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公开(公告)号：CN113495432B
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202010269164.X
申请日：2020-04-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，包括激光输出装置、光路选择装置、检测模块和光刻模块，所述激光输出装置发射激光至所述光路选择装置，所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块。本发明还公开了一种光刻方法，利用上述光刻设备进行光刻。通过所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块，以使光刻设备能实时检测曝光能量，保证了光刻效果，提高了光刻效率，提升了产品的良品率。
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公开(公告)号：CN114335375A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202011057551.3
申请日：2020-09-30
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: H01L51/52
Abstract: 一种增亮膜，包括相对设置的第一表面和第二表面，第一表面之内或之上设置有微纳结构层，微纳结构层包括第一微纳结构区以及绕着第一微纳结构区周向设置的第二微纳结构区，第一微纳结构区包括多个第一微纳结构，各第一微纳结构包括多个第一斜面，各第一斜面与第二表面之间具有第一倾斜锐角，第二微纳结构区包括多个第二微纳结构，各第二微纳结构包括多个第二斜面，各第二斜面与第二表面之间具有第二倾斜锐角，第二倾斜锐角与第一倾斜锐角角度不同，使得第二微纳结构区的出光率大于第一微纳结构区的出光率。本发明的增亮膜能够实现OLED显示装置增亮，并使OLED显示装置发光更均匀。
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公开(公告)号：CN113495432A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202010269164.X
申请日：2020-04-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，包括激光输出装置、光路选择装置、检测模块和光刻模块，所述激光输出装置发射激光至所述光路选择装置，所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块。本发明还公开了一种光刻方法，利用上述光刻设备进行光刻。通过所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块，以使光刻设备能实时检测曝光能量，保证了光刻效果，提高了光刻效率，提升了产品的良品率。
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公开(公告)号：CN112987501A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201911303595.7
申请日：2019-12-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种直写光刻系统和直写光刻方法，其中直写光刻系统包括直写光源、运动机构、中央控制器、光斑图形输入装置以及投影光学装置；运动机构用于带动投影光学装置沿预设路径扫描，并用于发出参考点的位置数据；中央控制器用于根据位置数据读取光斑图形文件序列中对应的光斑图像数据；光斑图形输入装置用于根据光斑图像数据将直写光源提供的起始光束调制生成图形光；投影光学装置用于根据图形光向光刻件的表面投影出变形光斑，并在运动机构的带动下沿预设路径扫描，在扫描过程中光斑图像数据随位置数据而变化，形成预设的可控变形光斑。本发明的直写光刻系统和直写光刻方法实现了复杂表面三维形貌结构的无掩模灰度光刻，并提高了光刻精度和光刻效率。
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公开(公告)号：CN111290217B
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN201811489966.0
申请日：2018-12-06
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种用于光刻基片的承载台，包括基片承载部件，基片承载部件包括至少一个用于放置基片的放置区，放置区一侧设有至少两个标识放置结构，用于放置对位标识元件。本发明还公开一种光刻机，包括上述承载台、用于连接该承载台的工作台，工作台包括固定平台、调节转台，调节转台底部连接固定平台，调节转台顶部连接上述用于光刻基片的承载台，用于调节上述承载台上基片的角度。本发明还公开一种基片光刻方法，通过上述光刻机光刻放置在上述承载台上基片的正方两面。通过标识放置结构，使带有标识的元件可以重复使用，无需在每块待刻的基片上写入对位标识，简化了制作流程，节约了成本。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111290217A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201811489966.0
申请日：2018-12-06
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种用于光刻基片的承载台，包括基片承载部件，基片承载部件包括至少一个用于放置基片的放置区，放置区一侧设有至少两个标识放置结构，用于放置对位标识元件。本发明还公开一种光刻机，包括上述承载台、用于连接该承载台的工作台，工作台包括固定平台、调节转台，调节转台底部连接固定平台，调节转台顶部连接上述用于光刻基片的承载台，用于调节上述承载台上基片的角度。本发明还公开一种基片光刻方法，通过上述光刻机光刻放置在上述承载台上基片的正方两面。通过标识放置结构，使带有标识的元件可以重复使用，无需在每块待刻的基片上写入对位标识，简化了制作流程，节约了成本。
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公开(公告)号：CN112987501B
公开(公告)日：2023-01-24
申请号：CN201911303595.7
申请日：2019-12-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种直写光刻系统和直写光刻方法，其中直写光刻系统包括直写光源、运动机构、中央控制器、光斑图形输入装置以及投影光学装置；运动机构用于带动投影光学装置沿预设路径扫描，并用于发出参考点的位置数据；中央控制器用于根据位置数据读取光斑图形文件序列中对应的光斑图像数据；光斑图形输入装置用于根据光斑图像数据将直写光源提供的起始光束调制生成图形光；投影光学装置用于根据图形光向光刻件的表面投影出变形光斑，并在运动机构的带动下沿预设路径扫描，在扫描过程中光斑图像数据随位置数据而变化，形成预设的可控变形光斑。本发明的直写光刻系统和直写光刻方法实现了复杂表面三维形貌结构的无掩模灰度光刻，并提高了光刻精度和光刻效率。
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公开(公告)号：CN113009705A
公开(公告)日：2021-06-22
申请号：CN201911317253.0
申请日：2019-12-19
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种消除零级衍射影响的结构光组件，包括：激光光束；衍射光学器件，用于接收及扩束激光光束，并向图形面投射图案化光束；折射透镜，位于衍射光学器件的一侧，用于使图案化光束中的零级衍射光在图形面上形成背景光，并使图案化光束中的负一级衍射光或正一级衍射光在图形面上聚焦形成图案。本发明提供的消除零级衍射影响的结构光组件，将衍射器件和折射透镜相结合，入射激光从衍射器件出射到图形面之间没有聚焦点，既能使图形面上形成的图案更加清晰，也能对激光安全防护起到作用。
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公开(公告)号：CN112731767A
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN201910974007.6
申请日：2019-10-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请涉及一种温度控制装置，安装于激光直写设备上，激光直写设备包括架体、设置在架体内用以进行激光直写的工作区域、位于工作区域上方的密闭区域、位于工作区域下方的温控区域及与工作区域、温度控制装置信号连接的控制器，温度控制装置包括：温度传感器，设置在工作区域内以检测工作区域内的温度；冷水机，与温度传感器信号连接；风道机构，竖向设置在工作区域内且连接温控区域及密闭区域；冷凝翅片，设置在温控区域内且连接冷水机及风道机构；风扇，设置在风道机构上；风机过滤器，设置在密闭区域内且用以将流向至工作区域的气流过滤。本申请的温度控制装置能够集成至激光直写设备上，且控温精度高。
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公开(公告)号：CN212783511U
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：CN202022220124.4
申请日：2020-09-30
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: H01L51/52
Abstract: 一种增亮膜，包括相对设置的第一表面和第二表面，第一表面之内或之上设置有微纳结构层，微纳结构层包括第一微纳结构区以及绕着第一微纳结构区周向设置的第二微纳结构区，第一微纳结构区包括多个第一微纳结构，各第一微纳结构包括多个第一斜面，各第一斜面与第二表面之间具有第一倾斜锐角，第二微纳结构区包括多个第二微纳结构，各第二微纳结构包括多个第二斜面，各第二斜面与第二表面之间具有第二倾斜锐角，第二倾斜锐角与第一倾斜锐角角度不同，使得第二微纳结构区的出光率大于第一微纳结构区的出光率。本实用新型的增亮膜能够实现OLED显示装置增亮，并使OLED显示装置发光更均匀。
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