存储元件和存储装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111630656B

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN201880086971.9

    申请日:2018-12-06

    Abstract: 根据本公开的实施例的存储元件设置有:第一电极;布置成与第一电极对置的第二电极;和存储层,设置在第一电极和第二电极之间,并且包括选自碲(Te)、硒(Se)和硫(S)中的至少一种硫族元素、过渡金属以及氧。存储层具有非线性的电阻特性以及整流特性,以使得当施加电压大于或等于预定阈值电压时获得低电阻状态,并且当施加电压是小于预定阈值电压的电压时获得高电阻状态。

    存储器件及存储设备
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103514948B

    公开(公告)日:2018-09-21

    申请号:CN201310231154.7

    申请日:2013-06-09

    Abstract: 本发明期望提供能够减小多个器件之间的电导值偏差的一种存储器件及包括所述存储器件的存储设备,所述存储器件包括:第一电极;存储层,包括离子源层;以及第二电极。所述第一电极、所述存储层及所述第二电极依次设置。所述离子源层包含可移动元素,并具有约150mΩ·cm~约12000mΩ·cm(包括端值)的体积电阻率。

    选择器件和存储装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110546755A

    公开(公告)日:2019-12-06

    申请号:CN201880027401.2

    申请日:2018-04-06

    Abstract: 提供了根据本公开的一个实施例的选择器件,该选择器件具有:第一电极;与第一电极对置的第二电极;半导体层,设置在第一电极和第二电极之间,并且包括从碲(Te)、硒(Se)和硫(S)中选择的至少一种硫族元素,以及包括从硼(B)、铝(Al)、镓(Ga)、磷(P)、砷(As)、碳(C)、锗(Ge)和硅(Si)中选择的至少一种第一元素;以及第一热旁路层,其具有比半导体层高的热导率,并且设置在第一电极和第二电极之间、在半导体层的外围的至少一部分中。

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