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公开(公告)号：CN108267935A
公开(公告)日：2018-07-10
申请号：CN201810150752.4
申请日：2018-02-13
Applicant: 佛山尉达科技有限公司
Inventor： 不公告发明人
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70216 , G03F7/70833
Abstract: 本发明公开了一种曝光装置，包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架；光源组件、投影组件和承载台均设置于曝光腔室内；光源组件用于产生曝光光线；投影组件具有透镜、连杆构件、支撑构件以及驱动机构；支撑构件具有安装台，安装台由支撑部件和支承构件构成，第一、第二接收部件附接到支承构件的上端部；支撑部件是在上下方向延伸的棱柱部件，支承构件的下端部形成有向下方突出的锥形部分；支撑部件设置有筒状部，支承构件包括桩、一对条状支承件和一个板状部，形成于支承构件上的条状支承件的下端嵌合于筒状部。本发明能稳固地支撑投影组件中的透镜。
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公开(公告)号：CN108227400A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201711315833.7
申请日：2017-12-12
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70166 , G03F1/38 , G03F7/2004 , G03F7/2063 , G03F7/70033 , G03F7/70708 , G03F7/70716 , G03F7/70825 , G03F7/70833 , G03F7/70916
Abstract: 本发明提供一种光刻装置。该光刻装置包括：掩模版，具有彼此相反的第一表面和第二表面以及形成在第一表面上的图案区域；掩模版台，面对掩模版的第二表面，掩模版台用于夹住掩模版；在容纳掩模版和掩模版台的腔室内的保护导体；以及电源，用于供给电压到保护导体。
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公开(公告)号：CN107407889A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680013461.X
申请日：2016-01-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·巴特勒 , M·W·J·E·维杰克曼斯 , E·A·F·范德帕施 , C·A·霍根达姆 , B·A·J·勒提库斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70833 , G03F7/70725 , G03F7/709
Abstract: 一种光刻设备，包括：定位平台(WT)；隔离框架(300)；投影系统(PS)，包括第一框架(210)；第二框架(220)；支撑框架(10)，用于支撑定位平台；第一振动隔离系统(250)和第二振动隔离系统(270)，其中支撑框架和第一框架经由第一振动隔离系统而耦合；平台位置测量系统(400)，用于直接地确定定位平台的元件在一个或多个自由度中相对于隔离框架的元件的隔离框架参考的平台参考的位置；以及其中第一框架和隔离框架经由第二振动隔离系统而耦合。
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公开(公告)号：CN106444290A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610648286.3
申请日：2016-08-09
Applicant: 电子科技大学
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/2051 , G03F7/70383 , G03F7/70833
Abstract: 本发明为保证在局域等离子体共振(LSPR)接触光刻中探针的力学状态，提出一种抑制偏转角度的自适应弹性铰链的设计方法。本发明所采用的设计方法是：根据探针的工作模式，确定铰链必须为对称结构。由于光刻胶表面所承受的压强有限，确定臂的个数为4个。设计出两种弹性铰链结构，一种直线型弹性臂铰链，一种圆弧形弹性臂铰链。通过对比，选取圆形弧形弹性臂铰链。材料的选择，选取铍青铜作为铰链的制作材料。用单一变量法，分别确定铰链的尺寸。本发明所述的设计方法，能够满足较为苛刻的工作要求，对保证接触光刻中探针的力学状态有重大的意义，铰链具有很好抑制偏角能力，且根据不同的工作需求，也可使用本方法进行设计，适用性强。
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公开(公告)号：CN102893217B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201180022425.7
申请日：2011-04-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 约翰内斯·昂伍李 , 阿尔伯特·德克 , 约翰尼斯·斯皮尔蒂杰克 , 汉瑞克·德曼
CPC classification number: G03F7/70916 , G03F7/70383 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70808 , G03F7/70833 , G03F7/70883
Abstract: 公开了包括用于将束投影到衬底的目标部分上的光学装置列的光刻设备，该光学装置列具有配置成将束投影到目标部分上的投影系统。所述光刻设备还包括相对于衬底移动光学装置列或其至少一部分的致动器以及在光学装置列的移动部分和衬底的目标部分之间和/或在光学装置列的移动部分和光学装置列的不可移动部分之间的窗口(940)，所述窗口构造和布置在所述光刻设备中用于减小或最小化窗口的移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105487352A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201610087845.8
申请日：2016-02-16
Applicant: 武汉华星光电技术有限公司
Inventor： 龚冰
CPC classification number: G03F7/70925 , G02F1/1303 , G03F7/70833 , G03F7/70891
Abstract: 本发明提供一种曝光机及曝光灯的更换方法，所述曝光机包括外壳、集光镜、曝光灯、及数个喷气装置；所述数个喷气装置可在所述集光镜的上方进行伸缩；当曝光机正常工作时，数个喷气装置缩回至外壳顶部的外围而不影响正常曝光时光源的走向；当需要更换曝光灯时，关闭曝光灯后，通过将数个喷气装置伸出至其末端的出气口位于所述集光镜边缘区域的上方，对集光镜的内部及曝光灯进行喷气，从而使曝光灯实现快速降温，有效减少了曝光灯的更换时间，提升了设备稼动率；本发明的曝光灯的更换方法，可使曝光灯实现快速降温，并可避免更换曝光灯的过程中造成集光镜上粘附异物或灰尘。
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公开(公告)号：CN102681352B
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201210056867.X
申请日：2012-03-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇 , J·J·奥坦斯 , E·J·M·尤森 , J·H·W·雅各布斯 , W·P·范德兰特 , F·斯塔尔斯 , L·J·曼彻特 , E·W·博高特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/70833 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开一种光刻设备，包括衬底台位置测量系统和投影系统位置测量系统，分别用以测量衬底台和投影系统的位置。衬底台位置测量系统包括安装在衬底台上的衬底台参考元件和第一传感器头。衬底台参考元件在基本上平行于衬底台上的衬底的保持平面的测量平面内延伸。保持平面布置在测量平面的一侧并且第一传感器头布置在测量平面的相对侧。投影系统位置测量系统包括一个或多个投影系统参考元件和传感器组件。传感器头和传感器组件或相关的投影系统测量元件安装在传感器框架上。
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公开(公告)号：CN104081283A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201380006789.5
申请日：2013-01-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70775 , G03F7/70833 , G03F7/70858
Abstract: 一种光刻装置，包括用于容纳衬底的衬底台；用于将图案成像到衬底上的投影系统；以及用于测量衬底台相对于投影系统的位置的计量系统。计量系统包括连接至投影系统的计量框架，相对于计量框架静止定位的栅格，以及面向栅格的用于测量衬底台相对于栅格的位置且连接至衬底台的编码器。计量框架具有方向朝向衬底台的表面，并且该表面已经例如通过写或刻蚀被配置以便形成所述栅格。
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公开(公告)号：CN102736446B
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201210184248.9
申请日：2005-06-09
Applicant: 尼康股份有限公司 , 尼康工程股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70883 , G03F7/70341 , G03F7/70833 , G03F7/7085
Abstract: 一种曝光装置(EX)，是透过液体(LQ)将曝光用光(EL)照射于基板(P)，以使基板(P)曝光，具备：光学系统(PL)，具有与基板(P)对向的端面(T1)，使照射于基板(P)的曝光用光(EL)通过；以及液浸机构(11，21等)，是供应液体(LQ)且回收液体；该液浸机构具有板构件(172D)，该板构件具有以和基板(P)平行对向的方式配置于基板(P)与光学系统端面(T1)之间、且配置成包围曝光用光(EL)的光路的平坦面(75)；从供应口(12)将液体(LQ)供应至光学系统端面(T1)与板构件(172D)间的空间(G2)，且透过液体回收口(22)回收从该供应口供应的液体，该回收口(22)是在较该板构件的平坦面(75)更离开曝光用光(EL)光路的位置配置成与基板(P)对向。本发明还公开了一种元件制造方法。
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公开(公告)号：CN102124412B
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：CN200980131874.8
申请日：2009-07-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70833 , G03F7/70258 , G03F7/70483
Abstract: 提供了一种投影系统(PS)，该投影系统包括：传感器系统(20)，所述传感器系统(20)测量至少一个参数，所述参数与在所述投影系统(PS)内支撑光学元件(11)的框架(10)的物理变形相关联；和控制系统(30)，所述控制系统(30)基于来自所述传感器系统(20)的测量来确定由所述投影系统(PS)投影的所述辐射束的位置的预期偏离，所述预期偏离由所述框架(10)的物理变形引起。
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