公开(公告)号：CN114420523B

公开(公告)日：2025-04-15

申请号：CN202210041735.3

申请日：2016-11-30

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 任伟明 ,  刘学东 ,  胡学让 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/145 ,  H01J37/05 ,  H01J37/153 ,  H01J37/28 ,  G01N23/2251

Abstract: 披露了多个带电粒子束的设备。提出了一种多束设备中的二次投影成像系统，该二次投影成像系统使二次电子检测具有高收集效率和低串扰。该系统采用一个变焦透镜，一个投影透镜和一个防扫描偏转单元。变焦透镜和投影透镜分别执行变焦功能和防旋转功能，以相对于多个一次细束的着陆能量和/或电流保持总成像放大倍率和总图像旋转。防扫描偏转单元执行防扫描功能以消除由于多个一次细束的偏转扫描而导致的动态图像移位。

公开(公告)号：CN117133616A

公开(公告)日：2023-11-28

申请号：CN202311086210.2

申请日：2017-07-31

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 窦菊英 ,  樊征 ,  郭子毅 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/063 ,  H01J37/26 ,  H01J9/02

Abstract: 公开了电子发射器和制造电子发射器的方法。根据某些实施例，一种电子发射器包括尖端，其具有直径在约(0.05‑10)微米的范围内的平面区域。电子发射器尖端被配置为释放场发射电子。电子发射器进一步包括涂覆在尖端上的功函数降低材料。

公开(公告)号：CN111681939B

公开(公告)日：2023-10-27

申请号：CN202010663424.1

申请日：2016-07-21

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 任伟明 ,  刘学东 ,  胡学让 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/06 ,  H01J37/12 ,  H01J37/141 ,  H01J37/145 ,  H01J37/28

Abstract: 提出了一种用于以高分辨率和高生产能力观察样本的多束装置。在该装置中，源转换单元通过使来自一个单电子源的平行初级电子束的多个小束偏转来形成该单电子源的多个且平行的图像，并且一个物镜将多个偏转的小束聚焦到样本表面上，并在样本表面上形成多个探测点。可移动聚光透镜用于使初级电子束准直，并改变多个探测点的电流，预小束形成部件弱化初级电子束的库仑效应，并且源转换单元通过最小化并补偿物镜和聚光透镜的离轴像差来最小化多个探测点的尺寸。

公开(公告)号：CN111164725B

公开(公告)日：2023-08-29

申请号：CN201880063509.7

申请日：2018-09-25

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 刘学东 ,  席庆坡 ,  蒋友飞 ,  任伟明 ,  胡学让 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/02 ,  H01J37/04 ,  H01J37/28

Abstract: 本文公开了一种设备，该设备包括：带电粒子源，被配置为沿设备的主束轴发射带电粒子束；聚束透镜，被配置为使得束围绕主束轴集中；开孔；第一多极透镜；第二多极透镜；其中第一多极透镜相对于聚束透镜处于下游、并且相对于第二多极透镜处于上游；其中第二多极透镜相对于第一多极透镜处于下游、并且相对于开孔处于上游。

公开(公告)号：CN111066118B

公开(公告)日：2023-04-11

申请号：CN201880058003.7

申请日：2018-08-28

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 曾国峰 ,  董仲华 ,  王義向 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/28

Abstract: 本文公开了一种设备，包括：被配置为发射带电粒子的源、光学系统和台架；其中台架被配置为在其上支撑样本并且被配置为将样本在第一方向上移动第一距离；其中光学系统被配置为利用带电粒子在样本上形成探测点；其中光学系统被配置为在台架将样本在第一方向上移动第一距离时，将探测点同时在第一方向上移动第一距离并且在第二方向上移动第二距离；其中光学系统被配置为在台架将样本在第一方向上移动第一距离之后，将探测点在第一方向的相反方向上移动第一距离减去探测点之一的宽度。

公开(公告)号：CN115206757A

公开(公告)日：2022-10-18

申请号：CN202210998811.X

申请日：2018-07-18

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： F·N·张 ,  陈仲玮 ,  王義向 ,  Y·C·沈

IPC: H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01J37/04

Abstract: 公开了用于在带电粒子束装置中实施带电粒子浸没的系统和方法。根据特定实施例，带电粒子束系统包括带电粒子源和控制器，控制器控制带电粒子束系统以第一模式和第二模式发射带电粒子束，在第一模式中束被散焦，而在第二模式中束被聚焦在样本的表面上。

公开(公告)号：CN110383415B

公开(公告)日：2022-10-11

申请号：CN201880010544.2

申请日：2018-02-01

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 王勇新 ,  任伟明 ,  董仲华 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/28

Abstract: 提供了用于带电粒子检测的系统和方法。检测系统包括信号处理电路(502)，该信号处理电路(502)被配置为基于从多个电子感测元件(244)接收的电子强度数据来生成一组强度梯度。检测系统进一步包括束斑处理模块(506)，该束斑处理模块(506)被配置为：基于一组强度梯度来确定束斑的至少一个边界；以及基于所述至少一个边界来确定多个电子感测元件中的第一组电子感测元件在束斑内。束斑处理模块可以进一步被配置为：基于从第一组电子感测元件接收的电子强度数据来确定束斑的强度值，并且还基于强度值来生成晶片的图像。

公开(公告)号：CN114830287A

公开(公告)日：2022-07-29

申请号：CN202080088481.X

申请日：2020-12-17

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 任伟明 ,  龚子洲 ,  胡学让 ,  刘学东 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/141 ,  H01J37/153 ,  H01J37/244 ,  H01J37/29

Abstract: 公开了使用多束设备形成样本的图像的系统和方法。该方法可以包括在与多个初级电子束相互作用时从样本上的多个探测斑生成多个次级电子束。该方法还可以包括：调整与样本相互作用的多个初级电子束的取向，将多个次级电子束引导离开多个初级电子束，补偿多个被引导的次级电子束的像散像差，将多个被引导的次级电子束聚焦到焦平面上，通过带电粒子检测器检测多个被聚焦的次级电子束，以及将带电粒子检测器的检测平面定位在焦平面处或靠近焦平面。

公开(公告)号：CN110574139B

公开(公告)日：2022-06-03

申请号：CN201880027803.2

申请日：2018-04-04

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 胡学让 ,  任伟明 ,  刘学东 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/147 ,  H01J37/12

Abstract: 本文中公开了一种设备，其包括：第一导电层；第二导电层；多个光学元件，在第一导电层和第二导电层之间，其中多个光学元件被配置为影响多个带电粒子束；第三导电层，在第一导电层和第二导电层之间；以及电绝缘层，物理连接到光学元件，其中电绝缘层被配置为使光学元件与第一导电层和第二导电层电绝缘。

公开(公告)号：CN108738343B

公开(公告)日：2022-02-01

申请号：CN201680069949.4

申请日：2016-11-30

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 任伟明 ,  刘学东 ,  胡学让 ,  陈仲玮

IPC: G01N23/2251 ,  H01J37/10 ,  H01J37/153

Abstract: 提出了一种多束设备中的二次投影成像系统，该二次投影成像系统使二次电子检测具有高收集效率和低串扰。该系统采用一个变焦透镜，一个投影透镜和一个防扫描偏转单元。变焦透镜和投影透镜分别执行变焦功能和防旋转功能，以相对于多个一次细束的着陆能量和/或电流保持总成像放大倍率和总图像旋转。防扫描偏转单元执行防扫描功能以消除由于多个一次细束的偏转扫描而导致的动态图像移位。