公开(公告)号：CN114530395A

公开(公告)日：2022-05-24

申请号：CN202111391470.1

申请日：2021-11-23

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 严基象 ,  崔晋镐 ,  崔炳斗 ,  李承汉 ,  丁宣旭 ,  金是殷

IPC: H01L21/67

Abstract: 一种基板处理装置，该装置包括：处理容器，其具有内部空间；具有支撑板的支撑单元，其配置为在内部空间中支撑和旋转基板；液体供应单元，其配置为向由支撑单元支撑的基板供应处理液；以及排气单元，其配置为排出内部空间中的气流，其中处理容器包括底壁和从底壁的外端延伸的侧壁，处理容器包括设置在侧壁处的第一气液分离器。

公开(公告)号：CN114530394A

公开(公告)日：2022-05-24

申请号：CN202111360694.6

申请日：2021-11-17

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 严基象 ,  崔晋镐 ,  丁宣旭 ,  崔炳斗 ,  安熙满 ,  金是殷

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明涉及一种用于处理基板的设备，该设备包括：处理容器，该处理容器具有内部空间；支承单元，该支承单元在内部空间中支承和旋转基板；以及排放单元，该排放单元释放内部空间中的气流。排放单元包括气流引导管道，气流在相对于支承于支承单元上的基板的旋转方向的切向方向上被引入到该气流引导管道中。