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公开(公告)号：CN115497403B
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202211139010.4
申请日：2022-05-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G09F19/12
Abstract: 本发明公开一种多色立体动态图像的可签注防伪证卡及其制备方法。本发明提供的可签注防伪证卡包括基层、设置于基层一侧的第一签注层、设置于第一签注层上的第一复合层、设置于基层另一侧的第二签注层和设置于第二签注层上的第二复合层；本发明提供的制备方法，通过制备第一复合层，制备第二复合层，将第一复合层、第一签注层、基层、第二签注层、第二复合层进行加热层压，制得可签注防伪证卡。防伪证卡的纹理通过精密光刻，可实现动态、浮雕等极具光泽感的多色立体动态图像效果，防伪效果佳；防伪证卡的双面设置紧密精密微结构防伪效果，更能实现有效防伪，并且提高防伪证卡的表现力。
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公开(公告)号：CN119200214A
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202311052575.3
申请日：2023-08-21
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及防伪技术领域，具体公开一种微图文的制作方法及动态放大薄膜。方法包括：获取微透镜参数，所述微透镜参数包括焦距、周期、折射率；预设立体图像效果，并设定最高景深和最低景深；根据所述预设立体图像效果进行立体建模，形成立体图像模型；根据所述微透镜参数、所述立体图像模型的景深数据确定所述立体图像模型上各点的周期，所述景深数据包括所述最高景深、所述最低景深以及所述立体图像模型上各点的景深；根据所述立体图像模型上各点的周期，得到目标微图文。上述方法可以制作出满足各种立体显示需求的微图文，进而得到多样化的立体显示效果，制作过程较为简单。
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公开(公告)号：CN119148401A
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202310705884.X
申请日：2023-06-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种具有抗复印特性的光学成像薄膜及其制备方法和防伪产品。光学成像薄膜包括：透明间隔层，具有相对的两个表面；微聚焦单元阵列层，位于透明间隔层的一个表面，包括若干阵列排布的微聚焦单元；以及微图文层，位于透明间隔层的另一个表面，包括若干阵列排布的微图文单元，若干微图文单元与若干微聚焦单元对应设置；微图文单元的正视图形基于立体实物像和虚拟像获得，从而在特定视角范围内只呈现部分立体实物像，立体实物像被虚拟像遮挡的部分不显示。本发明的抗复印光学成像薄膜，在特定视角范围内只呈现部分立体实物像，立体实物像被虚拟像遮挡的部分不显示，因而能够使复印图像无法携带光学成像薄膜全部信息，从而实现抗复印功能。
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公开(公告)号：CN118131476B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202410565419.5
申请日：2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括：基材；单层微纳结构，设置于基材的一侧，单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构；其中，目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后，目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像，保证成像的清晰度，并且不仅可实现近距离三维空间成像效果，也可以实现远距离空间投影成像效果。
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公开(公告)号：CN114147959B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202010931321.9
申请日：2020-09-07
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/20 , B29C64/386 , B29C64/393 , B29C64/124 , B29C64/268 , G06T17/00 , B33Y30/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02
Abstract: 本发明公开了一种连续生长的3D打印方法，该方法包括下列步骤：建模；生成切片，将三维模型在Z轴方向进行切片；转换，将每一切片模型图转换为切片位图；初次数据上传，数据处理模块将前N*M个位图文件上传至N个子内存中；打印，控制模块控制载物台持续匀速移动，同时控制模块根据实际情况控制子内存不断刷新切片位图进行连续打印，每完成前一个子内存中的M个切片位图的打印，控制模块控制下一个子内存刷新切片位图进行打印，同时控制数据传输模块向前一个子内存上传新的M个位图，重复直至K幅切片位图完成打印。本发明还公开了一种3D打印设备，采用上述的连续生长的3D打印方法实现连续打印。通过上述方法，实现连续打印，节省了打印时间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112132948B
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN201910490271.2
申请日：2019-06-06
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开一种图像处理方法，该方法的具体步骤包括：S1：建成灰度模型图；S2：计算灰度模型图X方向的扫描线的集合；S3：计算X轴扫描线集合中每一条扫描线与灰度模型图的所有交点的坐标，并分组；S4：计算扫描线集合中相应区间的每一条扫描线的每一组交点内的所有像素点的物理高度；S5：转换各区间所有像素点的灰度值得到灰度位图。本发明还公开一种图像处理装置，设有上述图像处理方法；本发明还公开本发明还公开一种光刻系统，包括执行上述图像处理方法；本发明还公开一种计算机可读存储介质，包括储存上述图像处理方法。通过计算图像中每个像素点的灰度值，可以实现任一幅面具有立体浮雕效果的结构的图像处理。
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公开(公告)号：CN112987501B
公开(公告)日：2023-01-24
申请号：CN201911303595.7
申请日：2019-12-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种直写光刻系统和直写光刻方法，其中直写光刻系统包括直写光源、运动机构、中央控制器、光斑图形输入装置以及投影光学装置；运动机构用于带动投影光学装置沿预设路径扫描，并用于发出参考点的位置数据；中央控制器用于根据位置数据读取光斑图形文件序列中对应的光斑图像数据；光斑图形输入装置用于根据光斑图像数据将直写光源提供的起始光束调制生成图形光；投影光学装置用于根据图形光向光刻件的表面投影出变形光斑，并在运动机构的带动下沿预设路径扫描，在扫描过程中光斑图像数据随位置数据而变化，形成预设的可控变形光斑。本发明的直写光刻系统和直写光刻方法实现了复杂表面三维形貌结构的无掩模灰度光刻，并提高了光刻精度和光刻效率。
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公开(公告)号：CN115497403A
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202211139010.4
申请日：2022-05-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G09F19/12
Abstract: 本发明公开一种多色立体动态图像的可签注防伪证卡及其制备方法。本发明提供的可签注防伪证卡包括基层、设置于基层一侧的第一签注层、设置于第一签注层上的第一复合层、设置于基层另一侧的第二签注层和设置于第二签注层上的第二复合层；本发明提供的制备方法，通过制备第一复合层，制备第二复合层，将第一复合层、第一签注层、基层、第二签注层、第二复合层进行加热层压，制得可签注防伪证卡。防伪证卡的纹理通过精密光刻，可实现动态、浮雕等极具光泽感的多色立体动态图像效果，防伪效果佳；防伪证卡的双面设置紧密精密微结构防伪效果，更能实现有效防伪，并且提高防伪证卡的表现力。
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公开(公告)号：CN115220905A
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202110417075.X
申请日：2021-04-19
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G06F9/50
Abstract: 本申请涉及一种直写光刻数据处理系统和方法，属于直写光刻数据处理技术领域，该方法包括：主控单元获取图形文件；根据图形文件进行数据分割，得到多个待处理数据；获取与主控单元通讯相连的多个处理单元的工作状态；并按照工作状态向处理单元分配多个待处理数据；处理单元在获取到待处理数据时，对待处理数据进行处理，得到处理后的数据；处理后的数据是光刻装置能够直接使用的数据；写入装置读取处理单元中的处理后的数据，将处理后的数据写入光刻装置，以使光刻装置按照处理后的数据进行光刻处理；可以解决现有数据处理方式的数据处理效率较低、可靠性较差的问题；可以实现多个处理单元同时处理同一图形文件，提高数据处理效率和可靠性。
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公开(公告)号：CN112799285B
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN201911115004.3
申请日：2019-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和工作台，其中：数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与工作台之间，工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，光经过空间光调制器上的图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，工作台驱使基片在平面内沿设定路径移动曝光电性。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。
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