公开(公告)号：CN108807122A

公开(公告)日：2018-11-13

申请号：CN201810383774.5

申请日：2018-04-26

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： H·梅里克延 ,  O·噶尔斯特延 ,  李贞焕 ,  安宗奂 ,  南信祐

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01J37/32174 ,  H01J37/321 ,  H03H7/40 ,  H01J37/32798 ,  H01J37/32431 ,  H01L21/67011

Abstract: 所公开的发明为供电装置和包括该供电装置的基板处理装置。所述供电装置包括高频电源，其提供高频功率；等离子体源，其包括通过使用所述高频功率产生等离子体的第一天线和第二天线；以及功率分配器，其连接在所述高频电源和所述等离子体源之间，用于分配供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率。所述功率分配器包括第一可变器件，其控制供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率；以及第二可变器件，其对供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率的非线性进行补偿。

公开(公告)号：CN108807122B

公开(公告)日：2021-05-14

申请号：CN201810383774.5

申请日：2018-04-26

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： H·梅里克延 ,  O·噶尔斯特延 ,  李贞焕 ,  安宗奂 ,  南信祐

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 所公开的发明为供电装置和包括该供电装置的基板处理装置。所述供电装置包括高频电源，其提供高频功率；等离子体源，其包括通过使用所述高频功率产生等离子体的第一天线和第二天线；以及功率分配器，其连接在所述高频电源和所述等离子体源之间，用于分配供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率。所述功率分配器包括第一可变器件，其控制供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率；以及第二可变器件，其对供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率的非线性进行补偿。

公开(公告)号：CN111988008A

公开(公告)日：2020-11-24

申请号：CN202010434951.5

申请日：2020-05-21

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： O·噶尔斯特延 ,  成晓星 ,  全炳建 ,  安宗焕

IPC: H03H9/17 ,  H03H3/02 ,  H01J37/32

Abstract: 公开了一种基板处理设备。基板处理设备可包括：腔室，在腔室中限定有处理空间；支撑单元，用于将基板支撑在处理空间中；加热器电源，其用于向支撑单元中的加热器施加电力；以及高频电源，用于将高频电力施加到支撑单元中的下部电极；以及滤波器单元，其安装在用于将加热器电源与加热器连接的线路处以防止高频流入。滤波器单元可包括：壳体；壳体中的一个或多个线圈；以及设置在壳体与线圈之间的调节构件。调节构件可以由非磁性材料制成。调节构件可以以预定间隔与线圈间隔开，并且与壳体的内壁间隔开或者与壳体的内壁接触。