公开(公告)号：CN116364589A

公开(公告)日：2023-06-30

申请号：CN202211679601.0

申请日：2022-12-26

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 朴恩雨 ,  姜钟和 ,  李隅滥 ,  李晟圭 ,  朴崠云 ,  赵容大 ,  姜东勋 ,  严基象

IPC: H01L21/67 ,  F17D1/04 ,  F17D3/01

Abstract: 本发明提供一种用于基板处理的装置。基板处理装置包括：处理基板的处理单元；以及气体供应单元，所述气体供应单元将气体供应至所述处理单元，其中所述气体供应单元包括第一壳体、第二壳体以及气体供应管道，所述第一壳体具有与所述处理单元的处理空间流体连通的第一内部空间，所述第二壳体设置在所述第一内部空间中并具有与所述第一内部空间流体连通的第二内部空间，所述气体供应管道将气体供应至所述第二内部空间。

公开(公告)号：CN116564849A

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：CN202211688829.6

申请日：2022-12-27

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 赵柱衍 ,  李营浚 ,  金光洙 ,  严基象 ,  李偶滥 ,  姜钟和 ,  郑渶宪 ,  李政炫 ,  朴岽云 ,  丁宣旭

IPC: H01L21/67 ,  G03F7/16

Abstract: 本公开涉及一种衬底处理设备，该衬底处理设备包括：烘烤室、打开和关闭烘烤室的开口的室门、烘烤室中的第一支撑板、将设置在第一支撑板上的空间分隔成在第一水平方向上彼此间隔开的第一热处理空间并且在第二水平方向和竖直方向上延伸的第一分隔壁、被布置在第一热处理空间中的第一热处理模块、在第一水平方向上跨越第一热处理空间延伸的第一排气导管、联接到第一排气导管的第一密封支架、被配置成密封第一密封支架与室门之间的间隙的第一水平封装部、以及被配置成密封第一分隔壁与室门之间的间隙的第一竖直封装部。

公开(公告)号：CN115472529A

公开(公告)日：2022-12-13

申请号：CN202210664924.6

申请日：2022-06-13

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 严基象 ,  李愉滥 ,  姜钟和 ,  朴崠云

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供了一种用于处理基板的装置。用于处理基板的该装置包括：腔室，其具有内部空间；支承单元，其被配置为将基板支承在内部空间中；气体供应管，其被配置为将气体供应到支承在支承单元上的基板上；气体排放管，其被配置为将气体从内部空间排放；和气体块，其连接到气体供应管和气体排放管并且设置在腔室的上方。