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公开(公告)号：CN1499456A
公开(公告)日：2004-05-26
申请号：CN200310102382.0
申请日：2003-10-27
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G02F1/136213 , G02F1/136209 , G02F1/136227
Abstract: 在电光装置中，具备：在基板上在第1方向上延伸的数据线，在与上述数据线进行交叉的第2方向上延伸的扫描线，被配置为与上述数据线和上述扫描线的交叉区域对应的像素电极和薄膜晶体管，电连到上述薄膜晶体管和上述像素电极上的存储电容器。此外，构成上述存储电容器的电介质膜，由含有不同的材料的多个层构成，同时，其中的一层含有由介电系数比别的层高的材料构成的层。
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公开(公告)号：CN100442126C
公开(公告)日：2008-12-10
申请号：CN200610105431.X
申请日：2006-07-06
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1337 , G02F1/133 , G03B21/00
CPC classification number: G02F1/133734 , C23C14/044 , C23C14/545 , G02F2001/1316
Abstract: 本发明提供一种制造装置，用于制造由夹持在一对对置基板之间的液晶而构成的液晶装置的取向膜，具备：成膜室；蒸镀部，用于在所述成膜室内通过物理蒸镀法将取向膜材料蒸镀到所述基板，形成取向膜；遮蔽板，形成在所述蒸镀部与所述基板之间，具有用于选择性地蒸镀取向膜材料的狭缝状开口部分，覆盖所述基板的没有形成取向膜的区域；和清洁部，将用于除去附着在所述遮蔽板的所述取向膜材料的清洁媒介，朝向所述遮蔽板的所述蒸镀部侧的所述开口部分附近供给。
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公开(公告)号：CN100374920C
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200510002711.3
申请日：2005-01-19
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/133 , G02F1/136 , H01L29/786
CPC classification number: H01L29/78633 , G02F1/136209 , H01L23/552 , H01L27/14623 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 把在基板上形成的遮光膜，设置为交替地配置不含氮的薄膜与含有氮的薄膜的多层薄膜结构。由于在遮光膜中形成含有氮的薄膜，所以因退火处理之际的热应变而发生的应力被含有氮的薄膜所吸收，因此可以防止对以遮光膜为起点的绝缘膜或半导体层的裂纹的发生。
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公开(公告)号：CN1499274A
公开(公告)日：2004-05-26
申请号：CN200310103086.2
申请日：2003-10-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/136 , H01L29/786
CPC classification number: G02F1/1362 , G02F2001/136218
Abstract: 一种电光装置，该电光装置包括在基板上沿第1方向延伸的数据线；沿与上述数据线交叉的第2方向延伸的扫描线；与上述数据线和上述扫描线的交叉区域对应那样配置的像素电极和薄膜晶体管；与上述薄膜晶体管和上述像素电极电连接的存储电容；以及在上述数据线和上述像素电极之间配置的屏蔽层。并且，在上述屏蔽层中包含氮化膜，该膜沿上述数据线并且比上述数据线更宽地形成。
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公开(公告)号：CN100447621C
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：CN200510103081.9
申请日：2005-09-19
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 清水雄一
IPC: G02F1/1333
CPC classification number: C23C14/226 , C23C14/0676 , C23C14/22 , Y10T428/1009
Abstract: 制造可以进行高品质的图像显示且使之长寿命化的电光装置，并且让成品率得到提高。电光装置的制造方法用来制造具备一对基板的电光装置，该一对基板用来夹持电光物质；其具备：在处理室内，在一对基板的至少一个基板中与电光物质相对的基板面上，通过将对基板面由无机材料的飞溅方向所成的角度固定成预定值，并实施PVD法，来形成由无机材料构成的取向膜的工序；在开始PVD法之后，将用来修复取向膜中的缺陷的至少1种修复气体，导入到处理室内的工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1763612A
公开(公告)日：2006-04-26
申请号：CN200510114326.8
申请日：2005-10-20
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 清水雄一
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133734
Abstract: 制造能够进行高质量的图像显示且能够实现长寿命化的电光装置，并且提高成品率。电光装置的制造方法，包括：第1工序，该工序在夹持电光物质的一对基板的至少一方的基板面上形成电极；第2工序，该工序将由无机材料构成的取向膜的基底膜，通过将无机材料的飞行方向相对于基板面所成的角度以使相对于该飞行方向电极的阴影不是总在1处产生的方式设定为1个或多个值进行第1PVD法而形成在电极的上层侧；以及第3工序，该工序将由无机材料构成的上述取向膜，通过将上述角度固定为与在第1PVD法设定的值不同的指定值或以与第1PVD法不同的成膜条件进行第2PVD法而形成在上述基底膜的上层侧。
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公开(公告)号：CN1242372C
公开(公告)日：2006-02-15
申请号：CN200310102382.0
申请日：2003-10-27
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G02F1/136213 , G02F1/136209 , G02F1/136227
Abstract: 在电光装置中，具备：在基板上在第1方向上延伸的数据线，在与上述数据线进行交叉的第2方向上延伸的扫描线，被配置为与上述数据线和上述扫描线的交叉区域对应的像素电极和薄膜晶体管，电连到上述薄膜晶体管和上述像素电极上的存储电容器。此外，构成上述存储电容器的电介质膜，由含有不同的材料的多个层构成，同时，其中的一层含有由介电系数比别的层高的材料构成的层。
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公开(公告)号：CN105223738A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201510385854.0
申请日：2015-06-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1339
Abstract: 本发明提供能够使防湿性提高的电光装置和电子设备。具有元件基板(10)；和以与元件基板(10)介由密封件(14)而相对的方式配置的相对基板(20)，配置为从元件基板(10)以及相对基板(20)的侧面(10b、20b)到密封件(14)的长度(L)相对于元件基板(10)与相对基板(20)的间隔的长度(H)之比为50以上且300以下，以覆盖密封件(14)以及元件基板(10)和相对基板(20)的至少一部分侧面(10b、20b)的方式设置有阻挡膜(41)。
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公开(公告)号：CN101050519A
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN200710095825.6
申请日：2007-04-05
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: C23C14/24
Abstract: 在蒸发镀膜装置中，降低在真空室内的壁面上附着的附着物的剥离并且提高蒸发镀膜膜的指向性。蒸发镀膜装置(10)具备：使从标靶(110)蒸发的蒸发物质(110)在基板(210)上进行蒸发镀膜的电子束系统(120)；规定用于设置标靶(110)和基板(210)的空间(101)并能够将空间(101)维持为真空的室(100)。进一步地，具备：在室(100)的侧壁面(100a)的一部分上设置的、向着与侧壁面(100a)的法线方向相比朝向标靶(110)的方向各自突出的多个屋檐部(150)。
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公开(公告)号：CN1896847A
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200610105431.X
申请日：2006-07-06
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1337 , G02F1/133 , G03B21/00
CPC classification number: G02F1/133734 , C23C14/044 , C23C14/545 , G02F2001/1316
Abstract: 本发明提供一种制造装置，用于制造由夹持在一对对置基板之间的液晶而构成的液晶装置的取向膜，具备：成膜室；蒸镀部，用于在所述成膜室内通过物理蒸镀法将取向膜材料蒸镀到所述基板，形成取向膜；遮蔽板，形成在所述蒸镀部与所述基板之间，具有用于选择性地蒸镀取向膜材料的狭缝状开口部分，覆盖所述基板的没有形成取向膜的区域；和清洁部，将用于除去附着在所述遮蔽板的所述取向膜材料的清洁媒介，朝向所述遮蔽板的所述蒸镀部侧的所述开口部分附近供给。
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