-
公开(公告)号：CN116315602A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202211482422.8
申请日：2022-11-24
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 本发明的实施例提供一种在等离子体处理工艺中可以更广泛地控制蚀刻率的天线构造体以及包括其的等离子体处理设备。根据本发明的一侧面的用于形成等离子体的天线构造体包括：馈电线，被施加RF(Radio Frequency)信号；以及线圈部件，包括隔着一定间隔在上下方向上隔开的多个单位线圈。
-
公开(公告)号：CN108695132B
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：CN201810257607.6
申请日：2018-03-27
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 公开了等离子体生成单元和包括其的基板处理装置。基板处理装置包括：处理室，该处理室在其内部具有处理空间；基板支撑单元，其构造为支撑处理空间中的基板；气体供给单元，其构造为将处理气体供给到处理空间；以及等离子体生成单元，其布置在处理室的外部并且构造为使处理室中的处理气体生成等离子体，其中等离子体生成单元包括：天线单元，其包括构造为使处理气体生成等离子体的多个天线线圈；以及磁结构，其包括布置在多个天线线圈之间的磁壁，其中天线单元包括具有环形形状的第一天线线圈，以及布置在第一天线线圈外侧且具有环形形状的第二天线线圈。
-
公开(公告)号：CN114446756B
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202111313478.6
申请日：2021-11-08
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 一种基板处理装置，包括：腔室，所述腔室具有处理空间；第一电源，所述第一电源连接至设置在所述处理空间中的第一部件且向所述第一部件传输具有第一频率的功率；第二电源，所述第二电源设置在所述处理空间中，连接至不同于所述第一部件的第二部件，并且向所述第二部件传输具有小于所述第一频率的第二频率的功率；及耦合阻挡结构，所述耦合阻挡结构安装在连接至所述第二电源及所述第二部件的电力线上，其中所述耦合阻挡结构电连接至所述电力线且包括具有线圈形状的导线。
-
公开(公告)号：CN110581051A
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201910498398.9
申请日：2019-06-10
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01J37/32 , H01L21/683
Abstract: 一种用于处理基板的装置，其包括工艺腔室、在所述工艺腔室中支承所述基板的支承单元、供应工艺气体的气体供应单元和从所述工艺气体生成等离子体的等离子体源。所述支承单元包括静电吸盘，且所述装置还包括将夹持电压供应至所述静电吸盘的电源，和管理单元，该管理单元反馈控制针对每个工艺施加至电源的电压，并控制所述基板和所述静电吸盘之间供应的传热气体流量。所述管理单元该包括监测所述基板的物理性能变化的第一监测单元。所述管理单元该包括第一控制器，其通过基于监测的性能变化反馈对应于预设参考值的夹持力值来执行控制以补偿所述夹持电压。
-
公开(公告)号：CN107342452A
公开(公告)日：2017-11-10
申请号：CN201710301673.4
申请日：2017-05-02
Applicant: 细美事有限公司
CPC classification number: H01J37/3211 , H01J37/3244 , H01J2237/334 , H01L21/67069 , H01J37/32431 , H01J37/32798 , H01Q1/36
Abstract: 提供了一种天线和利用该天线的基板处理方法。该天线可以沿着具有预定曲率的虚拟基线延伸，并且包括该基线与交点之间的距离根据该基线上的位置而变化的部分，该交点为该天线与垂直于该基线的竖直线之间的交点。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116313718A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202211483502.5
申请日：2022-11-24
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明的实施例提供用于迅速的阻抗匹配的阻抗匹配电路及具备其的供电装置以及等离子体处理设备。根据本发明的阻抗匹配电路包括：并联电容器阵列，与生成RF(radio frequency)信号的RF电源并联连接；以及串联电容器阵列，与所述RF电源串联连接，所述并联电容器阵列或者所述串联电容器阵列包括机械式真空可变电容器以及与所述机械式真空可变电容器并联连接的电子式开关电容器模组。
-
公开(公告)号：CN114975065A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210615015.3
申请日：2019-06-10
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01J37/32 , H01L21/683
Abstract: 一种用于处理基板的装置，其包括工艺腔室、在所述工艺腔室中支承所述基板的支承单元、供应工艺气体的气体供应单元和从所述工艺气体生成等离子体的等离子体源。所述支承单元包括静电吸盘，且所述装置还包括将夹持电压供应至所述静电吸盘的电源，和管理单元，该管理单元反馈控制针对每个工艺施加至电源的电压，并控制所述基板和所述静电吸盘之间供应的传热气体流量。所述管理单元该包括监测所述基板的物理性能变化的第一监测单元。所述管理单元该包括第一控制器，其通过基于监测的性能变化反馈对应于预设参考值的夹持力值来执行控制以补偿所述夹持电压。
-
公开(公告)号：CN110581051B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN201910498398.9
申请日：2019-06-10
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01J37/32 , H01L21/683
Abstract: 一种用于处理基板的装置，其包括工艺腔室、在所述工艺腔室中支承所述基板的支承单元、供应工艺气体的气体供应单元和从所述工艺气体生成等离子体的等离子体源。所述支承单元包括静电吸盘，且所述装置还包括将夹持电压供应至所述静电吸盘的电源，和管理单元，该管理单元反馈控制针对每个工艺施加至电源的电压，并控制所述基板和所述静电吸盘之间供应的传热气体流量。所述管理单元该包括监测所述基板的物理性能变化的第一监测单元。所述管理单元该包括第一控制器，其通过基于监测的性能变化反馈对应于预设参考值的夹持力值来执行控制以补偿所述夹持电压。
-
公开(公告)号：CN108807122A
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201810383774.5
申请日：2018-04-26
Applicant: 细美事有限公司
CPC classification number: H01J37/32174 , H01J37/321 , H03H7/40 , H01J37/32798 , H01J37/32431 , H01L21/67011
Abstract: 所公开的发明为供电装置和包括该供电装置的基板处理装置。所述供电装置包括高频电源，其提供高频功率；等离子体源，其包括通过使用所述高频功率产生等离子体的第一天线和第二天线；以及功率分配器，其连接在所述高频电源和所述等离子体源之间，用于分配供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率。所述功率分配器包括第一可变器件，其控制供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率；以及第二可变器件，其对供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率的非线性进行补偿。
-
公开(公告)号：CN118282187A
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202311783323.8
申请日：2023-12-22
Abstract: 提供了一种缓冲电路和等离子体发生器。所述缓冲电路可以包括：第一缓冲二极管，连接到与DC‑DC转换器连接的第一节点；缓冲电容器，连接在所述第一缓冲二极管和与所述DC‑DC转换器连接的第二节点之间；缓冲电压源，连接到所述第一节点；缓冲电感器，连接到所述第一缓冲二极管和所述缓冲电容器之间的第三节点；以及第二缓冲二极管，连接在所述缓冲电感器和所述缓冲电压源之间。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
14
records
(took 0.021 seconds)
