用等离子体处理装置利用等离子体对基片进行处理，包括基于处理方案进行控制的控制工序，处理方案由多个处理步骤构成，对每个处理步骤设定了用于对基片进行处理的多个处理参数各自的参数值，在控制工序中，在将处理方案与预先确定的点火参照数据进行对照的结果是判断为难以通过基于该处理方案的控制使等离子体稳定地点火的情况下，执行包括等离子体的点火的处理步骤时，在经过等离子体达到稳定的稳定时间为止的期间，将多个处理参数中的一部分处理参数替换为与所设定的参数值不同的点火用参数值来进行控制，在经过稳定时间后，使用一部分处理参数的原来设定的参数值进行控制。
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公开(公告)号：CN113448889A
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN202110297921.9
申请日：2021-03-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种控制系统、控制方法以及基板处理装置，能够恰当地对装置进行操作。控制对基板进行处理的基板处理装置的控制系统具有：第一终端和第二终端，所述第一终端和所述第二终端配置于与所述基板处理装置相同的场所，从用户处接受针对所述基板处理装置进行的控制的指示；第三终端，其配置于与所述基板处理装置不同的场所，从用户处接受针对所述基板处理装置进行的控制的指示；以及控制装置，其在探测到所述基板处理装置的异常的情况下，将所述第三终端对所述基板处理装置进行的控制设为无效。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108257892B
公开(公告)日：2022-01-25
申请号：CN201711458470.2
申请日：2017-12-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种真空腔室和真空腔室的门的上锁方法，进一步提高在FPD等的制造装置的内部工作的操作者的安全性。搬送腔室(10)包括容器、顶板(13)、排气装置(41)、门(32)、电磁锁和控制装置(51)。容器具有收纳被处理基板的空间，在上部具有上部开口。顶板(13)开闭上部开口。排气装置(41)对容器内进行排气。门(32)设置在容器的侧面，操作者进入容器内时被打开。电磁锁对门(32)进行上锁和解锁。控制装置(51)控制电磁锁，使其以顶板(13)被打开且阻碍顶板(13)封闭上部开口的止挡件已安装在上部开口为条件将门(32)解锁。
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公开(公告)号：CN108257892A
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201711458470.2
申请日：2017-12-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种真空腔室和真空腔室的门的上锁方法，进一步提高在FPD等的制造装置的内部工作的操作者的安全性。搬送腔室(10)包括容器、顶板(13)、排气装置(41)、门(32)、电磁锁和控制装置(51)。容器具有收纳被处理基板的空间，在上部具有上部开口。顶板(13)开闭上部开口。排气装置(41)对容器内进行排气。门(32)设置在容器的侧面，操作者进入容器内时被打开。电磁锁对门(32)进行上锁和解锁。控制装置(51)控制电磁锁，使其以顶板(13)被打开且阻碍顶板(13)封闭上部开口的止挡件已安装在上部开口为条件将门(32)解锁。
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公开(公告)号：CN113448889B
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202110297921.9
申请日：2021-03-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种控制系统、控制方法以及基板处理装置，能够恰当地对装置进行操作。控制对基板进行处理的基板处理装置的控制系统具有：第一终端和第二终端，所述第一终端和所述第二终端配置于与所述基板处理装置相同的场所，从用户处接受针对所述基板处理装置进行的控制的指示；第三终端，其配置于与所述基板处理装置不同的场所，从用户处接受针对所述基板处理装置进行的控制的指示；以及控制装置，其在探测到所述基板处理装置的异常的情况下，将所述第三终端对所述基板处理装置进行的控制设为无效。
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公开(公告)号：CN115856462A
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202211122513.0
申请日：2022-09-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01R31/00 , G01R19/165 , H01J37/32
Abstract: 本公开涉及一种故障探测方法和等离子体处理装置。是等离子体处理装置中的处于多个局部窗与接地之间的阻抗调整部的故障探测方法，装置具有：金属窗，将处理容器内划分为天线室和处理室，金属窗具有多个局部窗；天线，用于生成电感耦合等离子体；以及静电吸盘，其中，阻抗调整部包括处于多个局部窗与接地之间的多个电容元件，该方法包括以下工序：向静电吸盘施加直流电压；开始电源用高频电力和/或偏压用高频电力的供给；稳定供给电源用高频电力和偏压用高频电力；在对基板进行处理的期间，测定在多个电容元件的各个电容元件产生的电容元件电压；基于多个电容元件的各个电容元件的电容元件电压与阈值的比较结果来判定多个阻抗调整部的故障。
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公开(公告)号：CN102820198A
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201210120760.7
申请日：2012-04-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32091 , H01J37/32174
Abstract: 本发明涉及高频电力分配装置以及使用其的基板处理装置，将从高频电源输出的高频电力均等地分配来提供的高频电力分配装置(4a)具有：配电部件(30)，其将被输入的高频电力分支成多份；同轴传输线(35)，其由将配电部件(30)所分支的高频电力向多个平行平板电极传输的中心供电线以及该中心供电线周围的接地线构成；阻抗调整机构(36)，其调整输入侧的阻抗以使电流值降低。配电部件(30)具有：由板状的导体构成的本体(31)；向本体(31)的一方主面的输入点(31a)输入高频电力的高频电力输入部(32)；在以本体(31)的另一方主面的与输入点(31a)对应的点为中心的圆周上，被等间隔地配置了多个的高频电力输出部(33)。
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