一种纳米棒支撑薄膜、制备方法及应用

    公开(公告)号:CN118996339A

    公开(公告)日:2024-11-22

    申请号:CN202411088911.4

    申请日:2024-08-09

    Abstract: 本发明属于气体传感器领域,具体涉及一种纳米棒支撑薄膜、制备方法及应用,一种纳米棒支撑薄膜的制备方法,包括以下步骤:S1:采用掠射角沉积方法,以Fe2O3颗粒作为蒸发材料,在叉指电极上制备Fe2O3薄膜;S2:以Fe2O3颗粒作为蒸发材料,在S1得到的Fe2O3薄膜上制备得到Fe2O3纳米棒阵列,并放入马沸炉中退火处理;S3:以TiO2颗粒作为蒸发材料,在S2得到的Fe2O3纳米阵列上沉积TiO2纳米薄膜,得到Fe2O3支撑TiO2薄膜。本发明不但在结构上进行创新,而且在常温下对NH3表现出选择性和高灵敏度。

    一种硫化法制备ZnSe/ZnS异质结光催化剂的方法

    公开(公告)号:CN117299154A

    公开(公告)日:2023-12-29

    申请号:CN202311226525.2

    申请日:2023-09-21

    Abstract: 本发明公开了一种硫化法制备ZnSe/ZnS异质结光催化剂的方法,包括以下步骤:首先,在密闭腔体中采用掠射角沉积技术,制备ZnSe纳米棒。然后,将ZnSe纳米棒样品置于管式炉中进行硫化处理,得到ZnSe/ZnS异质结光催化剂。本发明具有制备周期短、低成本、易操作、环境友好等多个特点,具备大量生产的基础。采用该方法获得的异质结光催化材料不仅大幅提升了比表面积,增加活性位点,同时利用异质结的特性显著地提高材料的光电催化本领。

    一种W掺杂Bi2O3纳米结构的制备方法

    公开(公告)号:CN109078633A

    公开(公告)日:2018-12-25

    申请号:CN201810974360.X

    申请日:2018-08-24

    Abstract: 本发明公开了一种W掺杂Bi2O3纳米结构的制备方法,属于光催化材料制备领域。a、将石英玻璃切割为基片,依次在丙酮去离子水中采用超声波各清洗5分钟,干燥。将洗好的玻璃基片固定在可旋转的样品台上,将W靶和Bi2O3靶安装在磁控溅射仪上,使基片平面与水平面成5°-10°夹角,Bi2O3靶法线与基片法线成80°-85°,靶间距为6-7cm,W靶法线与基片法线夹角50°-55°靶间距为10-11cm,关闭腔门。c、使用机械泵抽真空,使真空达到10pa以下,打开分子泵,使真空达到5*10(-4)pa以下,充入氩气,将气压升到0.2Pa-0.5Pa。d、打开转动,打开W靶直流溅射,Bi2O3交流溅射,同时溅射30分钟。e、将样品放于干燥箱中500°退火1小时,即得到具有三维纳米结构的W掺杂Bi2O3纳米结构阵列。

    一种基于磁控溅射法制备的Mxene复合Ni/Co纳米薄膜、制备方法及应用

    公开(公告)号:CN118895529A

    公开(公告)日:2024-11-05

    申请号:CN202410924157.7

    申请日:2024-07-11

    Abstract: 本发明属于电催化领域,具体涉及一种基于磁控溅射法制备的Mxene复合Ni/Co纳米薄膜、制备方法及应用。制备包括以下步骤:S1:将Ti3AlC2前驱体进行酸刻蚀,进行磁力搅拌,得到混合物;将混合物进行洗涤离心,调剂pH,得到沉淀,将沉淀分散在溶剂中,加入LiCl进行搅拌;进行离心,提取离心后的上清液,经过超声处理得到单层Mxene Ti3C2Tx溶液;S2:将单层Mxene Ti3C2Tx溶液滴涂在碳布上,加热烘干得到负载Ti3C2Tx的样品,采用磁控溅射并调节磁控溅射的参数,以溅射抢分别以Ni和Co为靶,在样品上制备Ni/Co纳米薄膜,得到Mxene复合Ni/Co纳米薄膜。

    一种Ti3C2/TiO2光催化剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN116809103A

    公开(公告)日:2023-09-29

    申请号:CN202310512791.5

    申请日:2023-05-09

    Abstract: 本发明提供了一种Ti3C2/TiO2光催化剂及其制备方法,涉及光催化技术领域,通过Ti3C2纳米片与TiO2纳米棒之间的密切接触导致光生电子从TiO2纳米棒的导带向Ti3C2纳米片的转移,并且沿纳米棒散布的一些小尺寸纳米片互相连接形成电子通道,将电子转移到掺杂氟的SnO2透明导电玻璃,从而抑制TiO2纳米棒表面电子和空穴的重组,促进TiO2中大部分电荷的分离和转移。在转移到Ti3C2纳米片上后,光诱导电子进一步穿过表面快速传输到掺杂氟的SnO2透明导电玻璃衬底上,将电子传输到外部电路,从而加速电子的传输,提高电子和空穴的分离效率,本发明制备过程简单,制备的光催化剂可见光催化性能优于TiO2,在裂解水制氢方面具有潜在的利用价值。

    一种ZVO/ZnO异质结光催化剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN114277346B

    公开(公告)日:2023-03-31

    申请号:CN202111484191.X

    申请日:2021-12-07

    Abstract: 本发明涉及光催化材料技术领域,具体涉及一种ZVO/ZnO异质结光催化剂及其制备方法,以V和ZnO作为靶材,控制基底自转,让两个靶材同时进行磁控溅射,退火处理后得到ZVO薄膜层,然后再以ZnO作为靶材,在ZVO薄膜层上磁控溅射一层ZnO薄膜层,退火处理后得到ZVO/ZnO异质结光催化剂。本发明的ZVO/ZnO异质结光催化剂及其制备方法,先由V和ZnO两个靶材同时进行沉积制得ZVO薄膜层,然后由ZnO作为靶材在ZVO薄膜层表面进行沉积制得ZnO薄膜层,通过将掺杂样品与材料自身结合构建复合半导体材料,使得半导体光催化剂在不引入新杂质相的前提下,进一步提升掺杂样品的光催化性能。

    一种ZVO/ZnO异质结光催化剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN114277346A

    公开(公告)日:2022-04-05

    申请号:CN202111484191.X

    申请日:2021-12-07

    Abstract: 本发明涉及光催化材料技术领域,具体涉及一种ZVO/ZnO异质结光催化剂及其制备方法,以V和ZnO作为靶材,控制基底自转,让两个靶材同时进行磁控溅射,退火处理后得到ZVO薄膜层,然后再以ZnO作为靶材,在ZVO薄膜层上磁控溅射一层ZnO薄膜层,退火处理后得到ZVO/ZnO异质结光催化剂。本发明的ZVO/ZnO异质结光催化剂及其制备方法,先由V和ZnO两个靶材同时进行沉积制得ZVO薄膜层,然后由ZnO作为靶材在ZVO薄膜层表面进行沉积制得ZnO薄膜层,通过将掺杂样品与材料自身结合构建复合半导体材料,使得半导体光催化剂在不引入新杂质相的前提下,进一步提升掺杂样品的光催化性能。

    一种磁控溅射制备ZnFe2O4/Fe2O3三维异质结纳米材料的方法

    公开(公告)号:CN109837516B

    公开(公告)日:2020-03-27

    申请号:CN201910170533.7

    申请日:2019-03-07

    Abstract: 本发明涉及一种磁控溅射制备ZnFe2O4/Fe2O3三维异质结纳米材料的方法,在密闭环境中,分别以Fe和ZnO作为靶材,将密闭环境抽真空处理,在密闭环境气压降至2×10‑4Pa时,向密闭环境中通入氩气作为溅射气体;控制密闭环境的气压为0.15Pa~0.2Pa,Fe靶材通过直流溅射源进行溅射,ZnO靶材通过射频溅射源进行溅射,对Fe靶材和ZnO靶材同时进行磁控溅射,溅射完成后,取出产物并放置在马沸炉中高温退火处理,得到ZnFe2O4/Fe2O3三维异质结纳米材料。本发明制备得到的材料具有异质结的三维复合纳米结构,有效的提升了反应表面积和复合材料的光电催化性能,能广泛应用于光催化氧化还原领域。

    基于磁控溅射法制备树枝状非晶MoS2纳米结构的方法

    公开(公告)号:CN109576658B

    公开(公告)日:2020-03-27

    申请号:CN201811531214.6

    申请日:2018-12-14

    Abstract: 本发明涉及光电催化材料技术领域,具体涉及一种基于磁控溅射法制备树枝状非晶MoS2纳米结构的方法,以MoS2作为靶材,以石英片作为基底,将靶材、基底设置在密闭环境中,调整基底与靶材之间的距离至9~12cm,并将基底与水平面的夹角调整为0°~15°,通过直流溅射源开始溅射,溅射时间为40~90min,得到树枝状非晶MoS2纳米结构。本发明通过在低气压、小角度、低转速、低电流、适当的靶基距和氩气流量相互配合下能有效的降低沉积粒子的能量,使入射粒子较为稳定的生长成具有纳米结构的材料,使制得的树枝状非晶MoS2纳米结构比表面积大,提升MoS2光催化材料的光电性能,能广泛应用于光催化氧化还原领域。

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