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公开(公告)号：CN108807122A
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201810383774.5
申请日：2018-04-26
Applicant: 细美事有限公司
CPC classification number: H01J37/32174 , H01J37/321 , H03H7/40 , H01J37/32798 , H01J37/32431 , H01L21/67011
Abstract: 所公开的发明为供电装置和包括该供电装置的基板处理装置。所述供电装置包括高频电源，其提供高频功率；等离子体源，其包括通过使用所述高频功率产生等离子体的第一天线和第二天线；以及功率分配器，其连接在所述高频电源和所述等离子体源之间，用于分配供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率。所述功率分配器包括第一可变器件，其控制供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率；以及第二可变器件，其对供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率的非线性进行补偿。
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公开(公告)号：CN108695132B
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：CN201810257607.6
申请日：2018-03-27
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 公开了等离子体生成单元和包括其的基板处理装置。基板处理装置包括：处理室，该处理室在其内部具有处理空间；基板支撑单元，其构造为支撑处理空间中的基板；气体供给单元，其构造为将处理气体供给到处理空间；以及等离子体生成单元，其布置在处理室的外部并且构造为使处理室中的处理气体生成等离子体，其中等离子体生成单元包括：天线单元，其包括构造为使处理气体生成等离子体的多个天线线圈；以及磁结构，其包括布置在多个天线线圈之间的磁壁，其中天线单元包括具有环形形状的第一天线线圈，以及布置在第一天线线圈外侧且具有环形形状的第二天线线圈。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109545641B
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN201811105255.9
申请日：2018-09-21
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 公开了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：工艺腔室，工艺腔室在其内部具有处理空间；支承单元，支承单元配置为在处理空间中支承基板；气体供应单元，气体供应单元配置将处理气体供应至处理空间；以及等离子体生成单元，等离子体生成单元配置为由处理空间中的气体生成等离子体。其中，等离子体生成单元包括：高频电源；高频天线，将电流从高频电源施加至高频天线；和附加天线，附加天线设置为与高频天线间隔开，并将耦合电流从高频天线施加至附加天线。
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公开(公告)号：CN107342452A
公开(公告)日：2017-11-10
申请号：CN201710301673.4
申请日：2017-05-02
Applicant: 细美事有限公司
CPC classification number: H01J37/3211 , H01J37/3244 , H01J2237/334 , H01L21/67069 , H01J37/32431 , H01J37/32798 , H01Q1/36
Abstract: 提供了一种天线和利用该天线的基板处理方法。该天线可以沿着具有预定曲率的虚拟基线延伸，并且包括该基线与交点之间的距离根据该基线上的位置而变化的部分，该交点为该天线与垂直于该基线的竖直线之间的交点。
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公开(公告)号：CN108807122B
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN201810383774.5
申请日：2018-04-26
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 所公开的发明为供电装置和包括该供电装置的基板处理装置。所述供电装置包括高频电源，其提供高频功率；等离子体源，其包括通过使用所述高频功率产生等离子体的第一天线和第二天线；以及功率分配器，其连接在所述高频电源和所述等离子体源之间，用于分配供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率。所述功率分配器包括第一可变器件，其控制供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率；以及第二可变器件，其对供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率的非线性进行补偿。
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公开(公告)号：CN109545641A
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201811105255.9
申请日：2018-09-21
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 公开了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：工艺腔室，工艺腔室在其内部具有处理空间；支承单元，支承单元配置为在处理空间中支承基板；气体供应单元，气体供应单元配置将处理气体供应至处理空间；以及等离子体生成单元，等离子体生成单元配置为由处理空间中的气体生成等离子体。其中，等离子体生成单元包括：高频电源；高频天线，将电流从高频电源施加至高频天线；和附加天线，附加天线设置为与高频天线间隔开，并将耦合电流从高频天线施加至附加天线。
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公开(公告)号：CN108695132A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201810257607.6
申请日：2018-03-27
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32651 , H01F27/28 , H01J37/3211 , H01J37/3244 , H01J37/32642 , H01J2237/334 , H01L21/67069 , H01J37/32669
Abstract: 公开了等离子体生成单元和包括其的基板处理装置。基板处理装置包括：处理室，该处理室在其内部具有处理空间；基板支撑单元，其构造为支撑处理空间中的基板；气体供给单元，其构造为将处理气体供给到处理空间；以及等离子体生成单元，其布置在处理室的外部并且构造为使处理室中的处理气体生成等离子体，其中等离子体生成单元包括：天线单元，其包括构造为使处理气体生成等离子体的多个天线线圈；以及磁结构，其包括布置在多个天线线圈之间的磁壁，其中天线单元包括具有环形形状的第一天线线圈，以及布置在第一天线线圈外侧且具有环形形状的第二天线线圈。
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