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公开(公告)号：CN119310756A
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202310848092.8
申请日：2023-07-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请实施例提供了一种荧光成像薄膜、防伪制品及荧光成像薄膜的制作方法，包括荧光层、间隔层和透镜层。其中，透镜层设置在间隔层的一侧，且该透镜层包括呈阵列排布的多个微透镜；荧光层设置在间隔层背向透镜层的一侧，间隔层用于将荧光层和透镜层间隔开，使荧光层至透镜层的距离满足透射焦距。该荧光层包括呈阵列排布的多个荧光部，荧光部中设置有荧光图案微结构，且荧光图案微结构填充有荧光材料。每个微透镜与每个荧光部对应设置。荧光成像薄膜使人们能够在光照下观察到荧光且悬浮的图像，获得丰富的视觉效果和优良的防伪效果。
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公开(公告)号：CN118466137A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410779688.1
申请日：2024-06-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 江苏维格新材料科技有限公司
Abstract: 本发明涉及光刻印刷领域，特别涉及一种微纳结构的制备方法，以及制备得到的压印模板和压印得到的防伪制品。通过待制备的微纳结构的前景图案和背景图案获得直写图文和光栅图文，直写图文中包括多个直写光刻单元。将光栅图文中的像素点分别映射至直写图文，将识别出坐标相同的重合像素点。删除光栅图文中于重合像素点对应的像素点得到调整图文。利用调整图文进行干涉光刻，利用直写图文进行直写光刻，得到微纳结构。通过像素点映射的方式，形成可精准对位的文件进行光刻，节约工序，提高效率及成品率，且光刻后的结构没有重合叠加部分，具有更好的光学效果，实现了高分辨率大幅面的微米级光刻结构和纳米级光刻结构的复合。
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公开(公告)号：CN118444546A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202310080473.6
申请日：2023-02-03
Applicant: 江苏维格新材料科技有限公司 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G03H1/08
Abstract: 本申请涉及显示技术领域，具体公开一种计算全息的制作方法、装置及可读存储介质。方法包括：预设效果图；对所述效果图进行预处理，以得到多个具有对应景深的平面图像；对各所述平面图像进行计算全息数据处理，生成各相位调制图；组合各所述相位调制图，并对组合后的相位调制图进行光刻。由此，通过对拆分得到的各平面图像单独进行计算全息数据处理后再进行组合，即，将计算全息进行组合应用，可以避免大数据量的计算，同时增加了效果的多样性，例如景深、立体、转动字等，可以更广泛地应用于包装防伪上。
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公开(公告)号：CN118131476A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410565419.5
申请日：2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括：基材；单层微纳结构，设置于基材的一侧，单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构；其中，目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后，目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像，保证成像的清晰度，并且不仅可实现近距离三维空间成像效果，也可以实现远距离空间投影成像效果。
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公开(公告)号：CN115497402A
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202211138997.8
申请日：2022-05-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种立体光影彩色装饰纹理。包括自上而下依次设置的基层、第一胶层、第一复合层；第一复合层包括第一薄膜层和第一微结构层；第一微结构层上包括第一精密微结构主体层、第一镀膜层和第一油墨层，第一镀膜层为仿精密微结构主体层表面形状的共形结构，油墨填充于第一镀膜层的凹槽内；或第一复合层包括第一薄膜层、第一微结构层和第一镀膜层，第一微结构层上设置有精密微结构，其包括复数个微纳子结构，微纳子结构上设置有凹槽，凹槽内填充有油墨；第一薄膜层通过第一胶层固定设置于基层上。本发明装饰纹理使用微纳光刻技术转印微纳纹理于基材上，通过在基材上设置精密微结构，呈现立体，光影，彩色的效果；且能具备纹理的炫光效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115134437A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202110324578.2
申请日：2021-03-26
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州迈塔光电科技有限公司
IPC: H04M1/02
Abstract: 本申请涉及一种双纹理手机膜片，其包括自下向上依次层叠设置的基层、第一纹理层、第二纹理层、镀膜层以及丝印层，第一纹理层具有若干第一微纳结构，第二纹理层具有若干第二微纳结构，第一微纳结构和第二微纳结构的尺寸不同，相较于现有的双层结构的双纹双镀膜片，本发明所示的双纹理手机膜片在达到酷炫效果的同时减少了一层基层、一层胶层、一层电镀层的厚度，整体厚度减少1/3，有利于手机内部空间设计，满足超薄手机的设计理念；制备工艺流程更简单，降低了制备成本；双纹的直接叠加带来更多效果样，更丰富的装饰选择使得手机背部更加炫酷。
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公开(公告)号：CN115107277A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202110302250.0
申请日：2021-03-22
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: B29C64/386 , B33Y50/00
Abstract: 本发明公开了一种用于制作装饰材料微纳结构的模具的制作方法，该方法包括：S1：设计3D浮雕文件和光栅文件；S2：将所述3D浮雕文件转换为浮雕位图；S3：按照浮雕和光栅所需组合效果确定浮雕取点文件和光栅取点文件，对浮雕位图和所述光栅文件进行取点处理；S4、将所述新的浮雕位图进行切割形成多个条带位图；S5：提供一基板；S6：根据所述组合方式光刻嵌设在一起的微纳浮雕结构和微纳光栅结构，获得用于制作装饰材料微纳结构的模具。本发明还公开了一种用于制作装饰材料微纳结构的模具，采用上述的方法制备。通过上述方法，无需掩膜套刻，便能制作出3D连续面形与微纳光栅混合的结构，操作简单，单元像素分辨高。
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公开(公告)号：CN114639326B
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202210548852.9
申请日：2022-05-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G09F19/12
Abstract: 本发明公开一种呈现立体浮雕图像的精密微结构及其制备方法与应用。本发明提供的精密微结构包括：复数个微纳子结构，复数个所述微纳子结构的周期按预设规律排布，用于呈现立体浮雕效果；所述微纳子结构上设置有至少一个凹槽，所述凹槽包含至少两个相对的侧壁和一个底部，所述凹槽内设置有油墨，用于呈现颜色效果。这样，所述精密微结构可以呈现立体浮雕效果和呈现颜色效果。本发明提供了一种精密微结构的制备方法，通过转印固化、填充油墨和清洗的方法，使用的油墨量少。本发明还提供了另一种制备方法，通过网纹辊将油墨附着在模版上，在转印微纳子结构的同时，将油墨一并填充在凹槽中，该方法步骤更为简便，使用的油墨量更少，低碳环保。
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公开(公告)号：CN114609871A
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202011421768.8
申请日：2020-12-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种采用组合光阑的光刻方法，该方法包括如下步骤：设计所需的图形，并进行图形处理以形成图形位图；将图形位图生成n套数据文件；根据实际需求，确定光阑大小；将光阑分成k个子光阑文件；光刻，将n套数据文件与k个子光阑文件一一对应进行光刻，n＝k，其中，每次光刻前均完成一套数据文件与一个子光阑文件的对应。采用多套数据文件，对应多套子光阑文件嵌套光刻的方式对同一个光阑内进行光刻，使在一个光刻形成的子光阑文件内形成一个具有有不同角度或者周期的光栅组合，从而减少了边缘的锯齿，降低了数据量，提高了分辨率；并且通过这种方法，可以任意划分光阑，调整亮暗比例，可以产生更多的视觉效果。
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公开(公告)号：CN112684677B
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN202110270751.5
申请日：2021-03-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法。所述制备方法包括：提供三维模型图；将所述三维模型图在高度方向上进行划分，获得至少一个高度区间；将三维模型图在平面上进行投影得到映射关系，映射关系包括三维模型图上每个点对应在平面上的坐标，三维模型图上每个点的高度对应高度区间里的高度值，根据所述映射关系，将映射关系与曝光剂量进行对应，基于所述曝光剂量进行光刻。这样，可以得到任意三维微纳形貌结构。
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