-
公开(公告)号：CN114147959B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202010931321.9
申请日：2020-09-07
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/20 , B29C64/386 , B29C64/393 , B29C64/124 , B29C64/268 , G06T17/00 , B33Y30/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02
Abstract: 本发明公开了一种连续生长的3D打印方法，该方法包括下列步骤：建模；生成切片，将三维模型在Z轴方向进行切片；转换，将每一切片模型图转换为切片位图；初次数据上传，数据处理模块将前N*M个位图文件上传至N个子内存中；打印，控制模块控制载物台持续匀速移动，同时控制模块根据实际情况控制子内存不断刷新切片位图进行连续打印，每完成前一个子内存中的M个切片位图的打印，控制模块控制下一个子内存刷新切片位图进行打印，同时控制数据传输模块向前一个子内存上传新的M个位图，重复直至K幅切片位图完成打印。本发明还公开了一种3D打印设备，采用上述的连续生长的3D打印方法实现连续打印。通过上述方法，实现连续打印，节省了打印时间。
-
公开(公告)号：CN112132948B
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN201910490271.2
申请日：2019-06-06
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开一种图像处理方法，该方法的具体步骤包括：S1：建成灰度模型图；S2：计算灰度模型图X方向的扫描线的集合；S3：计算X轴扫描线集合中每一条扫描线与灰度模型图的所有交点的坐标，并分组；S4：计算扫描线集合中相应区间的每一条扫描线的每一组交点内的所有像素点的物理高度；S5：转换各区间所有像素点的灰度值得到灰度位图。本发明还公开一种图像处理装置，设有上述图像处理方法；本发明还公开本发明还公开一种光刻系统，包括执行上述图像处理方法；本发明还公开一种计算机可读存储介质，包括储存上述图像处理方法。通过计算图像中每个像素点的灰度值，可以实现任一幅面具有立体浮雕效果的结构的图像处理。
-
公开(公告)号：CN115220905A
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202110417075.X
申请日：2021-04-19
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G06F9/50
Abstract: 本申请涉及一种直写光刻数据处理系统和方法，属于直写光刻数据处理技术领域，该方法包括：主控单元获取图形文件；根据图形文件进行数据分割，得到多个待处理数据；获取与主控单元通讯相连的多个处理单元的工作状态；并按照工作状态向处理单元分配多个待处理数据；处理单元在获取到待处理数据时，对待处理数据进行处理，得到处理后的数据；处理后的数据是光刻装置能够直接使用的数据；写入装置读取处理单元中的处理后的数据，将处理后的数据写入光刻装置，以使光刻装置按照处理后的数据进行光刻处理；可以解决现有数据处理方式的数据处理效率较低、可靠性较差的问题；可以实现多个处理单元同时处理同一图形文件，提高数据处理效率和可靠性。
-
公开(公告)号：CN113495432B
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202010269164.X
申请日：2020-04-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，包括激光输出装置、光路选择装置、检测模块和光刻模块，所述激光输出装置发射激光至所述光路选择装置，所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块。本发明还公开了一种光刻方法，利用上述光刻设备进行光刻。通过所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块，以使光刻设备能实时检测曝光能量，保证了光刻效果，提高了光刻效率，提升了产品的良品率。
-
公开(公告)号：CN114147957B
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202010930423.9
申请日：2020-09-07
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/255 , B29C64/245 , B29C64/282 , B29C64/286 , B29C64/386 , B29C64/393 , B33Y30/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02 , G02B27/09
Abstract: 本发明公开了一种基于投影曝光技术的3D打印系统，包括用于存储液体感光树脂且底部为透明玻璃的物料存储装置、用于曝光感光树脂以形成所需产品的打印设备、实现打印设备相对于物料存储装置的运动平台，打印设备包括光学机构，光学机构设置在透明玻璃的下方，光学机构沿光路传播路径依序包括点光源、将点光源扩束为面光源并整形为平行面光源的整形扩束镜组、用于上载图像的数字微镜元件、将整形后的平行光进行微缩的二级微缩透镜组和将微缩后的光投射至感光树脂上的投影物镜，以及将图像上传至数字微镜元件上的数据处理机构。本发明还公开了一种3D打印的方法，该方法通过上述的基于投影曝光技术的3D打印系统实现。通过上述结构，提升了打印的精度。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118444494A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202310081167.4
申请日：2023-02-03
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种裸眼3D显示装置，包括光源、背光屏幕和显示屏幕；所述背光屏幕设置在所述光源的出射光路上，所述显示屏幕设置在所述背光屏幕的出射光路上，所述背光屏幕上形成有多组像素阵列，每组所述像素阵列包括多个像素，每个所述像素包括微纳结构，用于将入射光线衍射至对应的视点；所述显示屏幕用于提供多视角图像，以及对来自所述背光屏幕提供的入射光线进行振幅调制，根据所述多视角图像和调制后的入射光线生成3D立体影像进行显示。实现具有光源兼容性高、光源利用效率更高效、制作难度更低、无视觉疲劳、宽色域和大幅面等优点的裸眼3D显示装置。
-
公开(公告)号：CN114147957A
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN202010930423.9
申请日：2020-09-07
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/255 , B29C64/245 , B29C64/282 , B29C64/286 , B29C64/386 , B29C64/393 , B33Y30/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02 , G02B27/09
Abstract: 本发明公开了一种基于投影曝光技术的3D打印系统，包括用于存储液体感光树脂且底部为透明玻璃的物料存储装置、用于曝光感光树脂以形成所需产品的打印设备、实现打印设备相对于物料存储装置的运动平台，打印设备包括光学机构，光学机构设置在透明玻璃的下方，光学机构沿光路传播路径依序包括点光源、将点光源扩束为面光源并整形为平行面光源的整形扩束镜组、用于上载图像的数字微镜元件、将整形后的平行光进行微缩的二级微缩透镜组和将微缩后的光投射至感光树脂上的投影物镜，以及将图像上传至数字微镜元件上的数据处理机构。本发明还公开了一种3D打印的方法，该方法通过上述的基于投影曝光技术的3D打印系统实现。通过上述结构，提升了打印的精度。
-
公开(公告)号：CN112799286B
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN201911115238.8
申请日：2019-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和旋转工作台，数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与旋转工作台之间，旋转工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，空间光调制器发出的光经过图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，旋转工作台驱使基片转动曝光。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。
-
公开(公告)号：CN113495432A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202010269164.X
申请日：2020-04-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，包括激光输出装置、光路选择装置、检测模块和光刻模块，所述激光输出装置发射激光至所述光路选择装置，所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块。本发明还公开了一种光刻方法，利用上述光刻设备进行光刻。通过所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块，以使光刻设备能实时检测曝光能量，保证了光刻效果，提高了光刻效率，提升了产品的良品率。
-
公开(公告)号：CN111290217B
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN201811489966.0
申请日：2018-12-06
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种用于光刻基片的承载台，包括基片承载部件，基片承载部件包括至少一个用于放置基片的放置区，放置区一侧设有至少两个标识放置结构，用于放置对位标识元件。本发明还公开一种光刻机，包括上述承载台、用于连接该承载台的工作台，工作台包括固定平台、调节转台，调节转台底部连接固定平台，调节转台顶部连接上述用于光刻基片的承载台，用于调节上述承载台上基片的角度。本发明还公开一种基片光刻方法，通过上述光刻机光刻放置在上述承载台上基片的正方两面。通过标识放置结构，使带有标识的元件可以重复使用，无需在每块待刻的基片上写入对位标识，简化了制作流程，节约了成本。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
23
records
(took 0.031 seconds)
