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公开(公告)号：CN115598938A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202210806773.3
申请日：2022-07-08
Applicant: 细美事有限公司(KR)
IPC: G03F7/30 , H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明涉及用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。用于处理基板的装置包括：第一工艺腔室，在该第一工艺腔室中具有第一处理空间；第二工艺腔室，在该第二工艺腔室中具有第二处理空间；以及排放单元，该排放单元被配置为将该第一处理空间和该第二处理空间的气氛排放，其中，该排放单元包括：集成式排放管线，减压单元安装在该集成式排放管线中；第一排放管线，该第一排放管线被配置为连接该第一工艺腔室和该集成式排放管线的第一点；第二排放管线，该第二排放管线被配置为连接该第一工艺腔室和该集成式排放管线的第二点；以及干扰减轻单元，该干扰减轻单元被配置为减轻该第一工艺腔室与该第二工艺腔室之间的排放干扰。
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公开(公告)号：CN115602578A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202210806372.8
申请日：2022-07-08
Applicant: 细美事有限公司(KR)
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供了一种用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。具体地，用于处理基板的装置可以包括：液体处理腔室，该液体处理腔室配置为液体处理基板；和控制器，该控制器配置为控制液体处理腔室，其中，液体处理腔室包括：处理容器，在处理容器中具有处理空间；支承单元，该支承单元配置为在处理空间中支承并旋转基板；液体供应单元，该液体供应单元配置为将液体供应至基板上；以及升降单元，该升降单元配置为调整处理容器与支承单元之间的相对高度，并且控制器控制升降单元，以便在通过在旋转基板的情况下将液体供应至基板上进行基板处理时，根据支承在支承单元上的基板的翘曲状态调整处理容器与支承单元之间的相对高度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114682420A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202111659759.7
申请日：2021-12-30
Applicant: 细美事有限公司
IPC: B05B15/555 , B05B13/02 , B05B1/26 , B05B9/03 , H01L21/67
Abstract: 提供一种用于处理衬底的装置。在示例性实施例中，用于处理衬底的装置包括配置成具有上部敞开的处理空间的杯状体、配置成在处理空间中支撑衬底的支撑单元、配置成具有用于向由支撑单元支撑的衬底供应处理液的处理液供应喷嘴的液体供应单元、和位于处理空间的外部且具有供喷嘴在对处理空间中的衬底进行处理前后待机的待机空间且具有用于清洗位于待机空间中的喷嘴的清洗件的喷嘴待机埠，其中喷嘴待机埠包括设置成使得喷嘴的喷嘴尖端可插入的插入孔、和配置成向插入到插入孔中的喷嘴尖端喷洒清洗液的喷洒件，其中清洗液的撞击点与喷嘴尖端的中心间隔开预定距离。
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公开(公告)号：CN114334714A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202111150835.1
申请日：2021-09-29
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明构思提供了一种基板处理装置。所述基板处理装置包括：处理容器，所述处理容器包括外杯和放置在所述外杯内侧的内杯，所述内杯和所述外杯组合限定用于回收液体的回收路径；放置在所述处理容器内的可旋转旋转头，在所述旋转头上放置清洗夹具；其中所述处理容器包括从所述外杯的内表面突出的第一突出部，以将从所述清洗夹具散落的清洗液引向所述内杯的表面。
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公开(公告)号：CN114682420B
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202111659759.7
申请日：2021-12-30
Applicant: 细美事有限公司
IPC: B05B15/555 , B05B13/02 , B05B1/26 , B05B9/03 , H01L21/67
Abstract: 提供一种用于处理衬底的装置。在示例性实施例中，用于处理衬底的装置包括配置成具有上部敞开的处理空间的杯状体、配置成在处理空间中支撑衬底的支撑单元、配置成具有用于向由支撑单元支撑的衬底供应处理液的处理液供应喷嘴的液体供应单元、和位于处理空间的外部且具有供喷嘴在对处理空间中的衬底进行处理前后待机的待机空间且具有用于清洗位于待机空间中的喷嘴的清洗件的喷嘴待机埠，其中喷嘴待机埠包括设置成使得喷嘴的喷嘴尖端可插入的插入孔、和配置成向插入到插入孔中的喷嘴尖端喷洒清洗液的喷洒件，其中清洗液的撞击点与喷嘴尖端的中心间隔开预定距离。
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公开(公告)号：CN114171430A
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202111055459.8
申请日：2021-09-09
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , B08B3/02 , B08B13/00
Abstract: 本发明实施方式涉及一种基板处理设备，并且可以包括一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：可旋转的旋转头；杯子，其围绕所述旋转头；清洁夹具，其位于所述旋转头上，并通过所述旋转头的旋转朝向所述杯子排放清洁液；以及喷嘴单元，其位于所述清洁夹具的上部部分处，并将所述清洁液供应到所述清洁夹具的上表面的中心，并且所述清洁夹具包括飞溅导向槽，所述飞溅导向槽被形成为凹陷的，以使得从所述喷嘴单元提供的所述清洁液利用由于所述旋转头的旋转引起的离心力朝向所述杯子飞溅。
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