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公开(公告)号：CN118444546A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202310080473.6
申请日：2023-02-03
Applicant: 江苏维格新材料科技有限公司 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G03H1/08
Abstract: 本申请涉及显示技术领域，具体公开一种计算全息的制作方法、装置及可读存储介质。方法包括：预设效果图；对所述效果图进行预处理，以得到多个具有对应景深的平面图像；对各所述平面图像进行计算全息数据处理，生成各相位调制图；组合各所述相位调制图，并对组合后的相位调制图进行光刻。由此，通过对拆分得到的各平面图像单独进行计算全息数据处理后再进行组合，即，将计算全息进行组合应用，可以避免大数据量的计算，同时增加了效果的多样性，例如景深、立体、转动字等，可以更广泛地应用于包装防伪上。
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公开(公告)号：CN118131476A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410565419.5
申请日：2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括：基材；单层微纳结构，设置于基材的一侧，单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构；其中，目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后，目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像，保证成像的清晰度，并且不仅可实现近距离三维空间成像效果，也可以实现远距离空间投影成像效果。
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公开(公告)号：CN119493268A
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN202311039282.1
申请日：2023-08-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏大维格(盐城)光电科技有限公司
Abstract: 本申请实施例提供了一种微透镜阵列离散型放大图像的制作方法及光学成像薄膜，包括：确定图文层中各图文的初始中心点位置及各图文的初始周期；对光学成像薄膜所要呈现的立体图像进行建模，得到立体模型；根据立体模型各点的高度确定立体模型各点的周期；根据各图文的目标周期及各图文的初始中心点位置，对各图文的中心点位置进行调整，获得各图文的目标中心位置；根据各图文的目标周期和微透镜的周期，获得各图文的放大率；制作图文的基准图形，根据预期各显示图形的大小，及对应的各图文的放大率，获得各图文的目标图形；将各图文的目标图形设置在目标中心位置，以形成图文层。
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公开(公告)号：CN119165651A
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202310728313.8
申请日：2023-06-19
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及防伪技术领域，具体公开一种微图文的制作方法以及动态放大薄膜。方法包括：获得微透镜阵列的参数，所述参数包括，微透镜的排布周期、微透镜的曲率半径、微透镜的焦距；根据微透镜阵列的参数，形成具有统一排布周期的阵列型微图文，得到基础景深；根据基础景深及预设的上浮或下沉的效果，对所述阵列型微图文进行数据变形，以使所述阵列型微图文的排布周期按照预设规律变化，所述预设规律满足立体球面变化规律。由此当阵列型微图文与微透镜阵列配合使用时，人眼可以观察到立体图像，即利用微透镜放大成像原理，对阵列型微图文的排布周期进行调整，得到非统一排布周期的微图文，即可满足立体图像的视觉效果，简化了阵列型微图文的制作。
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公开(公告)号：CN118474330A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202310085843.5
申请日：2023-02-07
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: H04N13/305
Abstract: 本申请涉及印刷技术领域，具体公开一种3D集成成像装置及其制备方法。3D集成成像装置包括立体结构层、间隔层及微透镜阵列，间隔层具有预设厚度，立体结构层设置于所述间隔层的一侧表面，所述立体结构层包括复数个微纳结构单元，微透镜阵列设置于所述间隔层远离所述立体结构层的一侧表面，微透镜阵列包括复数个微透镜，所述微纳结构单元与所述微透镜一一对应，所述微纳结构单元的正视图案为目标立体图像分层后，每层图像根据不同景深在所述微透镜下成像的图像的叠加。通过控制间隔层的厚度可以控制微透镜阵列的顶点到立体结构层之间的距离，进而控制像的景深，具有调节再现像的景深效果的功能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119200214A
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202311052575.3
申请日：2023-08-21
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及防伪技术领域，具体公开一种微图文的制作方法及动态放大薄膜。方法包括：获取微透镜参数，所述微透镜参数包括焦距、周期、折射率；预设立体图像效果，并设定最高景深和最低景深；根据所述预设立体图像效果进行立体建模，形成立体图像模型；根据所述微透镜参数、所述立体图像模型的景深数据确定所述立体图像模型上各点的周期，所述景深数据包括所述最高景深、所述最低景深以及所述立体图像模型上各点的景深；根据所述立体图像模型上各点的周期，得到目标微图文。上述方法可以制作出满足各种立体显示需求的微图文，进而得到多样化的立体显示效果，制作过程较为简单。
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公开(公告)号：CN119148401A
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202310705884.X
申请日：2023-06-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种具有抗复印特性的光学成像薄膜及其制备方法和防伪产品。光学成像薄膜包括：透明间隔层，具有相对的两个表面；微聚焦单元阵列层，位于透明间隔层的一个表面，包括若干阵列排布的微聚焦单元；以及微图文层，位于透明间隔层的另一个表面，包括若干阵列排布的微图文单元，若干微图文单元与若干微聚焦单元对应设置；微图文单元的正视图形基于立体实物像和虚拟像获得，从而在特定视角范围内只呈现部分立体实物像，立体实物像被虚拟像遮挡的部分不显示。本发明的抗复印光学成像薄膜，在特定视角范围内只呈现部分立体实物像，立体实物像被虚拟像遮挡的部分不显示，因而能够使复印图像无法携带光学成像薄膜全部信息，从而实现抗复印功能。
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公开(公告)号：CN118131476B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202410565419.5
申请日：2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括：基材；单层微纳结构，设置于基材的一侧，单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构；其中，目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后，目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像，保证成像的清晰度，并且不仅可实现近距离三维空间成像效果，也可以实现远距离空间投影成像效果。
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公开(公告)号：CN220626788U
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202321660475.4
申请日：2023-06-28
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G02B30/27
Abstract: 本申请公开一种透射反射集成型微透镜放大成像薄膜和防伪制品。所述微透镜放大成像薄膜为层结构，包括：基底层，所述基底层包括相对设置的第一平面和第二平面；第一微透镜层，包括复数个第一微透镜，设置于所述第一平面之上并部分覆盖所述第一平面，以在所述第一平面上形成覆盖区域和空白区域；第一图文层，包括复数个第一图文微结构，设置于所述第二平面之上对应于所述覆盖区域的第一图文区域；第二图文层，包括复数个第二图文微结构，设置于所述第二平面之上对应于所述空白区域的第二图文区域；第二微透镜层，包括复数个第二微透镜，设置于所述第二图文层远离所述基底层的一侧，并覆盖所述第二图文层；以及镀膜层，所述镀膜层层叠于所述第二微透镜层上。
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