用于处理基板的装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114530395A

    公开(公告)日:2022-05-24

    申请号:CN202111391470.1

    申请日:2021-11-23

    Abstract: 一种基板处理装置,该装置包括:处理容器,其具有内部空间;具有支撑板的支撑单元,其配置为在内部空间中支撑和旋转基板;液体供应单元,其配置为向由支撑单元支撑的基板供应处理液;以及排气单元,其配置为排出内部空间中的气流,其中处理容器包括底壁和从底壁的外端延伸的侧壁,处理容器包括设置在侧壁处的第一气液分离器。

    用于处理基板的设备
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117153716A

    公开(公告)日:2023-12-01

    申请号:CN202210575679.1

    申请日:2022-05-24

    Abstract: 本发明构思提供了一种基板处理设备。所述基板处理设备包括:处理容器,所述处理容器具有内部空间;支撑单元,所述支撑单元被配置为在所述内部空间内支撑并旋转基板;排气管道,所述排气管道被配置为使所述内部空间排气;以及至少一个引导构件,所述至少一个引导构件与所述处理容器组合并且被配置为引导所述内部空间内的气流,并且其中所述至少一个引导构件被布置为使得当从上方观察时,所述内部空间内的所述气流相对于由所述支撑单元支撑的所述基板的旋转方向倾斜地流动。

    用于处理基板的设备和用于处理基板的方法

    公开(公告)号:CN115776743A

    公开(公告)日:2023-03-10

    申请号:CN202211097956.9

    申请日:2022-09-08

    Abstract: 本发明构思提供了一种基板处理设备。在实施方式中,所述基板处理设备包括:处理室,在所述处理室中具有用于处理基板的处理空间;基板支撑单元,所述基板支撑单元被配置为在所述处理空间中支撑所述基板;以及微波施加单元,所述微波施加单元被配置为向所述处理空间施加微波,并且其中所述微波施加单元包括基于固态器件的微波功率发生器。

    衬底处理设备
    4.
    发明公开
    衬底处理设备 审中-实审

    公开(公告)号:CN116564849A

    公开(公告)日:2023-08-08

    申请号:CN202211688829.6

    申请日:2022-12-27

    Abstract: 本公开涉及一种衬底处理设备,该衬底处理设备包括:烘烤室、打开和关闭烘烤室的开口的室门、烘烤室中的第一支撑板、将设置在第一支撑板上的空间分隔成在第一水平方向上彼此间隔开的第一热处理空间并且在第二水平方向和竖直方向上延伸的第一分隔壁、被布置在第一热处理空间中的第一热处理模块、在第一水平方向上跨越第一热处理空间延伸的第一排气导管、联接到第一排气导管的第一密封支架、被配置成密封第一密封支架与室门之间的间隙的第一水平封装部、以及被配置成密封第一分隔壁与室门之间的间隙的第一竖直封装部。

    天线构件和用于处理基板的设备
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115995672A

    公开(公告)日:2023-04-21

    申请号:CN202211290808.9

    申请日:2022-10-20

    Abstract: 本发明构思提供一种天线构件。在一个实施例中,所述天线构件包括彼此旋转对称的第一线圈和第二线圈,并且其中所述第一线圈包括施加以电流的第一电源端子和连接到地的第一接地端子,所述第二线圈包括施加以电流的第二电源端子和连接到地的第二接地端子,并且其中所述第一线圈和所述第二线圈各自包括具有弧形的第一部分和具有弧形的第二部分,所述第一部分和所述第二部分作为整体形成一圈绕组,并且当从侧面观察时,所述第二部分相对于所述第一部分具有较低的高度,并且所述第二线圈的所述第二部分定位在所述第一线圈的所述第一部分下方,并且所述第一线圈的所述第二部分定位在所述第二线圈的所述第一部分下方。

    用于处理基板的设备
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114527625A

    公开(公告)日:2022-05-24

    申请号:CN202111396154.3

    申请日:2021-11-23

    Abstract: 一种用于处理基板的设备包括:处理容器,其具有内部空间;支撑单元,其具有支撑板,所述支撑板配置成在所述内部空间中支撑和旋转所述基板;液体供应单元,其配置成将处理液体供应至由所述支撑单元支撑的所述基板;以及排气单元,其配置成排放所述内部空间中的空气流,其中所述排气单元包括空气流引导管,所述空气流引导管引导由于由所述支撑单元支撑的所述基板的旋转而在所述基板上流向所述基板的外侧的空气流的流动方向,并且所述空气流引导管具有入口,空气流被引入所述入口中,所述入口设置在与由所述支撑单元支撑的所述基板基本相同的水平处。

    用于处理基板的设备
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118016556A

    公开(公告)日:2024-05-10

    申请号:CN202311304213.9

    申请日:2023-10-10

    Abstract: 本公开提供了用于处理基板的设备,该设备包括:第一碗状件和其中的处理空间;第一支承部,设置在处理空间中,并且被配置成将基板支承在第一支承位置;第二碗状件,设置成在处理空间中在第一方向上移动;第二支承部,被配置成相对于第一支承部上下移动以及将基板支承在设置于第一支承位置上方的第二支承位置与第三支承位置之间,并且被配置成在第一方向上移动;以及清洁单元,包括:第一清洁部,朝向位于第一支承位置的基板的后表面设置在基板下方;以及第二清洁部,设置在基板下方,并且与位于第二支承位置和第三支承位置之间的基板的后表面相对。

    印刷装置及印刷方法
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111347792B

    公开(公告)日:2021-11-02

    申请号:CN201911265526.1

    申请日:2019-12-11

    Abstract: 本发明涉及印刷装置及印刷方法。所述印刷装置可以包括向基板上供应药液的喷墨头、第一电压提供部件及第二电压提供部件。所述第一电压提供部件能够向所述药液施加带有第一极性的第一电压直至所述药液从所述喷墨头排出之前,所述药液能够被充电为带有第一极性。所述第二电压提供部件能够向所述药液施加带有第二极性的第二电压直至所述药液到达所述基板为止,能够控制所述喷墨头与所述基板之间的所述药液的排出路径。根据本发明能够从所述喷墨头的喷嘴向所述基板的所需部分上准确地供应所述药液。

    印刷装置及印刷方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111347792A

    公开(公告)日:2020-06-30

    申请号:CN201911265526.1

    申请日:2019-12-11

    Abstract: 本发明涉及印刷装置及印刷方法。所述印刷装置可以包括向基板上供应药液的喷墨头、第一电压提供部件及第二电压提供部件。所述第一电压提供部件能够向所述药液施加带有第一极性的第一电压直至所述药液从所述喷墨头排出之前,所述药液能够被充电为带有第一极性。所述第二电压提供部件能够向所述药液施加带有第二极性的第二电压直至所述药液到达所述基板为止,能够控制所述喷墨头与所述基板之间的所述药液的排出路径。根据本发明能够从所述喷墨头的喷嘴向所述基板的所需部分上准确地供应所述药液。

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