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公开(公告)号:CN116315602A
公开(公告)日:2023-06-23
申请号:CN202211482422.8
申请日:2022-11-24
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 本发明的实施例提供一种在等离子体处理工艺中可以更广泛地控制蚀刻率的天线构造体以及包括其的等离子体处理设备。根据本发明的一侧面的用于形成等离子体的天线构造体包括:馈电线,被施加RF(Radio Frequency)信号;以及线圈部件,包括隔着一定间隔在上下方向上隔开的多个单位线圈。