-
公开(公告)号：CN112420472A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN202010812039.9
申请日：2020-08-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 伊藤毅
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种基片处理装置及其制造方法和维护方法。基片处理装置具有处理容器，在设置于处理容器的壁部的第一贯通孔的内周面，和安装在壁部上的盖部件所具有的与第一贯通孔连通的第二贯通孔的内周面中的任一内周面配置有环状的导体，在第一贯通孔或者第二贯通孔安装有用于将第一贯通孔或者第二贯通孔的开口封闭的封闭部件，封闭部件由固定部固定在壁部，具有：插通体，其插通于第一贯通孔或者第二贯通孔，与内周面一起夹持导体；和凸缘，其与插通体连续地形成，具有比第一贯通孔或者第二贯通孔的开口大的平面面积。根据本发明，能够高效地对设置在被施加高频电功率的处理容器的壁部且能够配置环状的导体的贯通孔等进行封闭部件的拆装。
-
公开(公告)号：CN108878245A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810442611.X
申请日：2018-05-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种闸阀装置和基板处理系统，目的在于抑制基板的搬入搬出口的变形。闸阀装置与形成于在减压环境下对基板实施规定的处理的处理容器的侧壁的基板的搬入搬出口连接，包括：壁部，其形成有与搬入搬出口连通的开口部；和楔部件，其被插入位于开口上部的槽和位于搬入搬出口上部的槽，从搬入搬出口上部的槽的上表面支承搬入搬出口上部，其中，上述开口部是形成于壁部的开口部之上的部分，上述搬入搬出口上部是形成于处理容器的侧壁的搬入搬出口之上的部分。
-
公开(公告)号：CN101556911B
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN200910133378.8
申请日：2009-04-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够在由整流部件包围基板的周围的状态下进行等离子体处理的基板处理装置，在基板的搬入搬出时难以产生因颗粒等对基板造成的污染。在腔室(2)的载置台(3)上载置基板(G)，在将该基板(G)由整流部件(9)围绕的状态下，在腔室(2)内形成处理气体的等离子体，对基板(G)进行等离子体处理。在基板处理装置(1)中，整流部件(9)，至少存在于与基板搬入搬出口(31)对应的位置上的作为可动部件的侧板(9a)设置成能够移动到退避位置，以能够对于载置台(3)搬入搬出基板(G)。
-
公开(公告)号：CN107546171A
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201710499522.4
申请日：2017-06-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 伊藤毅
IPC: H01L21/687 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供即使在基板载置台的主体产生了变形时也能将升降销的高度位置控制在所期望的位置的基板升降机构、基板载置台和基板处理装置。在等离子体处理装置的处理容器内，设置在基板载置台(3)的载置台主体(5)的多个使基板升降的基板升降机构(8)包括：插通在基板载置台主体(5)的插通孔(5a)中、以相对于基板载置面突出和没入的方式可升降地设置、用其顶端支承基板的升降销(51)；在其内部可升降地支承升降销(51)且对升降销(51)进行引导的升降-引导部(52)；和对升降销(51)进行升降驱动的驱动部(54)，升降-引导部(52)和驱动部(54)由载置台主体(5)支承，且不由处理容器(底壁2a)支承。
-
公开(公告)号：CN101989563B
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201010236453.6
申请日：2010-07-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 伊藤毅
IPC: H01L21/683 , H01L21/677 , H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67109 , H01L21/68742
Abstract: 本发明提供一种能够使基板的面内温度均匀的基板载置机构和使用该基板载置机构的基板处理装置。基板载置机构(84a、84b、84c)包括：基板载置台(86)，用于载置基板(G)；加热器(87)，其用于隔着基板载置台(86)对基板(G)进行加热；基板升降构件(88)，其用于支承基板(G)的端部，能在将基板(G)载置在基板载置台(86)上的第1位置和从基板载置台(86)上升的第2位置之间升降；升降机构(93、94、95、96、97)，其用于使基板升降构件(88)升降，基板升降构件(88)在上述第1位置作为基板载置台(86)的一部分而发挥作用。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100477147C
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200710088378.1
申请日：2007-03-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/687 , H01L21/67 , H01L21/3065 , H01L21/311 , H01L21/00 , H05H1/46
Abstract: 本发明提供一种难以产生升降销对载置台本体的损伤的基板载置台。在基板处理中载置基板的基板载置台(4)包括载置台本体(4a)；和垂直地插入载置台本体(4a)中、设置为可自由升降以在载置台本体(4a)的表面上突出和没入、以其前端支承和升降基板的升降销(30)，其中，升降销(30)可处于没入在载置台本体(4a)内的退避位置；和从载置台本体(4a)突出、支承基板(G)的支承位置上，其具有弯折部(35)，当升降销(30)位于支承位置上，将比升降销(30)变形的力小的规定大小的横向力施加在载置台本体(4a)的表面位置或其上方位置时，该弯折部(35)弯折。
-
公开(公告)号：CN112420472B
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202010812039.9
申请日：2020-08-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 伊藤毅
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种基片处理装置及其制造方法和维护方法。基片处理装置具有处理容器，在设置于处理容器的壁部的第一贯通孔的内周面，和安装在壁部上的盖部件所具有的与第一贯通孔连通的第二贯通孔的内周面中的任一内周面配置有环状的导体，在第一贯通孔或者第二贯通孔安装有用于将第一贯通孔或者第二贯通孔的开口封闭的封闭部件，封闭部件由固定部固定在壁部，具有：插通体，其插通于第一贯通孔或者第二贯通孔，与内周面一起夹持导体；和凸缘，其与插通体连续地形成，具有比第一贯通孔或者第二贯通孔的开口大的平面面积。根据本发明，能够高效地对设置在被施加高频电功率的处理容器的壁部且能够配置环状的导体的贯通孔等进行封闭部件的拆装。
-
公开(公告)号：CN113161256B
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202011615450.3
申请日：2020-12-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本公开涉及一种水蒸气处理装置及方法、基板处理系统以及干蚀刻方法。一种水蒸气处理装置，具有：上腔室和下腔室，所述上腔室和下腔室上下层叠；以及隔离件，其介于所述上腔室及所述下腔室与第一闸门之间，与所述上腔室、所述下腔室以及所述第一闸门相连，其中，所述上腔室具备第一开口，所述下腔室具备第二开口，所述隔离件具备与所述第一开口及所述第二开口分别连通的第三开口及第四开口，所述第三开口及所述第四开口分别与所述第一闸门具备的第五开口及第六开口连通，所述上腔室及所述下腔室与共用的或单独的水蒸气的气化器连通，所述隔离件在所述第三开口的周围具备第一温度调节部，在所述第四开口的周围具备第二温度调节部。
-
公开(公告)号：CN111599712B
公开(公告)日：2024-03-05
申请号：CN202010086412.7
申请日：2020-02-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/28 , H01L21/336 , H01L29/417
Abstract: 本发明提供一种水蒸气处理装置和水蒸气处理方法，利用水蒸气对用处理气体实施了处理后的基片进行处理，该水蒸气处理装置包括：外侧腔室，其具有上下分隔开的第一处理室和第二处理室；第一内侧腔室，其被收纳于第一处理室中，以不与第一处理室的内壁面接触的方式载置在位于第一处理室的底面的固定部件上；第二内侧腔室，其被收纳于第二处理室中，以不与第二处理室的内壁面接触的方式载置在位于第二处理室的底面的固定部件上；对第一内侧腔室和第二内侧腔室分别供给水蒸气的水蒸气供给部；和从第一内侧腔室和第二内侧腔室分别进行排气的内侧排气部。由此，能够以高生产性对用处理气体实施了处理后的基片进行水蒸气处理。
-
公开(公告)号：CN117438266A
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202310843832.9
申请日：2023-07-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供防止部件脱落的基板支承构造和基板处理装置。一种基板支承构造，其具备多个基板支承销，基板支承销具有与基板抵接的基板支承构件和与基板支承构件连结的杆构件，基板支承构件具有：头部，其具有与基板抵接的基板抵接面和与杆构件抵接的第1抵接面；和插入部，其设于第1抵接面那侧，插入部具有：外螺纹部，其在外周面形成有外螺纹；和杆部，其形成在比外螺纹部靠近第1抵接面的位置，其直径比外螺纹部的直径小，杆构件具有：第2抵接面，其与基板支承构件的第1抵接面抵接；贯通部，其在内周面形成有能够与外螺纹部螺合的内螺纹；和内部空间，其与贯通部连通，形成在比贯通部远离第2抵接面的位置，其内径比外螺纹部的内径大。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
26
records
(took 0.028 seconds)
