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发明公开
蒸发镀膜装置、方法、电光装置的制造方法及成膜装置无效

公开(公告)号：CN101050519A

公开(公告)日：2007-10-10

申请号：CN200710095825.6

申请日：2007-04-05

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 中西淳二 , 清水雄一

IPC: C23C14/24

Abstract: 在蒸发镀膜装置中，降低在真空室内的壁面上附着的附着物的剥离并且提高蒸发镀膜膜的指向性。蒸发镀膜装置(10)具备：使从标靶(110)蒸发的蒸发物质(110)在基板(210)上进行蒸发镀膜的电子束系统(120)；规定用于设置标靶(110)和基板(210)的空间(101)并能够将空间(101)维持为真空的室(100)。进一步地，具备：在室(100)的侧壁面(100a)的一部分上设置的、向着与侧壁面(100a)的法线方向相比朝向标靶(110)的方向各自突出的多个屋檐部(150)。

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